[發(fā)明專利]一種輻照自屏蔽設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010889803.2 | 申請日: | 2020-08-28 |
| 公開(公告)號: | CN112086215A | 公開(公告)日: | 2020-12-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黨星;史浩;劉晉升;王忠;陳懷璧;韓志偉;覃懷莉 | 申請(專利權(quán))人: | 江蘇同威信達(dá)技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G21F3/00 | 分類號: | G21F3/00 |
| 代理公司: | 蘇州市港澄專利代理事務(wù)所(普通合伙) 32304 | 代理人: | 湯婷 |
| 地址: | 213000 江蘇省常州市金壇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 輻照 屏蔽 設(shè)備 | ||
本發(fā)明公開了一種輻照自屏蔽設(shè)備,具有自屏蔽結(jié)構(gòu),所述自屏蔽結(jié)構(gòu)安裝在設(shè)備支架上,所述的自屏蔽結(jié)構(gòu)由屏蔽底板、屏蔽側(cè)板、屏蔽蓋板組成一個(gè)四面完全封閉的通道,所述自屏蔽結(jié)構(gòu)通過若干開口交錯(cuò)的豎型屏蔽擋板將其區(qū)域分割成若干空間,所述屏蔽底板、屏蔽側(cè)板、屏蔽蓋板、豎型屏蔽擋板都是由屏蔽材料制造,位于所自屏蔽結(jié)構(gòu)的中心區(qū)域內(nèi)布置有射線源,傳輸線體從自屏蔽結(jié)構(gòu)的入口側(cè)屏蔽擋板開口處穿入自屏蔽結(jié)構(gòu),經(jīng)過射線源下方,從自屏蔽結(jié)構(gòu)出口側(cè)屏蔽擋板開口處穿出,所述傳輸線體在自屏蔽結(jié)構(gòu)內(nèi)多次彎折以穿過屏蔽擋板開口,以最小的空間和傳輸距離來實(shí)現(xiàn)滿足環(huán)境劑量要求的目的。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及輻照技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及有連續(xù)傳輸裝置的一種輻照自屏蔽設(shè)備。
背景技術(shù)
輻照技術(shù)在如今多個(gè)行業(yè)內(nèi)應(yīng)用廣泛,如食品加工,電纜交聯(lián),橡膠硫化等。輻照設(shè)備面臨的最大問題是射線對環(huán)境的影響,世界各國和各界都對輻射環(huán)境劑量有著嚴(yán)格的管控要求,因此往往輻照設(shè)備都需要放置在密封的具有足夠屏蔽等級的房間內(nèi),或者要求輻照設(shè)備足夠遠(yuǎn)離人員活動區(qū)域。在如此條件下,輻照設(shè)備的配套傳輸系統(tǒng)會很長,機(jī)房的占地面積也會很大,嚴(yán)重限制了輻照設(shè)備的應(yīng)用場景。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是解決上述提出的問題,提供一種輻照自屏蔽設(shè)備,將傳輸線折疊穿越各層屏蔽開口,達(dá)到以最小的空間和傳輸距離來實(shí)現(xiàn)滿足環(huán)境劑量要求的目的。
本發(fā)明的目的是以如下方式實(shí)現(xiàn)的:一種輻照自屏蔽設(shè)備,其特征在于:具有自屏蔽結(jié)構(gòu),所述自屏蔽結(jié)構(gòu)安裝在設(shè)備支架上,所述的自屏蔽結(jié)構(gòu)由屏蔽底板、屏蔽側(cè)板、屏蔽蓋板組成一個(gè)正面、背面、上面、下面完全封閉的通道,所述自屏蔽結(jié)構(gòu)通過若干開口交錯(cuò)的豎型屏蔽擋板將其區(qū)域分割成若干屏蔽空間,所述屏蔽底板、屏蔽側(cè)板、屏蔽蓋板、豎型屏蔽擋板都是由屏蔽材料制造,位于所述自屏蔽結(jié)構(gòu)的中心區(qū)域內(nèi)布置有射線源,傳輸線體從自屏蔽結(jié)構(gòu)入口側(cè)入口屏蔽擋板開口處穿入自屏蔽結(jié)構(gòu),經(jīng)過射線源下方,從自屏蔽結(jié)構(gòu)出口側(cè)出口屏蔽擋板開口處穿出,經(jīng)過自屏蔽結(jié)構(gòu)下方回到自屏蔽結(jié)構(gòu)的入口側(cè),所述傳輸線體在自屏蔽結(jié)構(gòu)內(nèi)多次彎折以穿過豎型屏蔽擋板開口,所述射線源的正下方設(shè)有排風(fēng)管道,用于排出輻照產(chǎn)生的臭氧。
更優(yōu)化的方案是所述的一種輻照自屏蔽設(shè)備,所述傳輸線體通過傳輸線入口平臺穿過入口蔽擋板,然后彎折向下穿過第二屏蔽擋板,然后折彎弧度向上與第二平臺連接,第二平臺穿過第三屏蔽擋板后向下折彎進(jìn)入第四平臺,所述第四平臺依次穿過第四屏蔽擋板與第五屏蔽擋板,所述射線源位于所述第四屏蔽擋板和第五屏蔽擋板隔成的空間的正上方,所述第四平臺的運(yùn)動方向的末端折彎向上與第五平臺連接,所述第五平臺穿過第六屏蔽擋板,所述第五平臺的末端向下到一定角度后折彎向上后穿過第七屏蔽擋板連接出口平臺,所述出口平臺穿過出口屏蔽擋板后離開自屏蔽結(jié)構(gòu)。
更優(yōu)化的方案是所述的一種輻照自屏蔽設(shè)備,所述輸送線平臺和屏蔽擋板的數(shù)量可根據(jù)射線源的輻射水平進(jìn)行增減。
更優(yōu)化的方案是所述的一種輻照自屏蔽設(shè)備,所述入口蔽擋板和出口屏蔽擋板的開孔上下兩側(cè)不是同平面的。
更優(yōu)化的方案是所述的一種輻照自屏蔽設(shè)備,所述射線源種類為電子束或X射線。
更優(yōu)化的方案是所述的一種輻照自屏蔽設(shè)備,所述自屏蔽結(jié)構(gòu)上的屏蔽蓋板是可以分塊開啟的,每個(gè)可開啟的屏蔽蓋板都設(shè)有限位開關(guān)用于監(jiān)控開關(guān)情況,保證使用中無輻射泄漏。
更優(yōu)化的方案是所述的一種輻照自屏蔽設(shè)備,所述排風(fēng)管道由屏蔽材料制成,且經(jīng)過多次彎折避免輻射泄漏。
更優(yōu)化的方案是所述的一種輻照自屏蔽設(shè)備,所述自屏蔽結(jié)構(gòu)下方設(shè)置有傳輸線體清洗裝置。
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