[發(fā)明專利]自動(dòng)曝光方法與電子裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010895879.6 | 申請(qǐng)日: | 2020-08-31 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112165580B | 公開(公告)日: | 2022-01-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 余常文;袁渝 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳市匯頂科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H04N5/235 | 分類號(hào): | H04N5/235;H04N5/232 |
| 代理公司: | 北京天馳君泰律師事務(wù)所 11592 | 代理人: | 孟銳 |
| 地址: | 518045 廣東省深*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 自動(dòng) 曝光 方法 電子 裝置 | ||
本申請(qǐng)公開了一種自動(dòng)曝光方法及電子裝置。自動(dòng)曝光方法包括下列步驟:依據(jù)第一曝光參數(shù)控制攝像單元來得到具有第一圖像亮度的圖像;計(jì)算第一圖像亮度與目標(biāo)圖像亮度的第一差值;當(dāng)?shù)谝徊钪荡笥陬A(yù)設(shè)閥值,依據(jù)第一圖像亮度與顯示屏的顯示屏亮度得到人眼視覺亮度,并依據(jù)人眼視覺亮度得到第二圖像亮度;從預(yù)設(shè)曝光表中得到對(duì)應(yīng)第二圖像亮度的第二曝光參數(shù);及依據(jù)第二曝光參數(shù)控制攝像單元來得到具有第二圖像亮度的圖像。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請(qǐng)涉及一種自動(dòng)曝光方法與電子裝置,尤其涉及一種使用人眼視覺亮度來調(diào)整通過攝像單元得到并顯示在顯示屏上的圖像亮度的自動(dòng)曝光方法以及電子裝置。
背景技術(shù)
攝像單元中的自動(dòng)曝光系統(tǒng)可以將顯示的預(yù)覽圖像的亮度從一默認(rèn)亮度改變至目標(biāo)圖像亮度。使用者在觀看預(yù)覽圖像時(shí),可以看到從默認(rèn)亮度改變至目標(biāo)圖像亮度的亮度變化過程。為了提升使用經(jīng)驗(yàn),預(yù)覽圖像的亮度會(huì)以漸變的方式變化至目標(biāo)圖像亮度,以防止亮度突變。然而,現(xiàn)有技術(shù)對(duì)于亮度改變的方式并不能最優(yōu)地適應(yīng)人眼的變化。如何能夠優(yōu)化使用者對(duì)預(yù)覽圖像的亮度的刺激響應(yīng),已成為本領(lǐng)域重要的工作項(xiàng)目。
發(fā)明內(nèi)容
本申請(qǐng)的目的之一在于公開一種自動(dòng)曝光方法及電子裝置,來解決現(xiàn)有技術(shù)中自動(dòng)曝光方法優(yōu)化對(duì)人眼適應(yīng)性的技術(shù)問題。
本申請(qǐng)的一實(shí)施例公開了一種自動(dòng)曝光方法。自動(dòng)曝光方法包括下列步驟:依據(jù)第一曝光參數(shù)控制攝像單元來得到具有第一圖像亮度的圖像;計(jì)算第一圖像亮度與目標(biāo)圖像亮度的第一差值;當(dāng)?shù)谝徊钪荡笥陬A(yù)設(shè)閥值,依據(jù)第一圖像亮度與顯示屏的顯示屏亮度得到人眼視覺亮度,并依據(jù)所述人眼視覺亮度得到第二圖像亮度;從預(yù)設(shè)曝光表中得到對(duì)應(yīng)第二圖像亮度的第二曝光參數(shù);及依據(jù)第二曝光參數(shù)控制攝像單元來得到具有第二圖像亮度的圖像。
本申請(qǐng)的一實(shí)施例公開了一種電子裝置。所述電子裝置包括處理器、攝像單元及顯示屏,用于執(zhí)行前述的自動(dòng)曝光方法。
具體來說,本申請(qǐng)所公開的電子裝置與自動(dòng)曝光方法以新穎的方式優(yōu)化預(yù)覽圖像亮度變化的問題,進(jìn)而增進(jìn)使用者的使用經(jīng)驗(yàn)。
附圖說明
圖1為本申請(qǐng)的電子裝置的實(shí)施例的方框示意圖。
圖2為本申請(qǐng)的自動(dòng)曝光方法的流程圖。
具體實(shí)施方式
以下揭示內(nèi)容提供了多種實(shí)施方式或例示,其能用以實(shí)現(xiàn)本揭示內(nèi)容的不同特征。下文所述之組件與配置的具體例子系用以簡(jiǎn)化本揭示內(nèi)容。當(dāng)可想見,這些敘述僅為例示,其本意并非用于限制本揭示內(nèi)容。舉例來說,在下文的描述中,將一第一特征形成于一第二特征上或之上,可能包括某些實(shí)施例其中所述的第一與第二特征彼此直接接觸;且也可能包括某些實(shí)施例其中還有額外的組件形成于上述第一與第二特征之間,而使得第一與第二特征可能沒有直接接觸。此外,本揭示內(nèi)容可能會(huì)在多個(gè)實(shí)施例中重復(fù)使用組件符號(hào)和/或標(biāo)號(hào)。此種重復(fù)使用乃是基于簡(jiǎn)潔與清楚的目的,且其本身不代表所討論的不同實(shí)施例和/或組態(tài)之間的關(guān)系。
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