[發(fā)明專利]一種基于圓盤超表面結構窄帶濾光的集成化光電探測器件在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010879039.0 | 申請日: | 2020-08-27 |
| 公開(公告)號: | CN112054069A | 公開(公告)日: | 2020-12-08 |
| 發(fā)明(設計)人: | 吳志鵬;王琦龍;翟雨生 | 申請(專利權)人: | 東南大學 |
| 主分類號: | H01L31/0216 | 分類號: | H01L31/0216;H01L31/0224;H01L31/0232;H01L31/102 |
| 代理公司: | 南京眾聯(lián)專利代理有限公司 32206 | 代理人: | 薛雨妍 |
| 地址: | 210096 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 圓盤 表面 結構 窄帶 濾光 集成化 光電 探測 器件 | ||
1.一種基于圓盤超表面結構窄帶濾光的集成化光電探測器件,其特征在于:該探測器件結構自下而上分別為:底部電極結構(1),半導體層(2),金屬薄膜層(3),介質層(4)以及頂部的金屬圓盤結構(5)。
2.如權利要求1所述的一種基于圓盤超表面結構窄帶濾光的集成化光電探測器件,其特征在于:所述的圓盤超表面結構(5)在空間分布上呈正六邊形分布,圓盤厚度為10nm~200nm,圓盤周期為200~2000nm,圓盤半徑為80~900nm,其材料為金、銀、鋁、鈀、銅中的其中一種或多種上述金屬組合的合金。
3.如權利要求1所述的一種基于圓盤超表面結構窄帶濾光的集成化光電探測器件,其特征在于:所述的介質層(4)的厚度為20nm~500nm,其材料為二氧化硅、氮化硅、三氧化二鋁、氧化鋅、二氧化鈦、氧化鉿或者氟化鎂中的一種或者多種。
4.如權利要求1所述的一種基于圓盤超表面結構窄帶濾光的集成化光電探測器件,其特征在于:所述的金屬薄膜層(3)厚度為10nm~80nm,其材料為金、銀、鋁、鈀、銅中一種或多種金屬的合金,其作用不僅能夠做為光學波導實現(xiàn)窄帶分光,同時可以做為底部半導體層(2)的電極,與底部電極結構(1)形成對電極,實現(xiàn)光電流的探測功能。
5.如權利要求1所述的一種基于圓盤超表面結構窄帶濾光的集成化光電探測器件,其特征在于:所述的半導體層(2)的厚度為100nm~5000nm,其材料為氧化鋅、氧化鈦、硅、鍺、砷化鎵、磷化銦或銦鎵砷,其結構為任意一種上述材料的層狀結構或者多種上述材料疊加組成PN結型或者PIN結型結構。
6.如權利要求1所述的一種基于圓盤超表面結構窄帶濾光的集成化光電探測器件,其特征在于:所述底部電極結構(1)的厚度為50 nm以上,其材料為金、銀、銅或者鋁中的一種或者多種上述金屬組成的合金。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于東南大學,未經(jīng)東南大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010879039.0/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





