[發(fā)明專利]繞射識(shí)別成像方法、裝置、電子設(shè)備及介質(zhì)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010903403.2 | 申請(qǐng)日: | 2020-09-01 |
| 公開(公告)號(hào): | CN114114420A | 公開(公告)日: | 2022-03-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 謝飛;朱成宏;徐蔚亞;魏哲楓;高鴻 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國石油化工股份有限公司;中國石油化工股份有限公司石油勘探開發(fā)研究院 |
| 主分類號(hào): | G01V1/36 | 分類號(hào): | G01V1/36 |
| 代理公司: | 北京思創(chuàng)畢升專利事務(wù)所 11218 | 代理人: | 孫向民;廉莉莉 |
| 地址: | 100027 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 識(shí)別 成像 方法 裝置 電子設(shè)備 介質(zhì) | ||
1.一種繞射識(shí)別成像方法,其特征在于,包括:
根據(jù)震源信號(hào)和共炮點(diǎn)數(shù)據(jù),獲得共成像點(diǎn)傾角道集;
針對(duì)所述共成像點(diǎn)傾角道集進(jìn)行疊加,獲得偏移成像疊加剖面,記錄間斷散射點(diǎn)與反射點(diǎn)的坐標(biāo)位置;
確定繞射能量向量標(biāo)簽與反射能量向量標(biāo)簽,建立標(biāo)簽樣本庫;
將所述共成像點(diǎn)傾角道集中的每一個(gè)成像點(diǎn)識(shí)別振幅向量,根據(jù)所述標(biāo)簽樣本庫通過KNN算法,確定每一個(gè)成像點(diǎn)的標(biāo)簽;
將標(biāo)簽為繞射標(biāo)簽的成像點(diǎn)的傾角道集進(jìn)行疊加,獲得繞射波成像結(jié)果。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的繞射識(shí)別成像方法,其中,記錄間斷散射點(diǎn)與反射點(diǎn)的坐標(biāo)位置包括:
在所述偏移成像疊加剖面中識(shí)別多個(gè)間斷散射點(diǎn)與反射點(diǎn),記錄坐標(biāo)位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的繞射識(shí)別成像方法,其中,所述間斷散射點(diǎn)與所述反射點(diǎn)的數(shù)量相同。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的繞射識(shí)別成像方法,其中,確定繞射能量向量標(biāo)簽與反射能量向量標(biāo)簽包括:
根據(jù)間斷散射點(diǎn)與反射點(diǎn)的坐標(biāo)位置,識(shí)別每一個(gè)間斷散射點(diǎn)或反射點(diǎn)的振幅向量,
其中,將間斷散射點(diǎn)的振幅向量定義為繞射能量向量標(biāo)簽,將反射點(diǎn)的振幅向量定義為反射能量向量標(biāo)簽。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的繞射識(shí)別成像方法,其中,根據(jù)所述標(biāo)簽樣本庫通過KNN算法,確定每一個(gè)成像點(diǎn)的標(biāo)簽包括:
分別計(jì)算每一個(gè)振幅向量與所述標(biāo)簽樣本庫中所有標(biāo)簽的歐氏距離,將距離最近的標(biāo)簽賦值給該振幅向量對(duì)應(yīng)的成像點(diǎn)。
6.一種繞射識(shí)別成像裝置,其特征在于,包括:
道集建立模塊,根據(jù)震源信號(hào)和共炮點(diǎn)數(shù)據(jù),獲得共成像點(diǎn)傾角道集;
記錄模塊,針對(duì)所述共成像點(diǎn)傾角道集進(jìn)行疊加,獲得偏移成像疊加剖面,記錄間斷散射點(diǎn)與反射點(diǎn)的坐標(biāo)位置;
樣本庫建立模塊,確定繞射能量向量標(biāo)簽與反射能量向量標(biāo)簽,建立標(biāo)簽樣本庫;
計(jì)算模塊,將所述共成像點(diǎn)傾角道集中的每一個(gè)成像點(diǎn)識(shí)別振幅向量,根據(jù)所述標(biāo)簽樣本庫通過KNN算法,確定每一個(gè)成像點(diǎn)的標(biāo)簽;
疊加模塊,將標(biāo)簽為繞射標(biāo)簽的成像點(diǎn)的傾角道集進(jìn)行疊加,獲得繞射波成像結(jié)果。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的繞射識(shí)別成像裝置,其中,確定繞射能量向量標(biāo)簽與反射能量向量標(biāo)簽包括:
根據(jù)間斷散射點(diǎn)與反射點(diǎn)的坐標(biāo)位置,識(shí)別每一個(gè)間斷散射點(diǎn)或反射點(diǎn)的振幅向量,
其中,將間斷散射點(diǎn)的振幅向量定義為繞射能量向量標(biāo)簽,將反射點(diǎn)的振幅向量定義為反射能量向量標(biāo)簽。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的繞射識(shí)別成像裝置,其中,根據(jù)所述標(biāo)簽樣本庫通過KNN算法,確定每一個(gè)成像點(diǎn)的標(biāo)簽包括:
分別計(jì)算每一個(gè)振幅向量與所述標(biāo)簽樣本庫中所有標(biāo)簽的歐氏距離,將距離最近的標(biāo)簽賦值給該振幅向量對(duì)應(yīng)的成像點(diǎn)。
9.一種電子設(shè)備,其特征在于,所述電子設(shè)備包括:
存儲(chǔ)器,存儲(chǔ)有可執(zhí)行指令;
處理器,所述處理器運(yùn)行所述存儲(chǔ)器中的所述可執(zhí)行指令,以實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的繞射識(shí)別成像方法。
10.一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì),其特征在于,該計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序,該計(jì)算機(jī)程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的繞射識(shí)別成像方法。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國石油化工股份有限公司;中國石油化工股份有限公司石油勘探開發(fā)研究院,未經(jīng)中國石油化工股份有限公司;中國石油化工股份有限公司石油勘探開發(fā)研究院許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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