[發(fā)明專利]一種介質(zhì)濾波器及其制作方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010892034.1
• 申請(qǐng)日: 2020-08-28
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112072239A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-12-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李鋼
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 潮州三環(huán)（集團(tuán)）股份有限公司
• 主分類號(hào): H01P1/212
• 分類號(hào): H01P1/212;H01P11/00
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202
• 代理人: 周全英

1.一種介質(zhì)濾波器，其特征是，包括介質(zhì)本體、設(shè)置在所述介質(zhì)本體上的第一調(diào)頻盲孔和第二調(diào)頻盲孔，以及設(shè)置在所述介質(zhì)本體上的負(fù)耦合結(jié)構(gòu)，所述負(fù)耦合結(jié)構(gòu)位于所述第一調(diào)頻盲孔和第二調(diào)頻盲孔之間，所述介質(zhì)本體的表面設(shè)有導(dǎo)電層；

所述負(fù)耦合結(jié)構(gòu)包括負(fù)耦合盲槽和負(fù)耦合通孔，所述負(fù)耦合盲槽與所述第一調(diào)頻盲孔、第二調(diào)頻盲孔布置在所述介質(zhì)本體的同一側(cè)，所述負(fù)耦合盲槽與所述第一調(diào)頻盲孔或者所述第二調(diào)頻盲孔連通；所述負(fù)耦合通孔貫穿設(shè)置在所述負(fù)耦合盲槽的槽底，且所述負(fù)耦合通孔延伸至所述介質(zhì)本體背向所述負(fù)耦合盲槽的相背側(cè)，所述負(fù)耦合通孔的孔口位置還設(shè)置有絕緣環(huán)區(qū)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的介質(zhì)濾波器，其特征是，所述絕緣環(huán)區(qū)設(shè)置在所述負(fù)耦合盲槽的槽底上且圍繞所述負(fù)耦合通孔，或者，所述絕緣環(huán)區(qū)設(shè)置在所述介質(zhì)本體的下側(cè)面且圍繞所述負(fù)耦合通孔。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的介質(zhì)濾波器，其特征是，所述絕緣環(huán)區(qū)的形狀為圓環(huán)形，所述負(fù)耦合通孔的形狀為圓柱形，所述絕緣環(huán)區(qū)與所述負(fù)耦合通孔同心布置。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的介質(zhì)濾波器，其特征是，所述負(fù)耦合盲槽為長(zhǎng)形槽，所述負(fù)耦合盲槽的長(zhǎng)度方向介于所述第一調(diào)頻盲孔和第二調(diào)頻盲孔之間延伸。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的介質(zhì)濾波器，其特征是，所述負(fù)耦合盲槽與所述第一調(diào)頻盲孔連通，所述負(fù)耦合盲槽的另一端與所述第二調(diào)頻盲孔分隔布置。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的介質(zhì)濾波器，其特征是，所述負(fù)耦合通孔的直徑小于等于所述負(fù)耦合盲槽的寬度。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的介質(zhì)濾波器，其特征是，所述負(fù)耦合盲槽的寬度小于等于所述第一調(diào)頻盲孔的直徑，所述第二調(diào)頻盲孔的直徑等于所述第一調(diào)頻盲孔的直徑。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的介質(zhì)濾波器，其特征是，所述負(fù)耦合盲槽的深度為所述第一調(diào)頻盲孔的深度的0.2倍至0.8倍之間任意倍數(shù)。

9.一種介質(zhì)濾波器的制作方法，其特征是，包括以下步驟：

步驟一、準(zhǔn)備原料，制備帶有第一調(diào)頻盲孔、第二調(diào)頻盲孔、負(fù)耦合盲槽和負(fù)耦合通孔的介質(zhì)本體生胚；

步驟二、燒制所述介質(zhì)本體生胚得到介質(zhì)本體；

步驟三、在介質(zhì)本體的表面預(yù)設(shè)保護(hù)層；

步驟四、采用噴涂、浸蘸、印刷或電鍍的方式在介質(zhì)本體的表面制作生成導(dǎo)電層；

步驟五、去除保護(hù)層，得到相應(yīng)位置的絕緣環(huán)區(qū)；或者，在步驟二之后直接進(jìn)行步驟四，然后采用激光雕刻方式形成絕緣環(huán)區(qū)；

步驟六、根據(jù)介質(zhì)波導(dǎo)濾波器所需的性能調(diào)整所述負(fù)耦合結(jié)構(gòu)和絕緣環(huán)區(qū)的尺寸。