[發明專利]一種用于高純鋁的無接觸式高頻加熱提純裝置在審
| 申請號: | 202010900591.3 | 申請日: | 2020-09-01 |
| 公開(公告)號: | CN111876614A | 公開(公告)日: | 2020-11-03 |
| 發明(設計)人: | 石瀟;石晶晶;丁瀟 | 申請(專利權)人: | 南通泰德電子材料科技有限公司 |
| 主分類號: | C22B21/06 | 分類號: | C22B21/06 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 226000 江蘇省南通市如皋*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 高純 接觸 高頻 加熱 提純 裝置 | ||
本申請公開一種用于高純鋁的無接觸式高頻加熱提純裝置,包括冷坩堝,所述冷坩堝的外部套置高頻加熱線圈,且高頻加熱線圈不與冷坩堝接觸,所述冷坩堝的底部設置升降裝置,所述冷坩堝通過升降裝置沿高頻加熱線圈切線方向進行上下運動。本申請結構緊湊合理,使用方便;通過設置高頻加熱線圈對冷坩堝內部進行加熱,提高加熱效率,同時通過升降裝置使得冷坩堝能夠進行上下運動,從而使得冷坩堝內部上下受熱均勻。
技術領域
本申請涉及高純鋁技術領域,具體是一種用于高純鋁的無接觸式高頻加熱提純裝置。
背景技術
高純氧化鋁的預熔燒結處理工藝中,提純裝置是非常重要的設備,直接關系到預熔燒結工藝的成敗和燒結產品的純度,但是目前的提純設備加工效率較低,加熱不均勻。
發明內容
本申請的目的在于針對現有技術的缺陷和不足,提供一種用于高純鋁的無接觸式高頻加熱提純裝置。
為實現上述目的,本申請采用的技術方案是:一種用于高純鋁的無接觸式高頻加熱提純裝置,包括冷坩堝,其創新點在于:所述冷坩堝的外部套置高頻加熱線圈,且高頻加熱線圈不與冷坩堝接觸,所述冷坩堝的底部設置升降裝置,所述冷坩堝通過升降裝置沿高頻加熱線圈切線方向進行上下運動。
進一步的,所述冷坩堝采用復合高純氧化鋁坩堝。
進一步的,所述升降裝置為升降氣缸、升降臺、絲桿升降機中的任意一個。
采用上述結構后,本申請有益效果為:
本申請結構緊湊合理,使用方便;通過設置高頻加熱線圈對冷坩堝內部進行加熱,提高加熱效率,同時通過升降裝置使得冷坩堝能夠進行上下運動,從而使得冷坩堝內部上下受熱均勻。
附圖說明
圖1為本申請的結構示意圖。
附圖標記說明:
1冷坩堝、2高頻加熱線圈、3升降裝置。
具體實施方式
下面結合附圖對本申請作進一步的說明。
為了使本申請的目的、技術方案及優點更加清楚明白,以下結合附圖及具體實施方式,對本申請進行進一步詳細說明。應當理解,此處所描述的具體實施方式僅用以解釋本申請,并不用于限定本申請。
參看圖1,一種用于高純鋁的無接觸式高頻加熱提純裝置,包括冷坩堝1,冷坩堝1的外部套置高頻加熱線圈2,且高頻加熱線圈2不與冷坩堝1接觸,冷坩堝1的底部設置升降裝置3,冷坩堝1通過升降裝置沿高頻加熱線圈2切線方向進行上下運動。具體的,通過設置高頻加熱線圈2對冷坩堝1內部進行加熱,同時通過升降裝置3使得冷坩堝1能夠進行上下運動,從而使得冷坩堝內部上下受熱均勻,提高加熱效率。
本實施例中,冷坩堝1采用復合高純氧化鋁坩堝,在使用過程中不易碎裂,確保正常使用壽命。
本實施例中,升降裝置3為升降氣缸、升降臺、絲桿升降機中的任意一個??梢愿鶕嶋H情況進行選擇,滿足不同的工作環境。
本申請的工作原理:
通過設置高頻加熱線圈2對冷坩堝1內部進行加熱,同時通過升降裝置3使得冷坩堝1能夠進行上下運動,從而使得冷坩堝內部上下受熱均勻,提高加熱效率。
以上所述,僅用以說明本申請的技術方案而非限制,本領域普通技術人員對本申請的技術方案所做的其它修改或者等同替換,只要不脫離本申請技術方案的精神和范圍,均應涵蓋在本申請的權利要求范圍當中。
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