[發(fā)明專利]一種養(yǎng)殖場(chǎng)廢氣處理方法及處理設(shè)備在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010866669.4 | 申請(qǐng)日: | 2020-08-26 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN114100366A | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-03-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 馬中發(fā);王露;阮俞穎 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 陜西青朗萬(wàn)城環(huán)保科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | B01D53/88 | 分類號(hào): | B01D53/88;B01D53/46;B01D53/52;B01D53/58;B01D53/62;B01D53/44;B01D53/66 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 710065 陜西省西安市*** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 養(yǎng)殖場(chǎng) 廢氣 處理 方法 設(shè)備 | ||
1.一種養(yǎng)殖場(chǎng)廢氣處理方法及處理設(shè)備,應(yīng)用于廢氣處理設(shè)備中,其特征在于,包括:
獲取待處理氣體;
對(duì)所述待處理氣體進(jìn)行第一操作,得到第一氣體;
對(duì)所述第一氣體進(jìn)行目標(biāo)操作,得到目標(biāo)氣體;其中,所述第一操作與所述目標(biāo)操作不同;
確定所述目標(biāo)氣體小于或等于預(yù)設(shè)閾值時(shí),將所述目標(biāo)氣體排出。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的養(yǎng)殖場(chǎng)廢氣處理方法,其特征在于,所述第一操作為過(guò)濾操作,所述對(duì)所述待處理氣體進(jìn)行第一操作,得到第一氣體,包括:
將所述待處理氣體通過(guò)過(guò)濾器,得到過(guò)濾后的氣體為第一氣體。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的養(yǎng)殖場(chǎng)廢氣處理方法,其特征在于,所述對(duì)所述第一氣體進(jìn)行目標(biāo)操作,得到目標(biāo)氣體,包括:
基于微波和紫外燈管一對(duì)所述第一氣體進(jìn)行第二操作,得到第二氣體;
基于所述微波和紫外燈管二對(duì)所述第二氣體進(jìn)行目標(biāo)操作,得到目標(biāo)氣體。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的養(yǎng)殖場(chǎng)廢氣處理方法,其特征在于,所述確定所述目標(biāo)氣體小于或等于預(yù)設(shè)閾值時(shí),將所述目標(biāo)氣體排出,包括:
獲取目標(biāo)氣體的特征參數(shù);其中,所述特征參數(shù)包括所述目標(biāo)氣體的濃度;
確定所述目標(biāo)氣體的濃度小于或等于預(yù)設(shè)閾值時(shí),將所述目標(biāo)氣體排出。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的養(yǎng)殖場(chǎng)廢氣處理方法,其特征在于,所述方法還包括:
確定所述目標(biāo)氣體的濃度大于預(yù)設(shè)閾值時(shí),將所述目標(biāo)氣體通過(guò)出氣口接入下一個(gè)廢氣處理裝置的進(jìn)氣口。
6.一種養(yǎng)殖場(chǎng)廢氣處理設(shè)備,其特征在于,該設(shè)備包括:反應(yīng)腔、微波源、進(jìn)氣罩、過(guò)濾器、金屬網(wǎng)、紫外燈一、紫外燈二、燈架、風(fēng)機(jī)和出氣罩;
其中,所述微波源設(shè)置在所述反應(yīng)腔的頂部;所述進(jìn)氣罩3設(shè)置在所述反應(yīng)腔的進(jìn)氣口處;所述紫外燈一和所述紫外燈二通過(guò)所述燈架固定設(shè)置在所述反應(yīng)腔內(nèi);所述紫外燈一與所述紫外燈二不同,且所述紫外燈一與所述紫外燈二之間設(shè)置金屬網(wǎng);所述風(fēng)機(jī)設(shè)置在所述反應(yīng)腔1的出口處,處理后的氣體通過(guò)所述出氣罩排出。
7.一種養(yǎng)殖場(chǎng)廢氣處理裝置,其特征在于,所述裝置包括:獲取模塊、第一處理模塊、第二處理模塊和輸出模塊,
所述獲取模塊,用于獲取待處理氣體;
所述第一處理模塊,用于對(duì)所述待處理氣體進(jìn)行第一操作,得到第一氣體;
所述第二處理模塊,用于對(duì)所述第一氣體進(jìn)行目標(biāo)操作,得到目標(biāo)氣體;其中,所述第一操作與所述目標(biāo)操作不同;
所述輸出模塊,用于確定所述目標(biāo)氣體小于或等于預(yù)設(shè)閾值時(shí),將所述目標(biāo)氣體排出。
8.一種電子設(shè)備,其特征在于,所述電子設(shè)備包括:包括處理器、存儲(chǔ)器,所述存儲(chǔ)器用于存儲(chǔ)指令,所述處理器用于執(zhí)行所述存儲(chǔ)器中存儲(chǔ)的指令,以使所述裝置執(zhí)行如權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的養(yǎng)殖場(chǎng)廢氣處理方法。
9.一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì),其特征在于,所述計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)中存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)執(zhí)行指令,當(dāng)所述指令被執(zhí)行時(shí),使得計(jì)算機(jī)執(zhí)行如權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的養(yǎng)殖場(chǎng)廢氣處理方法。
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