[發明專利]高抗彎折性的ITO透明導電膜在審
| 申請號: | 202010880211.4 | 申請日: | 2020-08-27 |
| 公開(公告)號: | CN111916250A | 公開(公告)日: | 2020-11-10 |
| 發明(設計)人: | 呂敬波;于佩強;陳超;胡業新;宋尚金 | 申請(專利權)人: | 江蘇日久光電股份有限公司 |
| 主分類號: | H01B5/14 | 分類號: | H01B5/14 |
| 代理公司: | 蘇州科仁專利代理事務所(特殊普通合伙) 32301 | 代理人: | 郭楊 |
| 地址: | 215000 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 高抗彎折性 ito 透明 導電 | ||
本發明公開了一種高抗彎折性的ITO透明導電膜,包括基材層,所述基材層的一面由內向外依次設有第一底涂層、第一加硬層和氧化銦錫層,其中所述第一底涂層為丙烯酸樹脂層、聚氨酯樹脂層或者有機硅樹脂層,厚度為30~200nm,折射率為1.55?1.67;所述第一加硬層為丙烯酸樹脂層,厚度為15~50nm,折射率為1.47~1.58,硬度為鉛筆硬度H以上;所述氧化銦錫層通過磁控濺射附著于第一加硬層表面,厚度為15~50nm,銦錫比為90:10~93:7,結晶后電阻25~170歐姆。本案通過在基材層第一底涂層和第一加硬層后,再濺射一層導電氧化銦錫層,這樣能增加整體ITO導電膜的彈性和韌性,使ITO導電膜具有更好的抗彎折性,加工階段經彎折后,表面也不會龜裂,從而確保ITO的面電阻穩定性。
技術領域
本發明涉及導電膜領域,尤其涉及一種高抗彎折性的ITO透明導電膜。
背景技術
近年來,隨著半導體制造技術及光伏技術突飛猛進的發展,諸如平面顯示器、觸控屏、窗膜、聚合物分散液晶、太陽能電池等技術迅速發展和完善,這些新技術都需要用到透明導電膜作為電極、受光面或者電磁脈沖屏蔽膜。以觸控屏為例,觸控屏中常用的幾種類型如電阻式觸控屏、表面電容式觸控屏、感應電容式觸控屏都需要利用透明導電膜作為電極材料。
透明導電膜公認的定義為在可見光范圍為透明的,并且具有較低的電阻率。目前常用的透明導電膜有ITO膜、AZO膜以及氧化鋁等。
在常規的透明導電膜里,ITO(氧化銦錫混合物)膜是最常用,也是性能最好的一種。ITO是一種氧化錫與三氧化二銦的混合物,不僅導電性和透明性優于其他諸如:AZO(摻鋁氧化鋅)、三氧化二鋁等材料,而且具有其他透明導電膜所不具備的高硬度與高化學穩定性,所以,目前在大規模生產中,大多選用ITO作為透明導電膜的材料。在膜層設計中,要得到更好的透過率,空氣、薄膜、基底的折射率必須進行良好的匹配,對單層單一折射率鍍膜而言,如果鍍膜折射率的平方等于空氣折射率乘以基底折射率,那么理論上鍍膜的反射率將會降至最低。
但現有的ITO膜抗彎折性差,在ITO膜后加工階段容易產生細裂紋,造成面電阻不穩定,隨著時間過程面電阻變高,觸摸屏產品靈敏度下降,甚至于完全不能觸摸。
發明內容
本發明目的是:提供一種高抗彎折性的ITO透明導電膜,其整體具有更好的抗彎折性,加工階段經彎折后,表面也不會龜裂,從而確保ITO的面電阻穩定性,并提高由其加工獲得的觸摸屏類產品的質量。
本發明的技術方案是這樣實現的:一種高抗彎折性的ITO透明導電膜,包括基材層,所述基材層的一面由內向外依次設有第一底涂層、第一加硬層和氧化銦錫層,
其中所述第一底涂層為丙烯酸樹脂層、聚氨酯樹脂層或者有機硅樹脂層,厚度為30~200nm,折射率為1.55-1.67;
所述第一加硬層為丙烯酸樹脂層,厚度為15~50nm,折射率為1.47~1.58,硬度為鉛筆硬度H以上;
所述氧化銦錫層通過磁控濺射附著于第一加硬層表面,厚度為15~50nm,銦錫比為90:10~93:7,結晶后電阻25~170歐姆。
在某些實施方式中,所述氧化銦錫層的厚度為18nm,銦錫比為93:7。
在某些實施方式中,所述基材層的另一面上涂布有第二底涂層,而在第二底涂層上涂布有第二加硬層,第二加硬層上則貼附有所述保護膜,
其中所述第二底涂層為丙烯酸樹脂層、聚氨酯樹脂層或者有機硅樹脂層,厚度為30~200nm,折射率為1.55~1.59;
所述第二加硬層為丙烯酸樹脂層,厚度為0.3~3μm,折射率1.47~1.54,硬度為鉛筆硬度1H~3H。
在某些實施方式中,所述第一加硬層厚度為30nm,折射率為1.48,硬度為鉛筆硬度HB-1H。
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