[發(fā)明專利]離心霧化旋轉(zhuǎn)盤和離心霧化裝置及離心霧化方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010905067.5
• 申請日: 2020-09-01
• 公開（公告）號: CN112024901A
• 公開（公告）日: 2020-12-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 徐樸;王思遠(yuǎn);劉傳福;劉碩;石建豪
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市福英達(dá)工業(yè)技術(shù)有限公司
• 主分類號: B22F9/10
• 分類號: B22F9/10
• 代理公司: 深圳市睿智專利事務(wù)所 44209
• 代理人: 陳鴻蔭;周慧玲

1.一種離心霧化旋轉(zhuǎn)盤,用于高溫液態(tài)金屬的離心霧化，其特征在于包括，

采用鈦合金、高溫鋼、高溫不銹鋼中的任意一種或多種材料制成的托架，用于和外部動力輸出裝置連接獲得離心旋轉(zhuǎn)動力；

采用石墨、氧化鋯陶瓷、氧化鋁陶瓷、鎢鉬合金、鎢鈮合金、碳化鎢合金或球墨鑄鐵中的任意一種或多種材料制成的盤芯；

盤芯固定在托架上，待離心霧化的高溫液態(tài)金屬從盤芯上方落入盤芯；

高溫液態(tài)金屬的溫度范圍是500⁰C～2000⁰C。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述離心霧化旋轉(zhuǎn)盤，其特征在于，

所述盤芯包括盤芯主體和盤芯頂部；

盤芯主體外壁為圓柱狀，盤芯頂部設(shè)置在盤芯主體的上部；

待離心霧化的高溫液態(tài)金屬從盤芯上方落在盤芯頂部；

所述盤芯主體的外徑尺寸范圍是20mm～200mm。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述離心霧化旋轉(zhuǎn)盤，其特征在于，

所述盤芯頂部為平面，盤芯呈平板狀；

或所述盤芯頂部為向下凹陷的弧面，使盤芯頂部形成碗狀或蝶狀的容置空間。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述離心霧化旋轉(zhuǎn)盤，其特征在于，

所述盤芯頂部為從盤芯主體頂面向下沉的倒置中空圓椎狀，使盤芯頂部形成錐斗狀的容置空間；錐斗狀的容置空間的椎斗頂角角度為120⁰。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述離心霧化旋轉(zhuǎn)盤，其特征在于，

所述盤芯頂部為從盤芯主體頂面向下沉的中空圓柱狀，使盤芯頂部形成杯狀的容置空間；

所述盤芯主體的外壁上設(shè)置有通孔，通孔直徑范圍是0.01mm～0.5mm。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述離心霧化旋轉(zhuǎn)盤，其特征在于，

所述盤芯頂部為從盤芯主體頂面向下沉的中空圓柱狀，使盤芯頂部形成杯狀的容置空間；

所述盤芯主體的外壁上邊緣的頂部設(shè)置有槽口；槽口的深度為1mm～5mm，寬度為0.5mm～2mm；多個(gè)槽口均勻分布，形成城墻狀的盤芯外壁上邊緣。

7.一種離心霧化裝置，其特征在于，

包括了權(quán)利要求1至7任意一項(xiàng)所述的離心霧化旋轉(zhuǎn)盤。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述離心霧化裝置，其特征在于，

還包括金屬熔爐和金屬管道；金屬管道的一端和金屬熔爐連接，金屬管道的另一端設(shè)置在離心霧化旋轉(zhuǎn)盤的上方；高溫金屬液體從金屬管道落向離心霧化旋轉(zhuǎn)盤。

9.一種離心霧化方法，用于腐蝕性高溫液態(tài)金屬的離心霧化，其特征在于，采用了權(quán)利要求7或8所述的離心霧化裝置進(jìn)行離心霧化。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述離心霧化方法，其特征在于，

盤芯的邊緣線速度范圍是80m/s～150m/s。