[發(fā)明專利]一種基于圓概率誤差的多測量站布局方法及系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010878221.4 | 申請日: | 2020-08-27 |
| 公開(公告)號: | CN111967197A | 公開(公告)日: | 2020-11-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 胡正;郭利強(qiáng);李樹芳;董守拯 | 申請(專利權(quán))人: | 中電科儀器儀表有限公司 |
| 主分類號: | G06F30/27 | 分類號: | G06F30/27;G06N3/12;G06F111/04;G06F111/08 |
| 代理公司: | 濟(jì)南圣達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 37221 | 代理人: | 李琳 |
| 地址: | 266555 山*** | 國省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 概率 誤差 測量 布局 方法 系統(tǒng) | ||
1.一種基于圓概率誤差的多測量站布局方法,其特征在于,包括:
對輻射源定位區(qū)域進(jìn)行網(wǎng)格化,獲取每個(gè)網(wǎng)格點(diǎn)對應(yīng)的圓概率誤差;
以最小化圓概率誤差之和為布局目標(biāo)函數(shù),以測量站布局區(qū)域?yàn)榧s束條件,采用遺傳算法求解布局目標(biāo)函數(shù),得到每個(gè)對應(yīng)測量站的位置,以此對多個(gè)測量站進(jìn)行布局。
2.如權(quán)利要求1所述的一種基于圓概率誤差的多測量站布局方法,其特征在于,所述圓概率誤差指目標(biāo)落入給定區(qū)域內(nèi)概率為50%的誤差分布圓半徑,若水平定位(x,y)上誤差半徑為r的圓內(nèi)出現(xiàn)的概率為50%,那么半徑r稱為圓概率誤差。
3.如權(quán)利要求1所述的一種基于圓概率誤差的多測量站布局方法,其特征在于,所述圓概率誤差為:
其中,和是定位誤差協(xié)方差矩陣的對角線上的元素。
4.如權(quán)利要求1所述的一種基于圓概率誤差的多測量站布局方法,其特征在于,對測量站布局區(qū)域進(jìn)行區(qū)域劃分,將測量站布局區(qū)域的布局優(yōu)化問題轉(zhuǎn)化為多個(gè)布局子區(qū)域的布局優(yōu)化子問題。
5.如權(quán)利要求4所述的一種基于圓概率誤差的多測量站布局方法,其特征在于,在測量站布局區(qū)域的邊界上,選取兩個(gè)距離最遠(yuǎn)的位置布置兩個(gè)測量站,將測量站布局區(qū)域的布局優(yōu)化問題轉(zhuǎn)化為兩個(gè)布局子區(qū)域的布局優(yōu)化子問題。
6.如權(quán)利要求4所述的一種基于圓概率誤差的多測量站布局方法,其特征在于,當(dāng)測量站N為偶數(shù)時(shí),區(qū)域劃分后求解兩個(gè)N-2維的布局優(yōu)化子問題;當(dāng)測量站N為奇數(shù)時(shí),區(qū)域劃分后求解N-1維和N-3維的布局優(yōu)化子問題。
7.一種基于圓概率誤差的多測量站布局系統(tǒng),其特征在于,包括:
定位模塊,用于對輻射源定位區(qū)域進(jìn)行網(wǎng)格化,獲取每個(gè)網(wǎng)格點(diǎn)對應(yīng)的圓概率誤差;
布局模塊,用于以最小化圓概率誤差之和為布局目標(biāo)函數(shù),以測量站布局區(qū)域?yàn)榧s束條件,采用遺傳算法求解布局目標(biāo)函數(shù),得到每個(gè)對應(yīng)測量站的位置,以此對多個(gè)測量站進(jìn)行布局。
8.如權(quán)利要求7所述的一種基于圓概率誤差的多測量站布局系統(tǒng),其特征在于,所述布局模塊中,對測量站布局區(qū)域進(jìn)行區(qū)域劃分,將測量站布局區(qū)域的布局優(yōu)化問題轉(zhuǎn)化為多個(gè)布局子區(qū)域的布局優(yōu)化子問題。
9.一種電子設(shè)備,其特征在于,包括存儲器和處理器以及存儲在存儲器上并在處理器上運(yùn)行的計(jì)算機(jī)指令,所述計(jì)算機(jī)指令被處理器運(yùn)行時(shí),完成權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的方法。
10.一種計(jì)算機(jī)可讀存儲介質(zhì),其特征在于,用于存儲計(jì)算機(jī)指令,所述計(jì)算機(jī)指令被處理器執(zhí)行時(shí),完成權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的方法。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中電科儀器儀表有限公司,未經(jīng)中電科儀器儀表有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010878221.4/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





