[發明專利]一種涂層機

有效

• 申請號: 202010899392.5
• 申請日: 2020-08-31
• 公開（公告）號: CN112210767B
• 公開（公告）日: 2023-02-21
• 發明（設計）人: 王俊鋒;袁明;謝文榮;秦興耀;王鋒
• 申請（專利權）人: 廣東鼎泰機器人科技有限公司
• 主分類號: C23C16/27
• 分類號: C23C16/27;C23C16/46;C23C16/52
• 代理公司: 東莞市華南專利商標事務所有限公司 44215
• 代理人: 袁敏怡

本發明涉及涂層設備技術領域，尤其是指一種涂層機，其包括真空罩、液冷載臺組件、彈性密封件、真空罩底座冷盤以及熱源組件，真空罩底座冷盤密封安裝于真空罩的底壁，液冷載臺組件滑動設置于真空罩底壁，液冷載臺組件和真空罩底座冷盤均為中空結構，液冷載臺組件用于承載刀具并調整刀具與熱源組件之間的距離，彈性密封件的一端與液冷載臺組件密封安裝，彈性密封件的另一端與真空罩底座冷盤密封安裝。本發明能夠有效、快速地對液冷載臺組件和真空罩底壁實現降溫，使得液冷載臺組件和真空罩能夠長期處于高溫環境下工作，還能夠加強液冷載臺組件與真空罩安裝的密封性，實現沉積溫度均勻，有效避免刀柄出現黑化現象，提高良品率。

技術領域

本發明涉及涂層設備技術領域，尤其是指一種涂層機。

背景技術

熱絲CVD(Hot Filament CVD，簡稱HFCVD)方法具有成本低、設備簡單、工藝穩定、適用于復雜形狀及大面積沉積的優點，是最適用于金剛石薄膜涂層刀具產業化生產的方法，目前國內外HFCVD金剛石薄膜涂層復雜形狀鉆頭和銑刀正在產業化過程中；在采用HFCVD方法對鉆頭或銑刀的刀刃部分進行金剛石薄膜沉積時，沉積區域(刀刃區域，基體)的表面溫度數值、溫度場及反應基團密度場分布均勻性對薄膜質量及均勻性有著很大的影響。用于沉積HFCVD金剛石薄膜的適宜的基體溫度區間約為500-1000℃，最適宜區間約為700-900℃。

現有技術中的涂層設備結構設計不合理，至少存在以下問題：

1、通常真空罩底壁和上料裝置較為靠近發熱源，導致上料裝置和真空罩底壁的工作溫度過高，容易被高溫燒損，使用壽命短，生產成本高，達不到生產的標準；

2、真空罩與上料裝置裝配，密封性不足，上料裝置動作時真空罩會出現漏氣的情況，影響刀具表面的薄膜沉積效果，良品率低；

3、刀具與熱源之間的距離難以精確控制，導致刀具受熱溫度不夠精確，出現沉積溫度不均勻的問題，刀具刀刃不同位置的沉積溫度必然存在差異，受熱不均的刀具雜質沉積，導致刀柄出現黑化現象，良品率低。

發明內容

本發明要解決的技術問題是提供一種涂層機，能夠有效、快速地對液冷載臺組件和真空罩底壁實現降溫，使得液冷載臺組件和真空罩能夠長期處于高溫環境下工作，還能夠加強液冷載臺組件與真空罩安裝的密封性，實現沉積溫度均勻，有效避免刀柄出現黑化現象，提高良品率。

為了解決上述技術問題，本發明采用如下技術方案：

一種涂層機，其包括真空罩、液冷載臺組件、彈性密封件、真空罩底座冷盤以及熱源組件，真空罩底座冷盤密封安裝于真空罩的底壁，液冷載臺組件滑動設置于真空罩底壁，真空罩底座冷盤用于對真空罩降溫冷卻，液冷載臺組件和真空罩底座冷盤均為中空結構，冷卻液導入液冷載臺組件和真空罩底座冷盤內部以實現冷卻，彈性密封件套設于液冷載臺組件，液冷載臺組件用于承載刀具并調整刀具與熱源組件之間的距離，彈性密封件的一端與液冷載臺組件密封安裝，彈性密封件的另一端與真空罩底座冷盤密封安裝。

進一步地，所述熱源組件包括熱絲網架、發熱絲拉緊件、多個液冷電極棒以及均布于熱絲網架的多個發熱絲，多個液冷電極棒均設置于真空罩底壁，熱絲網架位于真空罩內部并承載于多個液冷電極棒上，液冷電極棒與熱絲網架電性連接，熱絲網架與多個發熱絲電性連接，液冷電極棒用于對發熱絲供電，液冷電極棒為中空結構，冷卻液導入液冷電極棒內部以實現冷卻，發熱絲拉緊件固定安裝于熱絲網架，發熱絲拉緊件用于拉緊多個發熱絲，液冷載臺組件位于熱絲網架下方并用于承載刀具，發熱絲用于對承載于液冷載臺組件的刀具加熱。