[發(fā)明專利]一種石墨烯/銀十六角星陣列拉曼增強基底及其制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010908968.X
• 申請日: 2020-09-02
• 公開（公告）號: CN111982883B
• 公開（公告）日: 2023-04-14
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 趙元;李喜玉;初斌華;曹坤健;焦蒙蒙
• 申請（專利權(quán)）人: 魯東大學(xué)
• 主分類號: G01N21/65
• 分類號: G01N21/65;B82Y15/00;B82Y40/00
• 代理公司: 煙臺雙聯(lián)專利事務(wù)所(普通合伙) 37225
• 代理人: 姜宏藝

1.一種石墨烯/銀十六角星陣列拉曼增強基底的制備方法，其特征在于，包含以下步驟：

（1）銀十六角星陣列的制備：用KLayout軟件繪制十六角星陣列圖案，這里在十六角星尖端設(shè)置數(shù)個間斷點列來補償電子散射引起的針尖畸變；以硅為襯底，PMMA為光刻膠，按照繪制的十六角星陣列圖案，通過電子束曝光對光刻膠進行微納光刻，然后進行顯影、定影，得到十六角星形孔洞陣列光刻膠；對十六角星形孔洞陣列光刻膠進行金屬鉻和銀薄膜沉積并剝離，得到銀十六角星陣列；

（2）石墨烯/銀十六角星陣列的制備：將石墨烯轉(zhuǎn)移至步驟（1）獲得的銀十六角星陣列表面，在管式爐中退火，使石墨烯緊密貼合在銀十六角星陣列表面，得到石墨烯/銀十六角星陣列。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種石墨烯/銀十六角星陣列拉曼增強基底的制備方法，其特征在于，所述鉻厚度為5~10nm，銀厚度為30~100nm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種石墨烯/銀十六角星陣列拉曼增強基底的制備方法，其特征在于，所述十六角星的尺寸和尖細程度以及相鄰十六角星之間的間距可以通過調(diào)節(jié)繪制的十六角星尺寸與針尖形狀進行調(diào)控。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種石墨烯/銀十六角星陣列拉曼增強基底的制備方法，其特征在于，所述退火溫度為100~200°C，退火時間為20~60min。