[發明專利]一種涂布密度均勻的涂布墊片的制作方法

在審

• 申請號: 202010895074.1
• 申請日: 2020-08-31
• 公開（公告）號: CN112044680A
• 公開（公告）日: 2020-12-08
• 發明（設計）人: 趙崇林;李明鈞;周建中;葛科;楊廣元
• 申請（專利權）人: 天能帥福得能源股份有限公司
• 主分類號: B05C5/02
• 分類號: B05C5/02;B23P15/00;H01M10/0525;H01M10/058
• 代理公司: 浙江專橙律師事務所 33313
• 代理人: 朱孔妙

1.一種涂布密度均勻的涂布墊片的制作方法，其特征在于：包括以下步驟：

S1、根據使用要求，確定待制作的涂布墊片的的尺寸大小及不銹鋼材料，壓制成型后得涂布墊片；

S2、在S1所得涂布墊片的左右兩內側各掏空出一個半圓形區域（2）；

S3、對S1所得涂布墊片的連接拐點處分別做倒角和圓角處理；

S4、對S2中涂布墊片的掏空區域和S3中涂布墊片的倒角和圓角處分別做拋光處理后，得涂布密度均勻的涂布墊片。

2.根據權利要求1所述的一種涂布密度均勻的涂布墊片的制作方法，其特征在于：所述S1中涂布墊片包括墊片主體（1）和連接于墊片主體（1）上端的兩個對稱的墊片支柱（3），且兩個墊片支柱（3）和墊片主體（1）為一體式結構，所述墊片主體（1）上端位于兩個墊片支柱（3）內側的部位處固設有兩個對稱的分流支柱（4），所述半圓形區域（2）設于墊片支柱（3）靠近分流支柱（4）的一側且與墊片主體（1）上端相銜接，且半圓形區域（2）的半徑為30mm。

3.根據權利要求2所述的一種涂布密度均勻的涂布墊片的制作方法，其特征在于：所述倒角分別設于兩個墊片支柱（3）相互遠離的一端的連接拐點部位處和墊片主體（1）左右兩底端的連接拐點部位處。

4.根據權利要求2所述的一種涂布密度均勻的涂布墊片的制作方法，其特征在于：所述兩個墊片支柱（3）相互遠離的一端的連接拐點部位處的倒角均為C1。

5.根據權利要求1所述的一種涂布密度均勻的涂布墊片的制作方法，其特征在于：所述墊片主體（1）左右兩底端的連接拐點部位處的倒角均為C3。

6.根據權利要求2所述的一種涂布密度均勻的涂布墊片的制作方法，其特征在于：所述圓角分別設于兩個墊片支柱（3）相互靠近的一側上部連接拐點部位處、兩個分流支柱（4）左右兩上端的連接拐點部位處、兩個分流支柱（4）底端與墊片主體（1）上端之間的連接拐點部位處、兩個分流支柱（4）相互靠近的一側中下部連接拐點部位處、分流支柱（4）內側的連接拐點部位處、兩個墊片支柱（3）相互靠近的內側連接拐點處和半圓形區域（2）與墊片支柱（3）連接拐點部位處。

7.根據權利要求2所述的一種涂布密度均勻的涂布墊片的制作方法，其特征在于：所述兩個墊片支柱（3）相互靠近的一側上部連接拐點部位處和兩個分流支柱（4）左右兩上端的連接拐點部位處的圓角均為R6。

8.根據權利要求2所述的一種涂布密度均勻的涂布墊片的制作方法，其特征在于：所述兩個分流支柱（4）相互靠近的底端與墊片主體（1）上端之間的連接拐點部位處、兩個分流支柱（4）相互靠近的一側中下部連接拐點部位處和分流支柱（4）內側的連接拐點部位處的圓角均為R5。

9.根據權利要求2所述的一種涂布密度均勻的涂布墊片的制作方法，其特征在于：所述兩個分流支柱（4）相互遠離的底端與墊片主體（1）上端之間的連接拐點部位處和兩個墊片支柱（3）相互靠近的內側連接拐點處的圓角均為R20。

10.根據權利要求2所述的一種涂布密度均勻的涂布墊片的制作方法，其特征在于：所述半圓形區域（2）與墊片支柱（3）連接拐點部位處的圓角為R15。