[發明專利]一種基于F-P腔的多層薄膜三倍頻輸出鏡結構在審
| 申請號： | 202010886002.0 | 申請日： | 2020-08-28 |
| 公開（公告）號： | CN112379555A | 公開（公告）日： | 2021-02-19 |
| 發明（設計）人： | 邵建達;陳美玲;胡國行;朱美萍;張愷馨;王堯 | 申請（專利權）人： | 中國科學院上海光學精密機械研究所 |
| 主分類號： | G02F1/35 | 分類號： | G02F1/35 |
| 代理公司： | 上海恒慧知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 張寧展 |
| 地址： | 201800 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 基于 多層 薄膜 倍頻 輸出 結構 | ||
1.一種基于F-P腔的多層薄膜三倍頻輸出鏡結構，其特征在于，由下到上依次為基底、反射膜系I、間隔層、反射膜系II，表達式為：G/R1LR2/A。其中，G代表基底材料，R1代表反射膜系I，R2代表反射膜系II，L代表間隔層，A代表入射介質。
2.如權利要求1所述基于F-P腔的多層薄膜三倍頻輸出鏡結構，其特征在于，所述反射膜系I由高折射率材料和低折射率材料交替組成，結構為(HL)p，反射膜系II由低折射率材料和高折射率材料交替組成，結構為(LH)q，其中，H和L分別代表光學厚度為λ/4的高折射率材料和低折射率材料，p代表HL單元的周期數，q代表LH單元的周期數。
3.如權利要求1所述基于F-P腔的多層薄膜三倍頻輸出鏡結構，其特征在于，所述間隔層由高非線性極化率材料構成，結構為nM，其中，M代表光學厚度為λ/2高非線性極化率材料，n代表間隔層的厚度。
4.如權利要求1或2所述基于F-P腔的多層薄膜三倍頻輸出鏡結構，其特征在于，所述低折射率材料為SiO2，所述高折射率材料為HfO2、Ta2O5和Nb2O5中的一種，所述周期數p和q的選取范圍均在2～7之間。
5.如權利要求1或3所述基于F-P腔的多層薄膜三倍頻輸出鏡結構，其特征在于，所述高非線性極化率材料為ZnSe、ZnO或者HfO2，所述間隔層的厚度n在1～10之間。
6.如權利要求1-5任一所述基于F-P腔的多層薄膜三倍頻輸出鏡結構，其特征在于，所述入射介質為空氣，所述基底為光學玻璃。
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