[發明專利]真空系統

有效

• 申請號: 202010890035.2
• 申請日: 2020-08-28
• 公開（公告）號: CN112061948B
• 公開（公告）日: 2022-10-21
• 發明（設計）人: 郝瀚;周亮
• 申請（專利權）人: 北京京儀自動化裝備技術股份有限公司
• 主分類號: B66C1/02
• 分類號: B66C1/02;B25J15/06
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 韓世虹

1.一種真空系統，其特征在于：包括正壓氣路、負壓氣路和吸附氣路，所述正壓氣路與所述負壓氣路均與所述吸附氣路連通，所述正壓氣路在連通所述吸附氣路的一端設置第一閥體，所述負壓氣路在連通所述吸附氣路的一端設置第二閥體，所述第一閥體與所述第二閥體分別用于控制所述正壓氣路與所述負壓氣路的通斷，以使所述正壓氣路和所述負壓氣路的其中一路開啟，另一路自動關閉；所述正壓氣路還設有真空發生器；所述正壓氣路還設有第三閥體，所述第三閥體與所述真空發生器沿正壓氣體的流向依次設置，所述第三閥體采用減壓閥，廠務正壓壓縮氣體經過所述減壓閥的調節至所述吸附氣路所需的氣壓壓力，進入所述真空發生器，實現所述真空發生器的吸力調節。

2.根據權利要求1所述的真空系統，其特征在于：所述正壓氣路還設有第一壓力開關，所述第一壓力開關設置于所述第三閥體與所述真空發生器之間。

3.根據權利要求1所述的真空系統，其特征在于：所述真空發生器與消音器連接。

4.根據權利要求1至3任意一項所述的真空系統，其特征在于：所述吸附氣路的另一端設有吸盤。

5.根據權利要求4所述的真空系統，其特征在于：所述吸附氣路還設有第四閥體，所述第四閥體與設置于所述吸附氣路與所述正壓氣路和所述負壓氣路連通的一端。

6.根據權利要求5所述的真空系統，其特征在于：所述吸附氣路還包括第二壓力開關，所述第二壓力開關設置于所述第四閥體與所述吸盤之間。

7.根據權利要求4所述的真空系統，其特征在于：所述負壓氣路上設有第五閥體，所述第二閥體與所述第五閥體沿負壓氣體的流向依次設置。