[發明專利]一種顯示基板及其制作方法、顯示面板及顯示裝置

有效

• 申請號: 202010899618.1
• 申請日: 2020-08-31
• 公開（公告）號: CN111969132B
• 公開（公告）日: 2023-06-06
• 發明（設計）人: 趙佳;劉明;王晶
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: H10K50/84
• 分類號: H10K50/84;H10K50/844;H10K59/12
• 代理公司: 北京潤澤恒知識產權代理有限公司 11319
• 代理人: 李娜

1.一種顯示基板，其特征在于，包括：

背板，所述背板包括多個像素島區、多個開孔區以及連接相鄰的兩個所述像素島區的連接橋區；

設置在所述像素島區的所述背板上的平坦層；

覆蓋位于所述像素島區的所述背板的第一側壁和所述平坦層的第二側壁的水氧阻擋層，所述第一側壁和所述第二側壁均位于所述像素島區朝向所述開孔區的一側；

位于所述像素島區的所述背板包括多條信號走線；

所述水氧阻擋層還部分覆蓋所述平坦層遠離所述背板一側的表面，且所述水氧阻擋層在所述背板上的正投影覆蓋每條所述信號走線所在的區域，以對所述信號走線之間因電子躍遷產生的光線進行遮擋；

靠近所述開孔區的所述平坦層具有至少一個開口，所述開口貫穿所述平坦層；

所述水氧阻擋層還覆蓋所述開口內的所述背板以及所述開口所在區域的所述平坦層；

所述顯示基板還包括設置在所述平坦層上的陽極層；

所述陽極層通過貫穿所述平坦層的過孔結構與所述背板中的源漏電極層連接，所述陽極層在所述背板上的正投影與所述水氧阻擋層在所述背板上的正投影不存在重合區域。

2.根據權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述水氧阻擋層的材料包括摻鉭氧化鉬；所述水氧阻擋層的厚度為20nm～100nm。

3.一種顯示面板，其特征在于，包括如權利要求1至2中任一所述的顯示基板。

4.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權利要求3所述的顯示面板。

5.一種顯示基板的制作方法，其特征在于，包括：

提供一背板；所述背板包括多個像素島區、多個開孔區以及連接相鄰的兩個所述像素島區的連接橋區；

在所述像素島區的所述背板上形成平坦層；

形成水氧阻擋層；所述水氧阻擋層覆蓋位于所述像素島區的所述背板的第一側壁和所述平坦層的第二側壁，所述第一側壁和所述第二側壁均位于所述像素島區朝向所述開孔區的一側；

其中，位于所述像素島區的所述背板包括多條信號走線；所述水氧阻擋層還部分覆蓋所述平坦層遠離所述背板一側的表面，且所述水氧阻擋層在所述背板上的正投影覆蓋每條所述信號走線所在的區域，以對所述信號走線之間因電子躍遷產生的光線進行遮擋；靠近所述開孔區的所述平坦層具有至少一個開口，所述開口貫穿所述平坦層；所述水氧阻擋層還覆蓋所述開口內的所述背板以及所述開口所在區域的所述平坦層；所述顯示基板還包括設置在所述平坦層上的陽極層；所述陽極層通過貫穿所述平坦層的過孔結構與所述背板中的源漏電極層連接，所述陽極層在所述背板上的正投影與所述水氧阻擋層在所述背板上的正投影不存在重合區域。

6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，在所述形成水氧阻擋層的步驟之前，還包括：

在所述平坦層上形成陽極層；所述陽極層通過貫穿所述平坦層的過孔結構與所述背板中的源漏電極層連接；

所述形成水氧阻擋層的步驟，包括：

形成水氧阻擋層薄膜；所述水氧阻擋層薄膜覆蓋所述陽極層、所述平坦層遠離所述背板一側的表面，以及所述第一側壁和所述第二側壁；

對所述水氧阻擋層薄膜進行圖案化處理，以形成所述水氧阻擋層。

7.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述形成水氧阻擋層的步驟，包括：

形成水氧阻擋層薄膜；所述水氧阻擋層薄膜覆蓋所述平坦層遠離所述背板一側的表面，以及所述第一側壁和所述第二側壁；

對所述水氧阻擋層薄膜進行圖案化處理，以形成所述水氧阻擋層；

在所述形成水氧阻擋層的步驟之后，還包括：

在所述平坦層上形成陽極層；所述陽極層通過貫穿所述平坦層的過孔結構與所述背板中的源漏電極層連接。