[發(fā)明專利]一種超清柔性發(fā)光顯示器及其制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010883505.2 | 申請(qǐng)日: | 2020-08-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111969002A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-11-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳卉敏;陳旻彧;周朋超;朱志強(qiáng);孫阿輝;嚴(yán)利民;徐韜;蘭偉霞;魏斌 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01L27/15 | 分類號(hào): | H01L27/15;H01L33/44;G09F9/30 |
| 代理公司: | 北京高沃律師事務(wù)所 11569 | 代理人: | 楊媛媛 |
| 地址: | 200444*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 柔性 發(fā)光 顯示器 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明涉及一種超清柔性發(fā)光顯示器及其制備方法。該超清柔性發(fā)光顯示器的制備方法,通過(guò)在氧化鎢和氟化鋰層上蒸鍍?cè)O(shè)定顏色的熒光粉,已形成彩光DBR層,能夠在降低發(fā)光光譜所對(duì)應(yīng)的半波寬值的同時(shí),提高發(fā)光的色純度,進(jìn)而提高顯示的清晰度。并且,采用該制備方法得到的超清柔性發(fā)光顯示器可彎折,能應(yīng)用于多種場(chǎng)景。此外,本發(fā)明提供的超清柔性發(fā)光顯示系統(tǒng)中,當(dāng)紫外光照射器發(fā)出不同強(qiáng)度和波長(zhǎng)的紫外光照射超清柔性發(fā)光顯示器時(shí),該超清柔性發(fā)光顯示器可發(fā)出不同顏色的光,從而完成圖案的轉(zhuǎn)換和顯示。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及電子器件領(lǐng)域,特別是涉及一種超清柔性發(fā)光顯示器及其制備方法。
背景技術(shù)
在現(xiàn)有的技術(shù)下,商業(yè)發(fā)光招牌顯示普遍使用LED燈珠發(fā)光顯示,該顯示方式分辨率低,且普遍使用硬性背板,不可彎折,無(wú)法適應(yīng)多樣的應(yīng)用場(chǎng)景
因此,提供一種可彎折的柔性發(fā)光顯示器,以能夠適應(yīng)多樣應(yīng)用場(chǎng)景,是本領(lǐng)域亟待解決的技術(shù)難題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種超清柔性發(fā)光顯示器及其制備方法,以解決現(xiàn)有技術(shù)發(fā)光顯示中存在的不可彎折,無(wú)法適應(yīng)多樣應(yīng)用場(chǎng)景的問(wèn)題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了如下方案:
一種超清柔性發(fā)光顯示器的制備方法,包括:
將覆蓋有第一掩膜版的柔性基板置于真空蒸鍍倉(cāng);
采用真空蒸鍍法,以第一設(shè)定蒸鍍速率在所述柔性基板上依次蒸鍍?cè)O(shè)定厚度的氧化鎢和設(shè)定厚度的氟化鋰,得到蒸鍍基底層;
在所述蒸鍍基底層上以第二設(shè)定蒸鍍速率蒸鍍?cè)O(shè)定顏色的熒光粉,得到與所述設(shè)定顏色相同顏色的彩光DBR層;
將所述第一掩膜版更換為第二掩膜版,并返回“采用真空蒸鍍法,以第一設(shè)定蒸鍍速率在所述柔性基板上依次蒸鍍?cè)O(shè)定厚度的氧化鎢和設(shè)定厚度的氟化鋰,得到蒸鍍基底層”,直至得到紅光DBR層、藍(lán)光DBR層和綠光DBR層。
優(yōu)選的,所述采用真空蒸鍍法,以第一設(shè)定蒸鍍速率在所述柔性基板上依次蒸鍍?cè)O(shè)定厚度的氧化鎢和設(shè)定厚度的氟化鋰,得到蒸鍍基底層,具體包括:
循環(huán)執(zhí)行“采用真空蒸鍍法,以第一設(shè)定蒸鍍速率在所述柔性基板上依次蒸鍍?cè)O(shè)定厚度的氧化鎢和設(shè)定厚度的氟化鋰”3次后,得到蒸鍍基底層。
優(yōu)選的,所述第一設(shè)定蒸鍍速率為
優(yōu)選的,所述設(shè)定厚度為D,D=λ/(4n);
其中,λ為光的波長(zhǎng),n為氧化鎢和氟化鋰的折射率。
優(yōu)選的,所述第二設(shè)定蒸鍍速率小于等于
一種超清柔性發(fā)光顯示器,采用上述制備方法制備得到;所述超清柔性發(fā)光顯示器包括:柔性基板、蒸鍍基底層和彩光DBR層;
所述柔性基板上生長(zhǎng)有所述蒸鍍基底層;所述蒸鍍基底層上生長(zhǎng)所述彩光DBR層;所述彩光DBR層包括紅光DBR層、藍(lán)光DBR層和綠光DBR層。
優(yōu)選的,所述蒸鍍基底層包括多層氧化鎢-氟化鋰層;
每一層所述氧化鎢-氟化鋰層均包括設(shè)定厚度的氧化鎢層和設(shè)定厚度的氟化鋰層;所述設(shè)定厚度的氧化鎢層生長(zhǎng)在所述柔性基板上;所述設(shè)定厚度的氟化鋰層生長(zhǎng)在所述設(shè)定厚度的氧化鎢層上;所述設(shè)定厚度為D,D=λ/(4n);其中,λ為光的波長(zhǎng),n為氧化鎢和氟化鋰的折射率。
優(yōu)選的,所述紅光DBR層、藍(lán)光DBR層和綠光DBR層組合形成預(yù)設(shè)圖案。
優(yōu)選的,所述柔性基板的材料為PET透明材料。
一種超清柔性發(fā)光顯示系統(tǒng),包括:紫外光照射器和上述超清柔性發(fā)光顯示器;
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門(mén)適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門(mén)適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





