[發明專利]光學系統及投影設備在審
| 申請號: | 202010854274.2 | 申請日: | 2020-08-21 |
| 公開(公告)號: | CN111856720A | 公開(公告)日: | 2020-10-30 |
| 發明(設計)人: | 全麗偉;李建華 | 申請(專利權)人: | 中山聯合光電科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B13/00 | 分類號: | G02B13/00;G03B21/28;G03B21/14 |
| 代理公司: | 深圳市世紀恒程知識產權代理事務所 44287 | 代理人: | 宋朝政 |
| 地址: | 528437 廣東省中*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學系統 投影設備 | ||
本發明公開一種光學系統及投影設備,所述光學系統沿光線傳輸方向依次包括:顯示單元、第一鏡組、第一反射鏡、第二鏡組以及第二反射鏡;所述光學系統滿足以下關系:0.01≤|φ300|≤0.03;0.005≤|φ500|≤0.02;其中,所述φ300為所述第一鏡組的光焦度,所述φ500為所述第二鏡組的光焦度。本發明提供一種光學系統及投影設備,旨在解決現有技術中理論投射距離較短時,投影設備的光學系統的體積較小,導致光學系統的成像性能較差的問題。
技術領域
本發明涉及光學成像技術領域,尤其涉及一種光學系統及投影設備。
背景技術
超短焦投影光學系統因其投射距離短,投射畫面大,在家用、教育、辦公等領域已被廣泛使用。
目前市場上的超短焦投影鏡頭多采用折射加反射的結構形式,當投影設備的顯示單元到投影鏡頭的距離較大時,投影鏡頭的體積也會隨之增大,在理論設計中,理論投射距離通常要大于鏡頭長度,當投射設備的理論投射距離較短時候,會嚴重限制投影設備中光學系統的體積,從而影響光學系統的成像性能。
上述內容僅用于輔助理解本發明的技術方案,并不代表承認上述內容是現有技術。
發明內容
本發明提供一種光學系統及投影設備,旨在解決現有技術中理論投射距離較短時,投影設備的光學系統的體積較小,導致光學系統的成像性能較差的問題。
為實現上述目的,本發明提出了一種光學系統,所述光學系統沿光線傳輸方向依次包括:顯示單元、第一鏡組、第一反射鏡、第二鏡組以及第二反射鏡;
所述光學系統滿足以下關系:
0.01≤|φ300|≤0.03;0.005≤|φ500|≤0.02;
其中,所述φ300為所述第一鏡組的光焦度,所述φ500為所述第二鏡組的光焦度。
可選的,所述光學系統滿足以下關系:
3≤T2/T1≤4.5;
其中,所述T1為所述第一鏡組到所述第一反射鏡的距離,所述T2為所述第一反射鏡與所述第二反射鏡之間的距離。
可選的,所述第一鏡組沿光線傳輸方向依次包括第一透鏡、第二透鏡、第三透鏡、第四透鏡、第五透鏡、第六透鏡、第七透鏡、以及第八透鏡;
所述第二鏡組沿光線傳輸方向依次包括第九透鏡、第十透鏡、第十一透鏡、第十二透鏡、第十三透鏡以及第十四透鏡。
可選的,所述第一透鏡、所述第二透鏡、所述第四透鏡、所述第五透鏡、所述第七透鏡、所述第八透鏡、所述第九透鏡、所述第十透鏡具有正光焦度;
所述第三透鏡、所述第六透鏡、所述第十一透鏡、所述第十二透鏡、所述第十三透鏡以及所述第十四透鏡具有負光焦度。
5、如權利要求3所述的光學系統,其特征在于,所述光學系統滿足以下關系:
0.02≤|φ2|≤0.03;0.04≤|φ5|≤0.06;
0.005≤|φ8|≤0.02。0.02≤|φ14|≤0.04;
其中,所述φ2為所述第二透鏡的光焦度,所述φ5為所述第五透鏡的光焦度,所述φ8為所述第八透鏡的光焦度,所述φ14為所述第十四透鏡的光焦度。
可選的,所述光學系統滿足以下關系:
d/T14≥1;
其中,所述d為所述第十四透鏡與所述第二反射鏡之間的距離,所述
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中山聯合光電科技股份有限公司,未經中山聯合光電科技股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010854274.2/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





