[發(fā)明專利]一種液體折射率測量裝置及系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010903066.7 | 申請日： | 2020-09-01 |
| 公開（公告）號： | CN112014351A | 公開（公告）日： | 2020-12-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 不公告發(fā)明人 | 申請（專利權(quán)）人： | 劉翡瓊 |
| 主分類號： | G01N21/41 | 分類號： | G01N21/41 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 710119 陜西省西安市*** | 國省代碼： | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 液體 折射率 測量 裝置 系統(tǒng) | ||
1.一種液體折射率測量裝置，其特征在于，包括多個周期排列的測量單元；所述測量單元包括襯底和設(shè)置于所述襯底上的介質(zhì)塊和金屬塊，所述襯底為長方體結(jié)構(gòu)，所述介質(zhì)塊為L型結(jié)構(gòu)，所述金屬塊為長方體結(jié)構(gòu)；所述介質(zhì)塊包括四個外側(cè)面和兩個內(nèi)側(cè)面，各所述外側(cè)面與各所述外側(cè)面對應(yīng)的所述襯底的側(cè)面持平，所述兩個內(nèi)側(cè)面互相垂直；所述金屬塊設(shè)置于所述兩個內(nèi)側(cè)面的交界處；各所述測量單元通過各所述測量單元中的襯底固定連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量裝置，其特征在于，所述介質(zhì)塊的厚度大于所述金屬塊的厚度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量裝置，其特征在于，所述金屬塊的材料為金、銀或銅。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量裝置，其特征在于，所述介質(zhì)塊的材料為二氧化硅或三氧化二鋁。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量裝置，其特征在于，所述襯底的材料為玻璃。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量裝置，其特征在于，所述襯底的上表面為正方形。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的測量裝置，其特征在于，所述正方形的邊長為800nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的測量裝置，其特征在于，所述金屬塊的長為400nm，寬為300nm。
9.一種液體折射率測量系統(tǒng)，其特征在于，包括光譜測量裝置和與所述光譜測量裝置連接的權(quán)利要求1至9任一項權(quán)利要求所述的測量裝置；所述光譜測量裝置用于測量所述權(quán)利要求1至9任一項權(quán)利要求所述的測量裝置的透射光譜。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的測量系統(tǒng)，其特征在于，所述光譜測量裝置發(fā)出的光為圓偏振光。
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- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段，即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā)，因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng)，測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
