[發(fā)明專利]一種選擇性激光燒結(jié)3D打印用高分子復(fù)合材料及其制備方法與應(yīng)用

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010862372.0
• 申請(qǐng)日: 2020-08-25
• 公開（公告）號(hào): CN112048175B
• 公開（公告）日: 2022-05-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 岳利;俞國金;周佩先
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 湖南創(chuàng)瑾科技有限公司
• 主分類號(hào): C08L77/06
• 分類號(hào): C08L77/06;C08L77/02;C08L25/06;C08K13/06;C08K9/10;C08K3/36;C08K3/22;C08K5/544;C08K5/526;B33Y70/10
• 代理公司: 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 44205
• 代理人: 肖云

1.一種選擇性激光燒結(jié)3D打印用高分子復(fù)合材料，其特征在于：包括如下重量份的制備原料：高分子材料100份、低粘度填料3～8份、無機(jī)填料5～10份、光吸收劑0.1～2份、抗氧劑0.05～0.15份和偶聯(lián)劑0.2～1份；

其中，所述低粘度填料為 相對(duì)黏度在2.25的六臂星型聚苯乙烯，所述無機(jī)填料表面包覆有淀粉。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的選擇性激光燒結(jié)3D打印用高分子復(fù)合材料，其特征在于：所述高分子材料選自尼龍11、尼龍12、尼龍6、尼龍66或尼龍610中的至少一種。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的選擇性激光燒結(jié)3D打印用高分子復(fù)合材料，其特征在于：所述淀粉為陽離子淀粉。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的選擇性激光燒結(jié)3D打印用高分子復(fù)合材料，其特征在于：所述光吸收劑選自箐類染料、金屬絡(luò)合物染料、醌型染料、偶氮染料、銦錫氧化物、錫銻氧化物、三氧化鎢、苯酮類、苯并三唑類或受阻胺類光吸收吸劑中的至少一種。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的選擇性激光燒結(jié)3D打印用高分子復(fù)合材料，其特征在于：所述抗氧劑為受阻酚類抗氧劑和亞磷酸酯類抗氧劑組成的復(fù)合抗氧劑。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的選擇性激光燒結(jié)3D打印用高分子復(fù)合材料，其特征在于：所述受阻酚類抗氧劑的用量為所述復(fù)合抗氧劑總重量的30～50％。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的選擇性激光燒結(jié)3D打印用高分子復(fù)合材料，其特征在于：所述偶聯(lián)劑選自γ-氨丙基三乙氧基硅烷、3-氨丙基三甲氧基硅烷、N-(β-氨乙基)-γ-氨丙基三甲氧基硅烷、γ-(2、3-環(huán)氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、N-(β-氨乙基)-γ-氨丙基甲基二甲氧基硅烷、N-(β-氨乙基)-γ-氨丙基三乙氧基硅烷、N-(β-氨乙基)-γ-氨丙基三乙氧基硅烷中的至少一種。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的選擇性激光燒結(jié)3D打印用高分子復(fù)合材料，其特征在于：所述制備原料還包含成核劑。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的選擇性激光燒結(jié)3D打印用高分子復(fù)合材料，其特征在于：所述成核劑的添加量為制備原料總量的1～2％。

10.根據(jù)權(quán)利要求1至9任一項(xiàng)所述的選擇性激光燒結(jié)3D打印用高分子復(fù)合材料的制備方法，其特征在于：包括以下步驟：

將高分子材料、低粘度填料、無機(jī)填料和偶聯(lián)劑混合，擠出造粒，再經(jīng)磨粉后得初混材料；

再將所述初混材料與其他制備原料攪拌均勻，得所述選擇性激光燒結(jié)3D打印用高分子復(fù)合材料。

11.根據(jù)權(quán)利要求1至9任一項(xiàng)所述的選擇性激光燒結(jié)3D打印用高分子復(fù)合材料在電子電氣、工業(yè)模型或醫(yī)療器械領(lǐng)域中的應(yīng)用。