[發明專利]低偏振高衍射效率金屬反射浸沒光柵及光學系統有效
| 申請號： | 202010856613.0 | 申請日： | 2020-08-24 |
| 公開（公告）號： | CN111708113B | 公開（公告）日： | 2020-11-17 |
| 發明（設計）人： | 潘俏;沈為民 | 申請（專利權）人： | 蘇州大學 |
| 主分類號： | G02B5/18 | 分類號： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 蘇州市中南偉業知識產權代理事務所(普通合伙) 32257 | 代理人： | 殷海霞 |
| 地址： | 215000 江蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 偏振 衍射 效率 金屬 反射 浸沒 光柵 光學系統 | ||
1.一種低偏振高衍射效率金屬反射浸沒光柵，其特征在于，包括：
光柵層，所述光柵層包括多個陣列排布的第一槽體；
介質層，其等厚度覆蓋在所述光柵層表面，所述介質層的厚度小于所述光柵層的槽深，所述介質層表面形成第二槽體；
金屬反射層，其位于所述介質層遠離所述光柵層的一側，所述金屬反射層的一側填覆所述第二槽體；
所述光柵層與所述介質層之間形成第一交界面，所述介質層與所述金屬反射層之間形成第二交界面；
入射光經所述光柵層的內部朝向所述第一交界面方向入射，并在所述第一交界面、介質層和第二交界面之間發生衍射效應以產生衍射光，所述衍射光經所述金屬反射層反射并從光柵層的內部出射；
其中，所述介質層的厚度a、所述光柵層的占空比f和所述金屬反射層的占空比t滿足約束條件：且d為光柵層的周期；
所述光柵層的周期d為700-1050nm，所述光柵層的槽深與周期比h為0.7-0.9，所述光柵層的占空比f的范圍為0.2-0.4；所述金屬反射層的占空比t為0.2-0.45；所述介質層的厚度a為80-250nm。
2.如權利要求1所述的低偏振高衍射效率金屬反射浸沒光柵，其特征在于，所述光柵層的槽密度為950-1430線對/毫米。
3.如權利要求1所述的低偏振高衍射效率金屬反射浸沒光柵，其特征在于，所述光柵層由熔融石英光學玻璃制備。
4.如權利要求1所述的低偏振高衍射效率金屬反射浸沒光柵，其特征在于，所述介質層為氧化物材料制備，所述介質層的復折射率實部范圍為1.6-2.5，虛部范圍為0-1*10-2。
5.如權利要求1所述的低偏振高衍射效率金屬反射浸沒光柵，其特征在于，所述介質層為Al2O3、HfO2、Ta2O5或TiO2。
6.如權利要求1所述的低偏振高衍射效率金屬反射浸沒光柵，其特征在于，所述金屬反射層的材料為金、銀或鋁。
7.一種光學系統，包括權利要求1-6任一項所述的浸沒光柵，其特征在于，所述入射光的入射角為40°-50°。
8.如權利要求7所述的一種光學系統，其特征在于，所述入射光的帶寬為10-120nm，所述入射光波長在1550-2400nm。
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