[發明專利]一種低軟化點重火石光學玻璃和光學元件

有效

• 申請號: 202010899144.0
• 申請日: 2020-08-31
• 公開（公告）號: CN111960664B
• 公開（公告）日: 2023-01-17
• 發明（設計）人: 李建新;孟繁艷;陳超;霍金龍;胡向平
• 申請（專利權）人: 湖北新華光信息材料有限公司
• 主分類號: C03C3/064
• 分類號: C03C3/064;C03C4/00;G02B1/00
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;李茂家

1.一種低軟化點重火石光學玻璃，其特征在于，其包含以陽離子摩爾百分比計的以下組分：

Si⁴⁺：25.5-35%；

Ti⁴⁺：20-28%；

Ba²⁺：0-10%；

Sr²⁺：0-5%；

Zr⁴⁺：0-1%；

Nb⁵⁺：0-10%；

Na⁺：13-22%；

Li⁺：10-20%；

B³⁺：0-8%；

所述光學玻璃的折射率為1.83-1.86，阿貝數為22-25；

以陽離子摩爾百分比計，Si⁴⁺/Ti⁴⁺的比值在1.1-1.7之間。

2.根據權利要求1所述的低軟化點重火石光學玻璃，其特征在于，其包含以陽離子摩爾百分比計的以下組分：

Si⁴⁺：27-32%；

Ti⁴⁺：22-26%；

Ba²⁺：3-8%；

Sr²⁺：0-3%；

Zr⁴⁺：0-1%；

Nb⁵⁺：3-8%；

Na⁺：15-20%；

Li⁺：12-18%；

B³⁺：2-6%。

3.根據權利要求1所述的低軟化點重火石光學玻璃，其特征在于，以陽離子摩爾百分比計，∑(Si⁴⁺+B³⁺)為30-36%；B³⁺/Si⁴⁺的比值為0-0.3。

4.根據權利要求3所述的低軟化點重火石光學玻璃，其特征在于，以陽離子摩爾百分比計，∑(Si⁴⁺+B³⁺)為31-33%。

5.根據權利要求1所述的低軟化點重火石光學玻璃，其特征在于，以陽離子摩爾百分比計，∑(Li⁺+Na⁺)為25.5-35%；Li⁺/Na⁺的比值為0.5-1.5。

6.根據權利要求5所述的低軟化點重火石光學玻璃，其特征在于，以陽離子摩爾百分比計，∑(Li⁺+Na⁺)為26-33%；Li⁺/Na⁺的比值為0.8-1.3。

7.根據權利要求1所述的低軟化點重火石光學玻璃，其特征在于，以陽離子摩爾百分比計，∑(Nb⁵⁺+Ti⁴⁺+Zr⁴⁺)為25-35%。

8.根據權利要求7所述的低軟化點重火石光學玻璃，其特征在于，以陽離子摩爾百分比計，∑(Nb⁵⁺+Ti⁴⁺+Zr⁴⁺)為30-35%。

9.根據權利要求1所述的低軟化點重火石光學玻璃，其特征在于，以陽離子摩爾百分比計，∑(Ba²⁺+Sr²⁺)為0-9%。

10.根據權利要求9所述的低軟化點重火石光學玻璃，其特征在于，以陽離子摩爾百分比計，∑(Ba²⁺+Sr²⁺)為3-7%。