[發(fā)明專利]一種Ni-WS2 在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010915107.4 | 申請(qǐng)日: | 2020-09-03 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112011817A | 公開(公告)日: | 2020-12-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 趙杰;王磊;劉乙達(dá);何鑫;顧艷紅;姚冉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京石油化工學(xué)院 |
| 主分類號(hào): | C25D15/00 | 分類號(hào): | C25D15/00;C25D3/56 |
| 代理公司: | 北京凱特來(lái)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11260 | 代理人: | 鄭立明;李闖 |
| 地址: | 102600 北*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 ni ws base sub | ||
1.一種Ni-WS2鍍層的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟1、對(duì)X100管線鋼進(jìn)行打磨、拋光、清洗和干燥,從而得到X100基體;
步驟2、將去離子水、硫酸鎳、氯化鎳、硼酸混合,然后將混合溶液的pH值調(diào)整為3.3~3.7,再加入十六烷基三甲基溴化銨、糖精、二硫化鎢納米顆粒、光亮劑和濕潤(rùn)劑,從而得到電鍍液;
步驟3、采用直流穩(wěn)壓電源供電,以純鎳片作為陽(yáng)極,以所述X100基體作為陰極,在所述電鍍液中進(jìn)行電鍍沉積,電流密度大小為4A/dm2,電流為0.09A,電鍍沉積時(shí)間為30~40分鐘,從而在X100管線鋼表面制得Ni-WS2鍍層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的Ni-WS2鍍層的制備方法,其特征在于,所述電鍍液中硫酸鎳的濃度為250g/L,氯化鎳的濃度為45g/L,硼酸的濃度為40g/L,十六烷基三甲基溴化銨的濃度為0.1g/L,糖精的濃度為1.5g/L,二硫化鎢納米顆粒的濃度為10g/L。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的Ni-WS2鍍層的制備方法,其特征在于,所述的對(duì)X100管線鋼進(jìn)行打磨、拋光、清洗和干燥包括:
將X100管線鋼依次在800#、1000#、1200#、1500#的碳化硅砂紙上進(jìn)行打磨,然后采用拋光液進(jìn)行拋光,再依次采用去離子水和丙酮進(jìn)行清洗,去除表面油脂混合物,之后將無(wú)水乙醇溶液滴在X100管線鋼上,去除表面水分,再將X100管線鋼風(fēng)干,從而得到X100基體。
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