[發明專利]一種高導熱C/C-SiC復合材料的制備方法有效
| 申請號: | 202010891600.7 | 申請日: | 2020-08-28 |
| 公開(公告)號: | CN112110742B | 公開(公告)日: | 2022-11-11 |
| 發明(設計)人: | 黃東;葉崇;劉金水;劉玲;樊楨;朱世鵬;張鵬 | 申請(專利權)人: | 湖南東映碳材料科技有限公司 |
| 主分類號: | C04B35/83 | 分類號: | C04B35/83;C04B35/565;C04B35/622 |
| 代理公司: | 安化縣梅山專利事務所 43005 | 代理人: | 李琦 |
| 地址: | 410000 湖南省長沙市高新*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 導熱 sic 復合材料 制備 方法 | ||
1.一種C/C-SiC復合材料的制備方法,其特征在于:
包括以下步驟:
(1)對中間相瀝青碳纖維進行一級碳化得到碳纖維I,然后將所述碳纖維I二級碳化得到碳纖維II,將碳纖維II編織成碳布后,采用細編穿刺法,采用PAN基碳纖維在Z向上對碳布進行穿刺,得到三維預制體;
(2)將所述三維預制體進行一級石墨化處理后,采用熱解碳法對所述三維預制體進行增密后,得到多孔C/C復合材料骨架I,
(3)對所述多孔C/C復合材料骨架I進行二級石墨化后得到多孔C/C復合材料骨架II,采用化學氣相反應法對多孔C/C復合材料骨架II進行增密,即得所述C/C-SiC復合材料;
所述一級碳化的溫度為500~700℃;
所述二級碳化的溫度為1000~1800℃;
所述一級石墨化的溫度為2000~2200℃;
所述二級石墨化的溫度為2800~3100℃;
所述化學氣相反應法的硅源為SiO蒸汽;
所述硅源由Si粉和SiO2粉的混合物制備得到;
所述硅源中Si和SiO2的摩爾比為3∶1~1∶1;
所述化學氣相反應法采用的溫度為2200℃。
2.如權利要求1所述的一種C/C-SiC復合材料的制備方法,其特征在于:
所述碳纖維I的模量為8~50GPa;
所述碳纖維I的強度為0.30~0.45GPa;
所述碳纖維II的模量為100~300GPa;
所述碳纖維II的強度為1~2GPa。
3.如權利要求1所述的一種C/C-SiC復合材料的制備方法,其特征在于:
所述碳布包括緞紋布;
所述緞紋布包括三,五或八枚緞紋布中的一種;
所述PAN基碳纖維選自T700,T800或M40J中的一種。
4.如權利要求1所述的一種C/C-SiC復合材料的制備方法,其特征在于:
所述三維預制體的Z方向上,PAN基碳纖維的含量為6~8vol%;
所述三維預制體的X方向上,中間相瀝青基碳纖維的含量為18~20vol%;
所述三維預制體的Y方向上,中間相瀝青基碳纖維的含量為18~20vol%。
5.如權利要求1所述的一種C/C-SiC復合材料的制備方法,其特征在于:
所述一級石墨化的氣氛包括氬氣;
所述一級石墨化的升溫速率為5~10℃/min;
所述一級石墨化的保溫時間5~10min。
6.如權利要求1所述的一種C/C-SiC復合材料的制備方法,其特征在于:
所述熱解碳法采用的碳源氣體包括C3~C5的烷烴、C3~C5的烯烴或天然氣中的一種;
所述熱解碳法采用的載氣為氮氣或氬氣;
所述熱解碳法采用的氣壓為1~5kPa,
所述熱解碳法采用的反應溫度為900~1100℃;
所述多孔C/C復合材料骨架I的密度為1.25~1.35g/cm3。
7.如權利要求1所述的一種C/C-SiC復合材料的制備方法,其特征在于:
所述的化學氣相反應法包括如下步驟:將所述硅源與所述多孔C/C復合材料骨架II置于密閉環境內于氣壓小于或等于100Pa的條件下以5~10℃/min的升溫速率將所述密閉環境的溫度由室溫升至1400℃并保溫0.5~1h后,向所述密閉環境通入氬氣,至氣壓為1atm+1~5kPa;然后保持氣壓為1atm+1~5kPa,于氬氣氣氛,3~5℃/min的升溫速率,將所述密閉環境的溫度由1400℃升至1850℃,并于1atm+0~5kPa的氣壓,氬氣氣氛下保溫1~2h;將所述密閉環境的溫度由1850℃升至2200℃,保溫1~2h,氬氣氣氛,氣壓為1atm+0~5kPa;
將所述密閉環境的氣壓保持為1atm+0~5kPa,氬氣氣氛下,以0.1~1℃/min的降溫速率由2200℃降至1000℃最后自然冷卻。
8.如權利要求1所述的一種C/C-SiC復合材料的制備方法,其特征在于:
所述C/C-SiC復合材料的密度大于1.95g/cm3;
C/C-SiC復合材料X或Y向的導熱系數為150~250W/(m·K)。
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