[發(fā)明專利]對在目標襯底上檢測的缺陷進行自動化復(fù)檢的方法和設(shè)備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010883345.1
• 申請日: 2015-10-27
• 公開（公告）號: CN111982953A
• 公開（公告）日: 2020-11-24
• 發(fā)明（設(shè)計）人: H·辛哈;D·斯皮瓦克;H·旭;H·蕭;R·博特羅
• 申請（專利權(quán)）人: 科磊股份有限公司
• 主分類號: G01N23/2252
• 分類號: G01N23/2252
• 代理公司: 北京律盟知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司 11287
• 代理人: 劉麗楠

1.一種用于對在目標襯底上的有缺陷裸片中檢測到的缺陷進行自動化復(fù)檢的方法，所述方法包括：

獲得包含所述缺陷的位置的結(jié)果文件；

使用次級電子顯微鏡SEM執(zhí)行所述缺陷的自動化復(fù)檢以便獲得所述缺陷的電子束圖像；

執(zhí)行基于如根據(jù)所述電子束圖像確定的所述缺陷的形態(tài)而將所述缺陷自動化分類成第一若干類型；

選擇特定類型的缺陷以用于自動化能量分散式x射線EDX復(fù)檢；及

對所述特定類型的所述缺陷執(zhí)行所述自動化EDX復(fù)檢，

其中執(zhí)行所述自動化EDX復(fù)檢包括，針對所述特定類型的每一缺陷：

移動到缺陷位點；

從所述缺陷位點獲得EDX光譜；

從所述缺陷位點移動到參考位點；

從所述參考位點獲得所述EDX光譜；

從來自所述缺陷位點的所述EDX光譜及來自所述參考位點的所述EDX光譜產(chǎn)生差光譜；

針對所述特定類型的每一缺陷從所述差光譜導(dǎo)出元素信息；

基于所述元素信息而將所述特定類型的每一缺陷分類成第二若干類型；及

基于所述第一若干類型和所述第二若干類型產(chǎn)生缺陷帕累托，其中所述第一若干類型包括所述第二若干類型中的一者。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述缺陷位點被指示為處于重復(fù)單元陣列中，且其中通過以下方式執(zhí)行從所述缺陷位點到所述參考位點的所述移動：使初級電子束沿一個方向偏轉(zhuǎn)單元尺寸，使得所述參考位點處于鄰近單元中對應(yīng)于所述缺陷位點的位置。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述缺陷位點被指示為處于非陣列經(jīng)圖案化結(jié)構(gòu)中，所述方法進一步包括：

進行電子束成像以獲得圍繞所述有缺陷裸片上的所述缺陷位點的區(qū)域的第一圖像；

進行電子束成像以獲得圍繞鄰近裸片上的所述參考位點的區(qū)域的第二圖像；及

在將所述第二圖像對準到所述第一圖像之后，確定所述第二圖像中的所述參考位點的位置。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中通過以下方式執(zhí)行從所述缺陷位點到所述參考位點的所述移動：使固持所述目標襯底的載臺平移以便使所述SEM的視場從所述有缺陷裸片上的所述缺陷位點移動到所述鄰近裸片上的所述參考位點。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述缺陷帕累托通過取決于元素信息基于所述缺陷的形態(tài)而將所述特定類型的缺陷劃分成多個類型來組合形態(tài)信息與元素信息。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中所述缺陷帕累托包括缺陷頻率與類型關(guān)系的條形圖。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中所述缺陷帕累托區(qū)分孔、刮痕和顆粒，且進一步區(qū)分第一組成的墜塵顆粒和第二組成的墜塵顆粒。