[發(fā)明專利]一種燒結(jié)原料自動控水工藝系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010892820.1
• 申請日: 2020-08-31
• 公開（公告）號: CN112000137A
• 公開（公告）日: 2020-11-27
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 石永敬;李沁蘭;尚鳳杰
• 申請（專利權(quán)）人: 重慶花喜鵲科技有限公司
• 主分類號: G05D7/06
• 分類號: G05D7/06;C22B1/16;G01N22/04
• 代理公司: 重慶蘊博君晟知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 50223
• 代理人: 韓慧芳

1.一種燒結(jié)原料自動控水工藝系統(tǒng)，其特征在于，包括微波水分在線分析儀和智能加水控制系統(tǒng)，所述微波水分在線分析儀通過微波測量燒結(jié)原料的含水量并產(chǎn)生微波信號，所述微波水分測試儀一側(cè)安裝有高度檢測儀，所述高度檢測儀用于檢測原料的高度并產(chǎn)生高度信號，所述微波水分在線分析儀對微波信號和高度信號通過水分計算模型進(jìn)行處理分析計算水分含量得到水分含量信號，所述智能加水控制系統(tǒng)用于接收微波水分在線分析儀的水分含量信號，并且對水分含量信號處理后與工藝設(shè)定值進(jìn)行比較得到加水量并產(chǎn)生加水信號，自動補水。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種燒結(jié)原料自動控水工藝系統(tǒng)，其特征在于，所述微波水分在線分析儀同時使用多個不同頻率的微波信號,微波頻率范圍在300MHz～300GHz。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種燒結(jié)原料自動控水工藝系統(tǒng)，其特征在于，所述水分計算模型為

式中，表示待測料的水分的質(zhì)量百分比，％；ρ為原料的密度，儀表測得，g/cm³；h為原料的高度，高度儀測得，mm；α₁、α₂、…α_n表示微波強度度衰減程度，α≥0，dB；表示微波相偏移量，rad；a₀、b₁、b₂、…b_n、c₁、c₂、…c_n均為模型修正系數(shù)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種燒結(jié)原料自動控水工藝系統(tǒng)，其特征在于，包括以下步驟：

S1：確定如權(quán)利要求3中所涉及的模型修正系數(shù)；

S2：安裝于一混進(jìn)口的微波水分在線分析儀測量進(jìn)口原料的含水量；

S3：將S2中計算結(jié)果與一混工藝設(shè)定值進(jìn)行比較，根據(jù)差值計算出加水量；

S4：智能加水控制系統(tǒng)對一混料進(jìn)行自動補水；

S5：安裝于一混出口的微波水分在線分析儀測量出口原料的含水量；

S6：將S5中計算結(jié)果與二混工藝設(shè)定值進(jìn)行比較，計算出加水量；

S7：智能加水控制系統(tǒng)對二混料進(jìn)行自動補水；

S8：安裝于二混出口的微波水分在線分析儀測量出口原料的含水量；

S9：存儲以上數(shù)據(jù)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種燒結(jié)原料自動控水工藝系統(tǒng)，其特征在于，智能加水控制系統(tǒng)為基于微處理器的PLC控制系統(tǒng)，內(nèi)環(huán)控制水流量的穩(wěn)定性，外環(huán)根據(jù)水分偏差算出加水量的修正值。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種燒結(jié)原料自動控水工藝系統(tǒng)，其特征在于，所述PLC控制系統(tǒng)可以存儲并顯示原料含水量。