[發明專利]一種基于Mueller矩陣成像的檢測系統

在審

• 申請號: 202010916040.6
• 申請日: 2020-09-03
• 公開（公告）號: CN111948149A
• 公開（公告）日: 2020-11-17
• 發明（設計）人: 田博文;張明磊;閆鵬宇;云宇
• 申請（專利權）人: 中國久遠高新技術裝備有限公司
• 主分類號: G01N21/21
• 分類號: G01N21/21
• 代理公司: 四川省成都市天策商標專利事務所 51213
• 代理人: 趙以鵬

1.一種基于Mueller矩陣成像的檢測系統，其特征在于，包括：

光源(1)，所述光源(1)用于產生LED光；

準直透鏡(2)組，所述準直透鏡(2)組用于對LED光進行準直；

起偏裝置，起偏裝置用于將經過準直后的LED光調制成偏振光照射到待測組織切片(7)上；

檢偏裝置，所述檢偏裝置用于分析經過待測組織切片(7)散射后的偏振光；

圖像采集裝置(11)，所述圖像采集裝置(11)用于采集經過檢偏裝置的不同偏振狀態下的光強圖像，并將采集到的光強圖像上傳到計算機(12)中。

2.根據權利要求1所述的一種基于Mueller矩陣成像的檢測系統，其特征在于，

所述起偏裝置包括沿經過準直后的LED光的光照方向順次設置的第一線偏振片(4)和第一電控旋轉平臺(5)，所述第一電控旋轉平臺(5)上設有第一1/4波片(6)。

3.根據權利要求2所述的一種基于Mueller矩陣成像的檢測系統，其特征在于，

所述檢偏裝置包括沿經過待測組織切片(7)散射后的偏振光的光照方向順次設置的第二電控旋轉平臺(9)和第二線偏振片(10)，所述第二電控旋轉平臺(9)上設有第二1/4波片(8)。

4.根據權利要求3所述的一種基于Mueller矩陣成像的檢測系統，其特征在于，

還包括PLC控制模塊(13)，所述PLC控制模塊(13)分別與計算機(12)、第一電控旋轉平臺(5)以及第二電控旋轉平臺(9)通訊連接。

5.根據權利要求3所述的一種基于Mueller矩陣成像的檢測系統，其特征在于，

所述第一1/4波片(6)的快軸和第二1/4波片(8)的快軸均為水平方向，所述第一線偏振片(4)的透光軸和第二線偏振片(10)的透光軸均為水平方向。

6.根據權利要求1所述的一種基于Mueller矩陣成像的檢測系統，其特征在于，照射到待測組織切片(7)上的偏振光與經過待測組織切片(7)散射后的偏振光的的折轉角為15°-22°。

7.根據權利要求1所述的一種基于Mueller矩陣成像的檢測系統，其特征在于，

所述LED光的中心波長為630nm。

8.根據權利要求1所述的一種基于Mueller矩陣成像的檢測系統，其特征在于，

所述準直透鏡(2)組包括：沿LED光的光照方向順次設置的準直透鏡(2)和光闌(3)。

9.根據權利要求1所述的一種基于Mueller矩陣成像的檢測系統，其特征在于，

所述圖像采集裝置(11)為成像探測器。