[發明專利]一種隨機光學重建顯微成像系統

在審

• 申請號: 202010866712.7
• 申請日: 2020-08-25
• 公開（公告）號: CN112014318A
• 公開（公告）日: 2020-12-01
• 發明（設計）人: 楊志剛;張建國;顧振宇;屈軍樂
• 申請（專利權）人: 深圳大學
• 主分類號: G01N21/01
• 分類號: G01N21/01;G01N21/64
• 代理公司: 北京三聚陽光知識產權代理有限公司 11250
• 代理人: 李靜玉

1.一種隨機光學重建顯微成像系統，其特征在于，包括：

光源模塊，用于產生能夠激發染料發生自發閃爍的激發光；

激光調制模塊，所述激光調制模塊包括濾波器，所述濾波器用于對所述光源模塊發出的激發光進行調制后輸出；

顯微成像模塊，所述顯微成像模塊包括成像裝置，所述成像裝置用于染料標記的待測樣品被調制后的激發光激發時的成像；

控制模塊，所述控制模塊用于控制所述濾波器的工作狀態和所述成像裝置的曝光狀態同步。

2.根據權利要求1所述的隨機光學重建顯微成像系統，其特征在于，所述控制模塊包括：濾波器控制器和微處理器，

所述微處理器分別調用所述濾波器控制器中的濾波器控制參數和所述成像裝置中的成像幀率，根據所述濾波器控制參數和所述成像幀率分別生成第一控制指令和第二控制指令；

所述濾波器控制器接收所述第一控制指令，根據所述第一控制指令控制所述濾波器工作；

所述微處理器根據所述第二控制指令控制所述成像裝置工作。

3.根據權利要求1所述的隨機光學重建顯微成像系統，其特征在于，所述濾波器為聲光可調諧濾波器，所述成像裝置為EMCCD相機。

4.根據權利要求2所述的隨機光學重建顯微成像系統，其特征在于，所述第一控制指令包括控制所述濾波器處于開啟狀態的第一持續時間和處于關閉狀態的第二持續時間，所述第二控制指令包括所述成像裝置的曝光時間和等待時間，所述第一持續時間和所述曝光時間相等，所述第二持續時間和所述等待時間相等。

5.根據權利要求2所述的隨機光學重建顯微成像系統，其特征在于，所述第一控制指令和第二控制指令采用LabVIEW語言編寫。

6.根據權利要求2所述的隨機光學重建顯微成像系統，其特征在于，所述濾波器控制器控制所述濾波器的調制光通道和光功率的大小。

7.根據權利要求1所述的隨機光學重建顯微成像系統，其特征在于，所述激光調制模塊還包括：依次設置的濾光輪、第一擴束鏡、第二擴束鏡以及聚焦透鏡，所述濾波器設置在所述濾光輪和所述第一擴束鏡之間。

8.根據權利要求7所述的隨機光學重建顯微成像系統，其特征在于，所述激光調制模塊還包括：第一光闌、第二光闌、第三光闌以及第四光闌，所述第一光闌設置在所述濾光輪之前，所述第二光闌設置在所述濾光輪和所述濾波器之間，所述第三光闌設置在所述濾波器和所述第一擴束鏡之間，所述第四光闌設置在所述第二擴束鏡和所述聚焦透鏡之間。

9.根據權利要求7所述的隨機光學重建顯微成像系統，其特征在于，所述第一擴束鏡和所述第二擴束鏡之間的距離為第一擴束鏡的焦距和第二擴束鏡的焦距之和。

10.根據權利要求1所述的隨機光學重建顯微成像系統，其特征在于，所述顯微成像模塊包括：依次設置的二向色鏡和物鏡，所述激光調制模塊輸出的調制后的激發光依次通過所述二向色鏡和物鏡后激發待測樣品上的染料。