[發(fā)明專(zhuān)利]一種酸性污染水源的酸性檢測(cè)處理裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010881067.6
• 申請(qǐng)日: 2020-08-27
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111825194A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-10-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 于建家
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 杭州緒原科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C02F1/66
• 分類(lèi)號(hào): C02F1/66;G01N33/18
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

本發(fā)明公開(kāi)了一種酸性污染水源的酸性檢測(cè)處理裝置，包括檢出處理殼體，所述檢出處理殼體內(nèi)設(shè)有工作腔，所述工作腔后側(cè)內(nèi)壁固設(shè)有反應(yīng)容器，所述反應(yīng)容器內(nèi)設(shè)有反應(yīng)腔，所述反應(yīng)腔內(nèi)設(shè)有液面控制組件，所述液面控制組件包括設(shè)于所述反應(yīng)腔右側(cè)內(nèi)壁且和所述工作腔相通的聯(lián)動(dòng)通孔、相對(duì)所述聯(lián)動(dòng)通孔上下對(duì)稱(chēng)地設(shè)于所述反應(yīng)腔右側(cè)內(nèi)壁的兩個(gè)聯(lián)動(dòng)滑槽，本發(fā)明能根據(jù)反應(yīng)腔內(nèi)的液面，自動(dòng)地控制污水進(jìn)入反應(yīng)腔的量以及飽和碳酸鈉溶液進(jìn)入反應(yīng)腔內(nèi)的量，從而保證每次檢測(cè)處理時(shí)數(shù)據(jù)的精度，而且整個(gè)檢測(cè)過(guò)程可自動(dòng)完成，減少了實(shí)驗(yàn)員直接接觸的可能，減少了酸性污水對(duì)實(shí)驗(yàn)人員的安全隱患。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及污染水源檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種酸性污染水源的酸性檢測(cè)處理裝置。

背景技術(shù)

酸性廢水是所有工業(yè)廢水中最常見(jiàn)的一種廢水，若不進(jìn)行回收利用和必要的處理，直接排放，將嚴(yán)重地腐蝕管道、渠道和水工構(gòu)筑物。而不同水源處的酸度不同，在處理大量的酸性污水前常常需要進(jìn)行取樣對(duì)酸度進(jìn)行檢測(cè)，并確定中和劑的使用量。一般檢測(cè)都采用人工的方式，但人工的方式不僅意味著實(shí)驗(yàn)員有可能直接接觸到酸性污水，具有一定的安全隱患，且人工的方式常常存在較大的誤差，本發(fā)明闡明的一種能解決上述問(wèn)題的裝置。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種酸性污染水源的酸性檢測(cè)處理裝置，用于克服現(xiàn)有技術(shù)中的上述缺陷。

根據(jù)本發(fā)明的一種酸性污染水源的酸性檢測(cè)處理裝置，包括檢出處理殼體，所述檢出處理殼體內(nèi)設(shè)有工作腔，所述工作腔后側(cè)內(nèi)壁固設(shè)有反應(yīng)容器，所述反應(yīng)容器內(nèi)設(shè)有反應(yīng)腔，所述反應(yīng)腔內(nèi)設(shè)有液面控制組件，所述液面控制組件包括設(shè)于所述反應(yīng)腔右側(cè)內(nèi)壁且和所述工作腔相通的聯(lián)動(dòng)通孔、相對(duì)所述聯(lián)動(dòng)通孔上下對(duì)稱(chēng)地設(shè)于所述反應(yīng)腔右側(cè)內(nèi)壁的兩個(gè)聯(lián)動(dòng)滑槽、滑動(dòng)連接于所述聯(lián)動(dòng)滑槽且延伸至所述聯(lián)動(dòng)通孔內(nèi)的滑動(dòng)板、連接于所述滑動(dòng)板和所述聯(lián)動(dòng)滑槽遠(yuǎn)離對(duì)稱(chēng)中心一端的第一彈簧、固設(shè)于上側(cè)所述滑動(dòng)板下端且和下側(cè)所述滑動(dòng)板上端固定連接的浮塊、固設(shè)于所述工作腔后側(cè)內(nèi)壁的電阻，所述工作腔內(nèi)還設(shè)有廢水進(jìn)入組件，所述工作腔內(nèi)還設(shè)有檢測(cè)組件。

可優(yōu)選地，所述工作腔下側(cè)內(nèi)壁固設(shè)有電機(jī)，所述電機(jī)上端動(dòng)力連接有向上延伸至所述工作腔上側(cè)內(nèi)壁的第一傳動(dòng)軸。

可優(yōu)選地，所述反應(yīng)腔下側(cè)內(nèi)壁設(shè)有密封塞。

其中，所述液面控制組件還包括固設(shè)于所述反應(yīng)容器右端的電源，且所述電源正極觸點(diǎn)和浮塊之間連接有電線(xiàn)，所述工作腔左側(cè)內(nèi)壁固設(shè)有副電磁鐵，所述副電磁鐵正極觸點(diǎn)和電阻下端觸點(diǎn)間連接有電線(xiàn)，所述電源負(fù)極觸點(diǎn)和副電磁鐵負(fù)極觸點(diǎn)之間連接有電線(xiàn)，所述工作腔左側(cè)內(nèi)壁固設(shè)有向右延伸的轉(zhuǎn)軸支架，且所述轉(zhuǎn)軸支架和所述第一傳動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)連接，所述反應(yīng)容器左端設(shè)有位于所述轉(zhuǎn)軸支架上側(cè)且能上下滑動(dòng)的水平滑動(dòng)支架，所述水平滑動(dòng)支架內(nèi)設(shè)有上下貫通的貫通孔，且所述第一傳動(dòng)軸位于所述貫通孔內(nèi)，所述工作腔上側(cè)內(nèi)壁固設(shè)有主電磁鐵，所述工作腔后側(cè)內(nèi)壁設(shè)有能上下滑動(dòng)的滑動(dòng)帶磁支架，所述滑動(dòng)帶磁支架和所述主電磁鐵之間連接有第二彈簧，所述滑動(dòng)帶磁支架上轉(zhuǎn)動(dòng)連接有左右延伸的第二傳動(dòng)軸，位于所述滑動(dòng)帶磁支架左側(cè)的所述第二傳動(dòng)軸上固設(shè)有第一錐齒輪，所述工作腔左側(cè)內(nèi)壁設(shè)有能上下滑動(dòng)且位于所述副電磁鐵下側(cè)的聯(lián)動(dòng)帶磁支架，所述聯(lián)動(dòng)帶磁支架和所述轉(zhuǎn)軸支架之間連接有第三彈簧，所述聯(lián)動(dòng)帶磁支架右端固設(shè)有和所述水平滑動(dòng)支架上端固定連接的連接支架，所述連接支架上轉(zhuǎn)動(dòng)連接有上下延伸且和所述第一傳動(dòng)軸花鍵連接的第三傳動(dòng)軸，位于所述連接支架上側(cè)的所述第三傳動(dòng)軸上固設(shè)有能和所述第一錐齒輪嚙合連接的第二錐齒輪，位于所述水平滑動(dòng)支架和所述轉(zhuǎn)軸支架之間的所述第一傳動(dòng)軸上固設(shè)有主動(dòng)摩擦輪，所述轉(zhuǎn)軸支架上轉(zhuǎn)動(dòng)連接有位于所述第一傳動(dòng)軸右側(cè)且山下延伸的第四傳動(dòng)軸，位于所述轉(zhuǎn)軸支架上側(cè)的所述轉(zhuǎn)軸支架上固設(shè)有和所述主動(dòng)摩擦輪摩擦連接的從動(dòng)摩擦輪，所述水平滑動(dòng)支架內(nèi)設(shè)有位于所述貫通孔右側(cè)且和所述工作腔相通的配合槽，所述配合槽內(nèi)壁滑動(dòng)連接有向下延伸至所述工作腔內(nèi)的配合滑塊，所述配合滑塊和所述配合槽上側(cè)內(nèi)壁之間連接有第四彈簧，所述配合滑塊下端轉(zhuǎn)動(dòng)連接有向下延伸且和所述第四傳動(dòng)軸花鍵連接的第五傳動(dòng)軸。