[發明專利]具有高壓電離水分子凈化模塊的洗浴柜

在審

• 申請號: 202010876679.6
• 申請日: 2020-08-27
• 公開（公告）號: CN111870153A
• 公開（公告）日: 2020-11-03
• 發明（設計）人: 陳千智;邱慶彬
• 申請（專利權）人: 平流層復合水離子（深圳）有限公司
• 主分類號: A47K1/02
• 分類號: A47K1/02;B01D53/32;A61L2/14;A61L2/08;A61L2/18;A61L2/02;A61L101/02
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1.一種具有高壓電離水分子凈化模塊的洗浴柜，其特征在于：包括洗浴柜體、內置風扇的高壓電離水分子凈化模塊、整機控制模塊、電源插頭、插頭電線及數顯面板，所述洗浴柜體設置有貫穿所述洗浴柜體內腔的風道，所述洗浴柜體設置有整機進風口，所述高壓電離水分子凈化模塊安裝于所述洗浴柜體的內壁，且所述高壓電離水分子凈化模塊的輸入端正對所述整機進風口，所述高壓電離水分子凈化模塊的輸出端與所述風道的輸入端相接通，所述洗浴柜體上還設置有連通所述風道的輸出端的整機出風口，所述數顯面板安裝于所述洗浴柜體的外側壁，所述整機控制模塊安裝于所述洗浴柜體內，所述高壓電離水分子凈化模塊及所述數顯面板均與所述整機控制模塊電性相接，所述洗浴柜體上開設有插頭線孔，所述插頭電線的一端與所述整機控制模塊電性相接，所述插頭電線的另一端穿過所述插頭線孔與所述電源插頭電性相接，所述高壓電離水分子凈化模塊為納米水離子模塊或者納米水離子與負離子復合模塊或者靜電水霧化模塊或者水離子模塊或者羥基自由基水分子團發生裝置或者納米水離子光觸媒模塊或者納米水離子電觸媒模塊或者納米水離子與納米銀離子復合模塊。

2.如權利要求1所述的具有高壓電離水分子凈化模塊的洗浴柜，其特征在于：所述洗浴柜體的頂部設置有洗面臺，所述洗面臺安裝有盥洗盤，所述盥洗盤的后側設置有水龍頭。

3.如權利要求1所述的具有高壓電離水分子凈化模塊的洗浴柜，其特征在于：所述整機進風口設置于所述洗浴柜體的后壁的一側，所述洗浴柜體的內腔靠近所述整機進風口的一側設置儲物格，所述洗浴柜體于所述儲物格的開口處設置儲物格門，所述洗浴柜體的內腔的另一側設置有儲物抽屜，所述儲物抽屜與所述儲物格之間開設有氣體循環開口，所述儲物格通過所述氣體循環開口與所述儲物抽屜相接通形成所述風道，所述整機出風口設置于所護儲物抽屜上。

4.如權利要求1至權利要求3任一項所述的具有高壓電離水分子凈化模塊的洗浴柜，其特征在于：所述整機控制模塊還設置無線wifi控制單元、紅外線控制單元及微波控制單元。