[發明專利]具有帶次級密封表面的密封墊圈的流動控制閥

在審

• 申請號: 202010895900.2
• 申請日: 2020-08-31
• 公開（公告）號: CN112443675A
• 公開（公告）日: 2021-03-05
• 發明（設計）人: R·M·梅洛伊;J·M·馮阿爾布
• 申請（專利權）人: 費希爾控制產品國際有限公司
• 主分類號: F16K5/06
• 分類號: F16K5/06;F16K5/08;F16K27/06;F16K27/08;F16K41/02
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 戚英豪;丁燕

1.一種流動控制閥，包括：

閥體，所述閥體具有第一部分和附接到所述第一部分的第二部分；

流動控制構件，所述流動控制構件定位在所述閥體內；

軸，所述軸延伸穿過所述閥體并連接到所述流動控制構件，以使所述流動控制構件在打開位置與關閉位置之間移動；以及

密封墊圈，所述密封墊圈定位在所述閥體內并與所述閥體接合，以防止所述第一部分與所述第二部分之間的流體流動，所述密封墊圈包括：

環形金屬本體，所述環形金屬本體具有內表面和相對的外表面，所述外表面限定初級密封表面；

凹槽，所述凹槽形成在所述外表面中；以及

插入件，所述插入件定位在所述凹槽內，所述插入件限定次級密封表面。

2.根據權利要求1所述的流動控制閥，其中，所述閥體的所述第二部分是端部適配器。

3.根據權利要求1所述的流動控制閥，其中，所述流動控制閥是球閥。

4.根據權利要求1所述的流動控制閥，其中，所述次級密封表面接合所述閥體的所述第一部分和所述第二部分。

5.根據權利要求1所述的流動控制閥，其中，所述插入件是石墨。

6.根據權利要求1所述的流動控制閥，其中，所述插入件是石墨層壓件。

7.根據權利要求1所述的流動控制閥，其中，所述插入件是聚合物。

8.根據權利要求1所述的流動控制閥，包括：形成在所述環形金屬本體的所述外表面中的多個凹槽、以及多個插入件，每個插入件定位在所述多個凹槽中的相應凹槽內。

9.根據權利要求1所述的流動控制閥，其中：

所述密封墊圈的所述外表面包括第一部分和不平行于所述第一部分的第二部分；

所述凹槽形成在所述第一部分中；

第二凹槽形成在所述第二部分中并且第二插入件定位在所述第二凹槽中以提供第二次級密封表面；

所述次級密封表面與所述閥體的所述第一部分接合；以及

所述第二次級密封表面與所述閥體的所述第二部分接合。

10.一種用于流動控制閥的密封墊圈，包括：

環形金屬本體，所述環形金屬本體具有內表面和相對的外表面，所述外表面限定初級密封表面；

凹槽，所述凹槽形成在所述外表面中；以及

插入件，所述插入件定位在所述凹槽內，所述插入件限定次級密封表面。

11.根據權利要求10所述的密封墊圈，其中，所述插入件是石墨。

12.根據權利要求10所述的密封墊圈，其中，所述插入件是石墨層壓件。

13.根據權利要求10所述的密封墊圈，其中，所述插入件是聚合物。

14.根據權利要求10所述的密封墊圈，包括：形成在所述環形金屬本體的所述外表面中的多個凹槽、以及多個插入件，每個插入件定位在所述多個凹槽中的相應凹槽內。

15.根據權利要求10所述的密封墊圈，其中：

所述外表面包括第一部分和不平行于所述第一部分的第二部分；

所述凹槽形成在所述第一部分中；以及

第二凹槽形成在所述第二部分中并且第二插入件定位在所述第二凹槽中以提供第二次級密封表面。

16.根據權利要求10所述的密封墊圈，其中，所述流動控制閥是球閥。