[發(fā)明專利]定影裝置及圖像形成裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010910948.6 | 申請日: | 2020-09-02 |
| 公開(公告)號: | CN112782954A | 公開(公告)日: | 2021-05-11 |
| 發(fā)明(設計)人: | 菊地和彥 | 申請(專利權)人: | 東芝泰格有限公司 |
| 主分類號: | G03G15/20 | 分類號: | G03G15/20 |
| 代理公司: | 北京康信知識產(chǎn)權代理有限責任公司 11240 | 代理人: | 田喜慶 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 定影 裝置 圖像 形成 | ||
本申請?zhí)峁┒ㄓ把b置及圖像形成裝置,在具有在加熱器和定影膜之間進行熱交換的導熱部件的加熱定影裝置中能夠效率良好地控制定影膜的溫度。實施方式的定影裝置具有定影部件和導熱部件。定影部件利用通過加熱器被加熱的自身的熱,將被壓接在自身的記錄介質(zhì)加熱,由此使在所述記錄介質(zhì)上涂覆的記錄材料定影在所述記錄介質(zhì)上。導熱部件被配置成與所述加熱器接觸,能夠控制為其一部分與所述定影部件接觸的第一狀態(tài)和不與所述定影部件接觸的第二狀態(tài)中任一種狀態(tài)。
技術領域
本發(fā)明的實施方式涉及定影裝置及圖像形成裝置。
背景技術
以往研發(fā)出這樣的圖像形成裝置,通過使用了膜狀的定影帶(下面稱為“定影膜”)的所謂按需加熱定影裝置(下面稱為“定影裝置”),使記錄材料定影在記錄介質(zhì)上。在這樣的定影裝置中,有時在加熱器基材的與定影膜的接觸面的相反側(cè)配置導熱性較高的部件(下面稱為“導熱部件”)。在這種情況下,導熱部件被配置成使其一部分與定影膜接觸。根據(jù)這種結(jié)構,根據(jù)通過導熱部件檢測的記錄介質(zhì)的溫度變化進行加熱器的溫度控制,由此能夠提高圖像形成處理的生產(chǎn)性。并且,根據(jù)這種結(jié)構,加熱器的熱分散給導熱部件,由此能夠抑制加熱器基材的過度升溫。另外,根據(jù)這種結(jié)構,能夠?qū)⒂杉訜崞鞣稚⒌脚c定影膜的接觸面的相反側(cè)的熱量用于定影膜的加熱。
但是,在這種定影裝置中,往往是熱容量較大的部件被用作導熱部件,使導熱部件的溫度上升需要花費時間。并且,在截止到導熱部件的溫度上升到規(guī)定的溫度的期間,定影膜的熱量被導熱部件奪去,阻礙了定影膜的加熱。因此,在以往的定影裝置中,由導熱部件的溫度較低的狀態(tài)進入可以執(zhí)行圖像形成處理的狀態(tài),有可能要花費許多時間。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的課題是,提供一種定影裝置及圖像形成裝置,在具有在加熱器和定影膜之間進行熱交換的導熱部件的加熱定影裝置中能夠效率良好地控制定影膜的溫度。
實施方式的定影裝置具有定影部件和導熱部件。定影部件利用通過加熱器被加熱的自身的熱量,將被壓接在自身上的記錄介質(zhì)加熱,由此使在所述記錄介質(zhì)上涂覆的記錄材料定影在所述記錄介質(zhì)上。導熱部件被配置成與所述加熱器接觸,可以控制為其一部分與所述定影部件接觸的第一狀態(tài)、和不與所述定影部件接觸的第二狀態(tài)中任一種狀態(tài)。
實施方式的圖像形成裝置,通過使記錄材料定影在記錄介質(zhì)上能夠執(zhí)行在所述記錄介質(zhì)上形成圖像的圖像形成處理,能夠采取等待針對本裝置的所述圖像形成處理的執(zhí)行請求的待機狀態(tài),其特征在于,所述圖像形成裝置具有:上述的定影裝置;以及控制部,將所述定影裝置具有的所述導熱部件控制為所述第一狀態(tài)或者所述第二狀態(tài),在接收到所述執(zhí)行請求時的本裝置的狀態(tài)不是所述待機狀態(tài)的情況下或者所述導熱部件的溫度為規(guī)定閾值以上的情況下,所述控制部使所述導熱部件進入所述第二狀態(tài),在接收到所述執(zhí)行請求時的本裝置的狀態(tài)是所述待機狀態(tài)的情況下,所述控制部使所述導熱部件進入所述第一狀態(tài)。
附圖說明
圖1是表示第一實施方式的圖像形成裝置的結(jié)構的概況的圖。
圖2是表示第一實施方式的圖像形成裝置的硬件結(jié)構的具體例的圖。
圖3是第一實施方式的加熱裝置的正面剖視圖。
圖4是第一實施方式的加熱器單元的正面剖視圖。
圖5是第一實施方式的加熱器單元的仰視圖。
圖6是第一實施方式的導熱部件、加熱器單元、筒狀帶的正面剖視圖。
圖7是第一實施方式的加熱器溫度計及恒溫器的俯視圖。
圖8是第一實施方式的加熱裝置的電氣電路圖。
圖9是表示第一實施方式的定影裝置的具體的結(jié)構例的圖。
圖10是表示第一實施方式的狀態(tài)控制處理的流程的流程圖。
圖11是表示第二實施方式的狀態(tài)控制處理的流程的流程圖。
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