[發(fā)明專利]一種鈦合金EBSD試樣的電解拋光液及電解拋光工藝在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010876494.5 | 申請(qǐng)日: | 2020-08-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN114113178A | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-03-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉祥宇;唱麗麗;劉常升;邢飛 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 遼寧增材制造產(chǎn)業(yè)技術(shù)研究院有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N23/203 | 分類號(hào): | G01N23/203;G01N23/20008;G01N1/32;C25F3/26 |
| 代理公司: | 北京卓特專利代理事務(wù)所(普通合伙) 11572 | 代理人: | 段宇 |
| 地址: | 110000 遼寧省*** | 國(guó)省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 鈦合金 ebsd 試樣 電解 拋光 工藝 | ||
本發(fā)明公開(kāi)了一種鈦合金EBSD試樣的電解拋光液及電解拋光工藝,屬于鈦合金表面處理技術(shù)領(lǐng)域,電解拋光液包括如下質(zhì)量份數(shù)的組分:高氯酸4~6份,正丁醇30~40份,甲醇45~55份,過(guò)氧化氫溶液9~11份;電解拋光工藝為依次進(jìn)行砂紙打磨、機(jī)械拋光及電解拋光,電解拋光結(jié)束后,將鈦合金試樣放入無(wú)水乙醇的試劑中進(jìn)行沖洗,隨后利用超聲波進(jìn)行清洗,最后用風(fēng)筒將其試樣表面吹干并妥善保存。本發(fā)明中的電解拋光液材料來(lái)源廣泛,成本低廉,配制簡(jiǎn)單,可以有效的去除鈦合金表面的應(yīng)力層及氧化層,拋光后的表面光亮而清潔;拋光工藝操作簡(jiǎn)便,標(biāo)定率高且效果穩(wěn)定,便于廣泛推廣。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及鈦合金表面處理技術(shù)領(lǐng)域,具體的涉及一種用于制備鈦合金EBSD試樣的電解拋光液及電解拋光工藝。
背景技術(shù)
鈦合金由于具有高強(qiáng)度,高密度,質(zhì)量輕而廣泛用于航空航天領(lǐng)域,隨著近年來(lái)航空航天的發(fā)展,鈦合金的研究也越來(lái)越廣泛。隨著研究的越來(lái)越深入,用于研究晶體學(xué)取向,織構(gòu)的電子背散射衍射(EBSD)技術(shù)越來(lái)越受到科研工作的青睞,相比于透射電鏡技術(shù),其制樣相對(duì)容易,但是由于EBSD只發(fā)生在試樣表面的淺表層,所以對(duì)表面的應(yīng)力層非常敏感,要求表面無(wú)應(yīng)力,無(wú)腐蝕坑;試樣表面的應(yīng)力層直接影響著衍射花樣標(biāo)定率的高低,導(dǎo)致EBSD試樣不容易制備,目前國(guó)內(nèi)公開(kāi)的鈦合金電解拋光液存在成分復(fù)雜、不易配制的問(wèn)題,且拋光工藝存在標(biāo)定率穩(wěn)定性較差的問(wèn)題。
發(fā)明內(nèi)容
1.要解決的技術(shù)問(wèn)題
本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題在于提供一種用于制備鈦合金試樣的電解拋光液及電解拋光工藝,其電解拋光液材料來(lái)源廣泛,成本低廉,配制簡(jiǎn)單,可以有效的去除鈦合金表面的應(yīng)力層及氧化層,拋光后的表面光亮而清潔;拋光工藝操作簡(jiǎn)便,標(biāo)定率高且效果穩(wěn)定,便于廣泛推廣。
2.技術(shù)方案
為解決上述問(wèn)題,本發(fā)明采取如下技術(shù)方案:
一種鈦合金EBSD試樣的電解拋光液,包括如下質(zhì)量份數(shù)的組分:高氯酸4~6份,正丁醇30~40份,甲醇45~55份,過(guò)氧化氫溶液9~11份。
優(yōu)選地,所述電解拋光液包括如下質(zhì)量份數(shù)的組分:高氯酸5份,正丁醇35份,甲醇50份,過(guò)氧化氫溶液10份。
本發(fā)明還公開(kāi)了一種鈦合金EBSD試樣的電解拋光工藝,包括如下步驟:
(1)將經(jīng)線切割的鈦合金試樣鑲嵌后依次經(jīng)240#,400#,600#,800#,1000#,1200#,1500#,2000#,3000#,5000#的砂紙進(jìn)行機(jī)械打磨;且每換一張砂紙將鈦合金試樣旋轉(zhuǎn)90°進(jìn)行打磨,確保上一層劃痕被覆蓋;
(2)將經(jīng)過(guò)機(jī)械打磨的鈦合金試樣在拋光機(jī)上進(jìn)行拋光,轉(zhuǎn)速調(diào)至300r/min,拋光的過(guò)程中不停地滴入預(yù)先配制好的含有少量過(guò)氧化氫的SiO2懸浮液;隨著拋光過(guò)程的進(jìn)行,轉(zhuǎn)速逐漸調(diào)至100r/min~150r/min,直至拋出光亮鏡面,之后小心地將鈦合金試樣上的鑲嵌物去掉,以防劃傷光亮鏡面;
(3)采用預(yù)先配制好的電解拋光液對(duì)經(jīng)過(guò)機(jī)械拋光的鈦合金試樣進(jìn)行電解拋光,具體如下:
(3-1)將電解拋光液倒入燒杯中,電解拋光液的體積取決于試樣的大小,以完全能浸沒(méi)試樣即可,并將燒杯放入盛有液氮的器皿中;
(3-2)以不銹鋼片為陰極,將其與直流電源的負(fù)極相連,并浸入盛有電解拋光液的燒杯中;
(3-3)將不進(jìn)行電解拋光的表面涂上指甲油以防止導(dǎo)電,然后以鈦合金試樣為陽(yáng)極,使用鑷子夾持試樣使其與直流電源的正極相連,將直流電源的電壓調(diào)至25V~28V,通過(guò)控制加入液氮的多少使電解拋光液的溫度控制在-25℃~25℃,隨后進(jìn)行電解拋光,將鈦合金試樣需要拋光的表面平行于不銹鋼片浸入電解拋光液中;電解過(guò)程中電流控制在1.5A~2A左右,拋光時(shí)間控制在5s~15s;
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- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
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G01N23-02 .通過(guò)使輻射透過(guò)材料
G01N23-20 .利用輻射的衍射,例如,用于測(cè)試晶體結(jié)構(gòu);利用輻射的反射
G01N23-22 .通過(guò)測(cè)量二次發(fā)射
G01N23-221 ..利用活化分析法
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