[發明專利]鍍膜腔體及粉末鍍膜裝置

在審

• 申請號: 202010904525.3
• 申請日: 2020-09-01
• 公開（公告）號: CN112030136A
• 公開（公告）日: 2020-12-04
• 發明（設計）人: 李翔;鄒嘉宸;王榮;黎微明
• 申請（專利權）人: 江蘇微導納米科技股份有限公司
• 主分類號: C23C16/442
• 分類號: C23C16/442;C23C16/455
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 周昭

1.一種鍍膜腔體，包括內腔體，其特征在于，所述內腔體的軸向的兩端分別形成有進氣端口及出氣端口，待鍍膜的粉末可收容于所述內腔體靠近所述進氣端口的一端，且在由所述進氣端口到所述出氣端口的方向上，所述內腔體的過流斷面的面積呈增大的趨勢。

2.根據權利要求1所述的鍍膜腔體，其特征在于，所述內腔體包括第一直管段、第二直管段及錐管段，所述第一直管段的內徑小于所述第二直管段的內徑，且所述第一直管段及所述第二直管段分別與所述錐管段的小端及大端連通，所述進氣端口及所述出氣端口分別設于所述第一直管段及所述第二直管段，所述待鍍膜的粉末可收容于所述第一直管段。

3.根據權利要求2所述的鍍膜腔體，其特征在于，所述內腔體的高度為50毫米至800毫米，所述第一直管段的直徑為20毫米至100毫米，且所述第一直管段的高度為10毫米至150毫米，所述錐管段的高度為30毫米至400毫米，且所述錐管段的二分之一錐角為15度至45度。

4.根據權利要求1所述的鍍膜腔體，其特征在于，還包括外腔體，所述內腔體收容于所述外腔體內，且所述出氣端口與所述外腔體連通，所述外腔體遠離所述出氣端口的一端形成有排氣端口。

5.根據權利要求1所述的鍍膜腔體，其特征在于，還包括可驅使所述內腔體振動的振動機構。

6.根據權利要求4所述的鍍膜腔體，其特征在于，還包括可驅使所述內腔體相對于所述外腔體振動的振動機構，所述振動機構包括：

振動源；

連桿，穿設于所述外腔體且兩端分別與所述內腔體的外壁及所述振動源固定連接；及

波紋管，套設于所述連接桿，所述波紋管的兩端分別與所述內腔體的外壁及所述外腔體的內壁密封連接。

7.一種粉末鍍膜裝置，其特征在于，包括：

如上述權利要求1至6任一項所述的鍍膜腔體；

氣路系統，與所述進氣端口連通，并用于向所述內腔體內充入氣體；

加熱系統，用于對所述鍍膜腔體及所述氣路系統加熱；及

抽氣機構，與所述鍍膜腔體連通，并經所述出氣端口對所述內腔體進行抽氣。

8.根據權利要求7所述的粉末鍍膜裝置，其特征在于，還包括設于所述抽氣機構與所述鍍膜腔體之間的廢氣處理機構。

9.根據權利要求7所述的粉末鍍膜裝置，其特征在于，所述抽氣機構對所述內腔體進行抽氣的抽氣速率可調。

10.根據權利要求9所述的粉末鍍膜裝置，其特征在于，所述抽氣機構包括真空泵及設于所述真空泵與所述鍍膜腔體之間的蝶閥。

11.根據權利要求9所述的粉末鍍膜裝置，其特征在于，所述抽氣機構包括真空泵、與所述真空泵并聯且可開啟或關閉的排氣旁路，所述排氣旁路的排氣速率小于所述真空泵的抽氣速率。