[發明專利]一種復雜構造含逆掩斷裂的地震反演儲層預測方法

在審

• 申請號: 202010907578.0
• 申請日: 2020-09-02
• 公開（公告）號: CN111965707A
• 公開（公告）日: 2020-11-20
• 發明（設計）人: 方光建;王錦喜;郭曉中;余川;曾春林;焦偉偉;余忠檣
• 申請（專利權）人: 重慶地質礦產研究院
• 主分類號: G01V1/50
• 分類號: G01V1/50
• 代理公司: 重慶市信立達專利代理事務所(普通合伙) 50230
• 代理人: 陳炳萍

1.一種復雜構造含逆掩斷裂的地震反演儲層預測方法，其特征在于，所述復雜構造含逆掩斷裂的地震反演儲層預測方法包括以下步驟：

步驟一，通過地層探測模塊利用地層探測程序進行地層探測，得到不同探測點不同深度對應的地層信息；通過巖性探測模塊利用巖性探測程序進行巖性探測，得到不同地層對應的巖性；

所述通過地層探測模塊利用地層探測程序進行地層探測，得到不同探測點不同深度對應的地層信息，具體包括：

步驟A，在探測器上設置由多個發射線圈和接收線圈組成的線圈系，所述多個發射線圈發射不同頻率的探測信號；

步驟B，調節所述多個發射線圈與所述接收線圈的距離，使預設深度的地層對所述每個頻率的探測信號的響應信號具有相同的預設響應參數值，得到所述預設深度對應的線圈系的優化位置參數；

步驟C，根據要探測的目標深度和對應的所述優化位置參數設置所述線圈系，并向所述目標深度的地層發射所述不同頻率的探測信號；

步驟D，測量所述目標深度的地層對所述探測信號的響應信號，得到目標深度的地層信息；

步驟E，進行目標深度的變換，得到不同深度的地層信息；

步驟二，通過地質構造圖繪制模塊利用地質構造圖繪制程序進行地質構造剖面圖的繪制，展示地層、巖性信息；通過地質模型構建模塊利用地質模型構建程序依照繪制的地質構造剖面圖進行地質模型的構建，得到三維地質模型；

步驟三，通過歷史信息獲取模塊利用歷史信息獲取模塊倉數據庫中獲取預測區域歷史地震的時間、震源、震級；

步驟四，通過地震子波采集模塊利用地震子波采集程序采集地震子波；通過地震信息合成模塊利用地震信息合成模塊依據地震波傳播的褶積數學物理模型，用測井曲線制作校正合成地震信息；

步驟五，通過地震反演模塊利用地震反演程序在建立的地質模型中進行地震反演；

步驟六，通過分析模塊利用分析程序進行地震反演結果的分析，得到不同地質對地震的影響；通過地震預測模塊利用地震預測程序預測地震概率、時間以及地震強度。

2.如權利要求1所述的復雜構造含逆掩斷裂的地震反演儲層預測方法，其特征在于，步驟B中，所述調節所述多個發射線圈與所述接收線圈的距離，使預設深度的地層對所述每個頻率的探測信號的響應信號具有相同的預設響應參數值，包括：

獲取不同頻率的探測信號的偽幾何因子曲線；確定所述預設深度和所述預設響應參數值對應的目標點；調節所述多個發射線圈與所述接收線圈的距離，使得所述不同頻率的探測信號的偽幾何因子曲線都經過所述目標點；將所述發射線圈與所述接收線圈的距離記為相應頻率下所述預設深度對應的線圈系的優化位置參數。

3.如權利要求1所述的復雜構造含逆掩斷裂的地震反演儲層預測方法，其特征在于，步驟二中，所述通過地質構造圖繪制模塊利用地質構造圖繪制程序進行地質構造剖面圖的繪制，具體為：

基于探測的地層和巖性信息建立協同克立格方程組矩陣；根據所述協同克立格方程組矩陣建立二維地質剖面圖；

所述根據所述協同克立格方程組矩陣建立二維地質剖面圖，包括以下步驟：

1)基于采集的地質、巖性數據建立地質屬性數據庫；

2)定義地質對象之間的時空關系；

3)根據所述地質屬性數據庫和所述時空關系采用協同克立格方程組矩陣構建第一勢場；

4)根據二維地質剖面圖的位置和所述第一勢場構建第一地質邊界線；

5)根據所述第一地質邊界線的地質屬性確定二維地質剖面圖。

4.如權利要求1所述的復雜構造含逆掩斷裂的地震反演儲層預測方法，其特征在于，步驟二中，所述通過地質模型構建模塊利用地質模型構建程序依照繪制的地質構造剖面圖進行地質模型的構建，得到三維地質模型，具體包括以下步驟：

(1)采用網格索引與包圍盒碰撞檢測算法優化歐式距離；

(2)根據優化后的所述歐式距離，采用協同克立格方程組矩陣構建第二勢場；

(3)根據所述第二勢場和三維地質模型剖面的位置構建第二地質邊界線；

(4)根據所述第二地質邊界線的地質屬性確定三維地質模型剖面圖。