[發明專利]評估多通道微和/或亞波長光學投影單元的質量的方法和測試系統

在審

• 申請號: 202010909823.1
• 申請日: 2020-09-02
• 公開（公告）號: CN112525490A
• 公開（公告）日: 2021-03-19
• 發明（設計）人: 伊莎貝爾·阿格林;卡特琳·辛德勒;威爾弗里德·諾埃爾;索菲安妮·圖爾諾伊斯;蘇珊娜·韋斯特恩赫費爾
• 申請（專利權）人: 蘇斯微技術光刻有限公司
• 主分類號: G01M11/02
• 分類號: G01M11/02;G06K9/62;G06N3/04;G06N3/08;G06T7/00
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 譚營營;胡彬

1.一種用于評估多通道微和/或亞波長光學投影單元(28)的質量的方法，包括以下步驟：

-對微和/或亞波長光學投影單元(28)的至少預定義部分進行照明，以便通過所述多通道微和/或亞波長光學投影單元(28)的預定義部分的至少兩個通道來生成圖像；

-捕獲由投影單元(28)的預定義部分生成的圖像；

-分析所述圖像；

-基于對所述圖像的分析，確定至少一個特征量，其中，所述特征量的值與所述投影單元(28)的至少一個特性特征、所述投影單元(28)的至少一個缺陷和/或所述投影單元(28)的缺陷類別相關聯；和

-基于所述至少一個特征量來評估所述投影單元(28)的質量。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述至少一個特征量包括清晰度、暗度、均勻性、亮度波動和局部缺陷中的至少一個。

3.根據前述權利要求中任一項所述的方法，其特征在于，微光學投影單元(28)基于所述至少一個特征量而被分類為至少兩個質量類別之一。

4.根據前述權利要求中任一項所述的方法，其特征在于，所述投影單元(28)包括多個微和/或亞波長光學元件(30)，特別是微透鏡和/或亞波長透鏡，特別地，其中光學元件(30)具有所述投影單元(28)的尺寸、曲率、掩模和/或位置，所述尺寸、曲率和/或位置是所述投影單元(28)的至少一個特性特征中的至少一個。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述光學元件(30)構成一個陣列，所述陣列在兩個相鄰光學元件(30)之間的距離是所述投影單元(28)的至少一個特性特征中的至少一個。

6.根據前述權利要求中任一項所述的方法，其特征在于，在所述投影單元(28)的制造期間，特別是在生產線結束時，對所述投影單元(28)的質量進行評估。

7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，基于對所述投影單元(28)的質量評估來調整制造參數，特別是所述特性特征中的至少一個。

8.根據前述權利要求中任一項所述的方法，其特征在于，通過統計方法和/或通過機器學習模塊來分析所述投影單元(28)的圖像，特別地，其中所述機器學習模塊包括預訓練的人工神經網絡。

9.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，所述機器學習模塊已經用標記的訓練數據進行了預訓練，其中所述標記的訓練數據包括由樣本光學投影單元的預定義部分生成的樣本圖像，并且其中，所述標記的訓練數據包括與相應的樣本圖像和/或相應的樣本投影單元的質量類別對應的至少一個特征量。

10.根據權利要求9所述的方法，其特征在于，通過將所述統計方法應用于所述樣本圖像來獲得與所述相應的樣本圖像對應的至少一個特征量。

11.一種用于評估多通道微和/或亞波長光學投影單元(28)的質量的測試系統，包括照明單元(12)、圖像捕獲設備(18)、圖像分析模塊(24)和控制模塊(22)，其中所述控制模塊(22)被配置為使所述測試系統(10)執行根據前述權利要求中任一項所述的方法。

12.根據權利要求11所述的測試系統，其特征在于，所述測試系統(10)包括被測試設備(14)，特別地，其中所述被測設備(14)是多通道微和/或亞波長光學投影單元(28)。

13.一種計算機程序，包括指令，當程序被根據權利要求11或12所述的測試系統(10)的控制模塊(22)的處理單元執行時，所述指令使所述測試系統(10)執行根據權利要求1至10中任一項所述的方法的步驟。