[發明專利]一種原子層沉積設備在審
| 申請號： | 202010886217.2 | 申請日： | 2020-08-28 |
| 公開（公告）號： | CN114107948A | 公開（公告）日： | 2022-03-01 |
| 發明（設計）人： | 范天慶;屈芙蓉;馮嘉恒;夏洋;高圣;劉曉靜;李國慶;明帥強 | 申請（專利權）人： | 昆山微電子技術研究院 |
| 主分類號： | C23C16/455 | 分類號： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人： | 薛嬌 |
| 地址： | 215347 江蘇省蘇州市昆*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 原子 沉積 設備 | ||
1.一種原子層沉積設備，其特征在于，包括反應腔室；所述反應腔室上設有容納氣流流入的氣流入口；所述反應腔室內部設置有樣品臺和內腔蓋；所述反應腔室還設有用于容納待反應的樣品輸送至所述樣品臺的腔口；
其中，所述內腔蓋背離所述樣品臺的一端和所述氣流入口相連通；所述內腔蓋和所述樣品臺之間可形成封閉空腔。
2.如權利要求1所述的原子層沉積設備，其特征在于，所述內腔蓋和樣品臺之間可相對活動至相互分離或相互貼合，當所述內腔蓋和所述樣品臺相對活動至相互貼合時，所述內腔蓋和所述樣品臺之間形成所述封閉空腔。
3.如權利要求2所述的原子層沉積設備，其特征在于，所述樣品臺連接有驅動裝置，用于驅動所述樣品臺相對于所述內腔蓋活動。
4.如權利要求3所述的原子層沉積設備，其特征在于，所述驅動裝置為氣動驅動裝置。
5.如權利要求1所述的原子層沉積設備，其特征在于，所述內腔蓋為從和所述氣流入口相連接的一端至靠近所述樣品臺的一端，口徑逐漸擴大的錐型體。
6.如權利要求1至5任一項所述的原子層沉積設備，其特征在于，所述反應腔室的腔口還設置有氣動插板閥，所述反應腔室的腔口還連接有過渡腔室；所述過渡腔室的腔壁上設置有腔門；所述過渡腔室的內部設置有可活動的傳送桿，所述過渡腔室內部還連通有真空裝置；
所述傳送桿上可承載所述樣品，且所述傳送桿可通過所述腔口活動至所述反應腔室，以便將所述樣品傳送至所述樣品臺。
7.如權利要求6所述的原子層沉積設備，其特征在于，所述傳送桿包括桿體和樣品承載臺；所述桿體和所述樣品承載臺之間可相互連接或斷開。
8.如權利要求7所述的原子層沉積設備，其特征在于，所述桿體端部和所述樣品承載臺內均設置有磁體，所述桿體和所述樣品承載臺之間可通過磁體相互連接或斷開。
9.如權利要求6所述的原子層沉積設備，其特征在于，所述傳動桿包括桿體和樣品夾。
10.如權利要求6所述的原子層沉積設備，其特征在于，所述氣流入口處還設置有射頻線圈。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
