[發(fā)明專利]一種多葉光柵側(cè)面穿射半影計(jì)算方法及裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010906688.5 | 申請(qǐng)日: | 2020-09-01 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112035778B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-10-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鞠垚;關(guān)睿雪;姚毅 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 蘇州雷泰醫(yī)療科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G06F17/10 | 分類號(hào): | G06F17/10 |
| 代理公司: | 蘇州華博知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32232 | 代理人: | 黃麗莉 |
| 地址: | 215000 江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)金雞湖*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 光柵 側(cè)面 半影 計(jì)算方法 裝置 | ||
1.一種多葉光柵側(cè)面穿射半影計(jì)算方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟1:設(shè)計(jì)測(cè)試射野并導(dǎo)入射野的測(cè)量劑量;
步驟2:設(shè)置光柵初始參數(shù);
步驟3:計(jì)算側(cè)面半影;
步驟4:利用Monte Carlo劑量計(jì)算方法計(jì)算得到射野的計(jì)算劑量;
步驟5:計(jì)算Gamma通過(guò)率,Gamma通過(guò)率是衡量計(jì)算劑量與測(cè)量劑量之間差異的指標(biāo);
步驟6:判斷步驟5得到的Gamma通過(guò)率是否滿足要求;
若是,則停止;
若否,執(zhí)行步驟7;
步驟7:調(diào)整側(cè)面半影參數(shù)完成后,重復(fù)步驟4-步驟6。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多葉光柵側(cè)面穿射半影計(jì)算方法,其特征在于,所述步驟2中,所述光柵初始參數(shù)包括:光柵每對(duì)葉片的寬度,葉片的透射系數(shù),半價(jià)層或線性衰減系數(shù)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多葉光柵側(cè)面穿射半影計(jì)算方法,其特征在于,所述步驟3的計(jì)算原理為:
首先,根據(jù)葉片頂面和葉片底面聚焦于射線源以及光柵設(shè)計(jì)安裝高度,計(jì)算出每一對(duì)葉片的錐度角;
其次,使用真實(shí)射線源到光柵中心的高度作為實(shí)際的安裝高度,射線穿過(guò)光柵后的透射線強(qiáng)度與原射線強(qiáng)度的比值即為半影因子。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的多葉光柵側(cè)面穿射半影計(jì)算方法,其特征在于,所述步驟3中,對(duì)于X射線,射線穿過(guò)物質(zhì)時(shí)遵循指數(shù)衰減規(guī)律,即:
I=I0·e-μd; (1)
其中,I為透射線強(qiáng)度;
I0為原射線強(qiáng)度;
μ為線性衰減系數(shù);
d為穿過(guò)物質(zhì)的距離;
由公式(1)可知,如果計(jì)算出當(dāng)前安裝高度下射線穿過(guò)每一對(duì)葉片的厚度d,那么半影因子即為:
penF=e-μd。 (2)
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的多葉光柵側(cè)面穿射半影計(jì)算方法,其特征在于,所述步驟3具體為:
在光柵原設(shè)計(jì)高度H1下,光柵側(cè)面聚焦于射線源,葉片的設(shè)計(jì)錐度角滿足:
tanα=H1/X0; (3)
現(xiàn)實(shí)際的錐度角滿足:
tanα=H2/X0;
(4)
其中,H1為光柵原設(shè)計(jì)高度;
H2為光柵真實(shí)的安裝高度;
X0為葉片物理坐標(biāo);
Xiso為等中心層的葉片坐標(biāo);
SAD為源軸距;
將射線穿過(guò)葉片上端面頂點(diǎn)投影在等中心的點(diǎn)與穿過(guò)下端面頂點(diǎn)投影在等中心的點(diǎn)之間的距離定義為:等中心層的半影陡變區(qū);
由于半影陡變區(qū)實(shí)際距離較小,將穿過(guò)該區(qū)域的射線看作平行射線,則:
其中,Height為光柵高度;
X_length為半影陡變區(qū)寬度;
dmax為射線經(jīng)過(guò)光柵上面頂點(diǎn)時(shí),穿過(guò)光柵的距離;
α為其中一光柵葉片的設(shè)計(jì)錐度角;
β為其中一光柵葉片的實(shí)際錐度角;
假設(shè)射線穿過(guò)光柵的長(zhǎng)度與投影在等中心距光野的距離成正比,則正比系數(shù)slope滿足:
slope=dmax/X_length; (9)
距離光野任意一點(diǎn)的半影因子可表示為:
penF=exp(-μ·slope·x); (10)
其中,μ為線性衰減系數(shù);
x為任意一點(diǎn)距光野的距離;
光野坐標(biāo)可表示為:
XLightField≈Xiso-0.5·X_length; (11)
通過(guò)上述公式能夠得到每對(duì)光柵葉片的光野坐標(biāo)、等中心坐標(biāo)和半影因子。
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