[發明專利]電子霧化裝置及其應用的氣簾形成結構

在審

• 申請號: 202010859124.0
• 申請日: 2020-08-24
• 公開（公告）號: CN113274593A
• 公開（公告）日: 2021-08-20
• 發明（設計）人: 雷桂林;徐丹;唐光武;姜茹;龔博學;程時毅;謝攀
• 申請（專利權）人: 深圳麥克韋爾科技有限公司
• 主分類號: A61M11/00
• 分類號: A61M11/00;A61M15/00
• 代理公司: 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙) 44280
• 代理人: 黎堅怡

1.一種應用于電子霧化裝置的氣簾形成結構，其特征在于，所述氣簾形成結構包括：

氣流通道，用于傳輸霧化氣；

第一進氣通道，連通所述氣流通道，所述第一進氣通道用于將外部氣流引入所述氣流通道，以在所述氣流通道的內壁和所述霧化氣之間形成阻隔氣流。

2.根據權利要求1所述的氣簾形成結構，其特征在于，所述阻隔氣流的流動方向平行于所述氣流通道的內壁。

3.根據權利要求1所述的氣簾形成結構，其特征在于，所述氣簾形成結構還包括連通所述氣流通道的出氣口，所述第一進氣通道靠近所述氣流通道的內壁，并且所述第一進氣通道的出口朝向所述出氣口。

4.根據權利要求3所述的氣簾形成結構，其特征在于，

所述氣簾形成結構為應用于所述電子霧化裝置的霧化吸嘴；

所述霧化吸嘴包括氣道體和管體，所述氣流通道設于所述氣道體和所述管體，所述管體遠離所述氣道體的一端為所述出氣口，所述第一進氣通道開設于所述氣道體靠近所述管體的內壁的位置，以在所述管體的內壁和所述霧化氣之間形成所述阻隔氣流。

5.根據權利要求4所述的氣簾形成結構，其特征在于，

所述氣道體包括第一氣道部、第二氣道部以及壁部，所述氣流通道還包括連通的入口通道和導氣通道，所述入口通道設于所述第一氣道部，所述導氣通道設于所述管體，所述第二氣道部套設于所述管體的外周，所述壁部銜接所述第一氣道部和所述第二氣道部且遮擋所述導氣通道；

其中，所述第一進氣通道開設于所述壁部。

6.根據權利要求5所述的氣簾形成結構，其特征在于，所述氣流通道包括多個第一進氣通道，所述多個第一進氣通道沿所述壁部的周向彼此間隔分布。

7.根據權利要求5所述的氣簾形成結構，其特征在于，

所述第一氣道部還包括通氣部和第一連接部，所述通氣部和所述壁部之間通過所述第一連接部銜接；

所述第一連接部的橫截面面積小于所述通氣部的橫截面面積，使得所述第一連接部的所在位置處形成有卡接口，所述卡接口用于卡接所述電子霧化裝置的霧化氣產生裝置。

8.根據權利要求7所述的氣簾形成結構，其特征在于，所述通氣部設有第二進氣通道，經所述第二進氣通道進入的氣流用于引導所述霧化氣從所述出氣口輸出。

9.根據權利要求8所述的氣簾形成結構，其特征在于，所述第二進氣通道包括進氣部和導氣部，所述進氣部用于將外部氣流引入所述導氣部，所述進氣部和所述氣流通道之間通過所述導氣部連通，所述導氣部的延伸方向平行于所述入口通道的延伸方向。

10.根據權利要求8所述的氣簾形成結構，其特征在于，所述卡接口的所在位置處形成有綜合氣道，所述綜合氣道分別連通所述第一進氣通道和所述第二進氣通道。

11.根據權利要求8所述的氣簾形成結構，其特征在于，

所述第一進氣通道與所述第二進氣通道的位置對應設置；或

所述第一進氣通道與所述第二進氣通道的位置錯開設置。

12.根據權利要求8所述的氣簾形成結構，其特征在于，

所述第一進氣通道的橫截面面積大于所述第二進氣通道的橫截面面積；和/或

所述第一進氣通道的數量大于所述第二進氣通道的數量。

13.根據權利要求3所述的氣簾形成結構，其特征在于，所述氣簾形成結構還包括第一導流部，所述第一導流部和所述氣流通道的內壁之間形成所述第一進氣通道，用于引導通過所述第一進氣通道引入的氣流沿所述氣流通道的內壁流動，以形成所述阻隔氣流。