[發(fā)明專利]一種氧化石墨與量子點(diǎn)共摻雜聚合物和制備方法及應(yīng)用有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010848266.7 | 申請(qǐng)日: | 2020-08-21 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113105709B | 公開(公告)日: | 2022-05-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王穎;王志文;唐衡云 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 五邑大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C08L33/12 | 分類號(hào): | C08L33/12;C08K3/04;C08K3/30;C08L33/08;C08K3/16;C08L33/14;H01S3/16 |
| 代理公司: | 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 44205 | 代理人: | 黃琳娟 |
| 地址: | 529000 廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 氧化 石墨 量子 摻雜 聚合物 制備 方法 應(yīng)用 | ||
1.一種氧化石墨與量子點(diǎn)共摻雜的聚合物,其特征在于,所述氧化石墨與量子點(diǎn)共摻雜的聚合物由質(zhì)量份數(shù)如下的成分制得:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述氧化石墨與量子點(diǎn)共摻雜的聚合物,其特征在于,所述半導(dǎo)體量子點(diǎn)選自ZnCdSeS/ZnS量子點(diǎn)或CsPbX3鈣鈦礦量子點(diǎn),
所述CsPbX3鈣鈦礦量子點(diǎn),X選自Cl、Br或I。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述氧化石墨與量子點(diǎn)共摻雜的聚合物,其特征在于,所述光敏聚合物選自聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸甲酯、聚丙烯酸乙酯、聚氨基丙烯酸酯、聚羥丙基丙烯酸酯或聚氨酯丙烯酸酯;
所述光引發(fā)劑選自苯基雙(2,4,6-三甲基苯甲?;?氧化膦、2-羥基-甲基苯基丙烷-1酮、1-羥基環(huán)己基苯基酮、安息香雙甲醚、2-苯基芐-2-二甲基胺-1-(4-嗎啉芐苯基)丁酮或2-異丙基硫雜蒽酮的一種或幾種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述氧化石墨與量子點(diǎn)共摻雜的聚合物的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
(1)將光敏聚合物與光引發(fā)劑,在避光下共混,形成混合溶液;
(2)將半導(dǎo)體量子點(diǎn)加入混合溶液中,避光下進(jìn)行攪拌,得到溶液A;
(3)將氧化石墨加入混合溶液A中,避光下進(jìn)行攪拌,得到溶液B;
(4)用紫外光對(duì)溶液B進(jìn)行紫外光固化。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述氧化石墨與量子點(diǎn)共摻雜的聚合物的制備方法,其特征在于,所述(2)和(3)中,攪拌的方法為:先進(jìn)行超聲,然后再進(jìn)行機(jī)械攪拌。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述氧化石墨與量子點(diǎn)共摻雜的聚合物的制備方法,其特征在于,所述超聲的時(shí)間為1-4h,所述機(jī)械攪拌的時(shí)間為2-5h。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述氧化石墨與量子點(diǎn)共摻雜的聚合物的制備方法,其特征在于,所述紫外光的波長為200-365nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述氧化石墨與量子點(diǎn)共摻雜的聚合物的制備方法,其特征在于,所述紫外光固化時(shí)間≥5秒。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述氧化石墨與量子點(diǎn)共摻雜的聚合物在隨機(jī)激光器中的應(yīng)用。
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C08L 高分子化合物的組合物
C08L33-00 具有1個(gè)或更多的不飽和脂族基化合物的均聚物或共聚物的組合物,每個(gè)不飽和脂族基只有1個(gè)碳-碳雙鍵,并且只有1個(gè)僅以1個(gè)羧基或它的鹽,酐,酯,酰胺,酰亞胺或腈作為終端;此種聚合物的衍生物的組合物
C08L33-02 .酸的均聚物或共聚物;它們的金屬鹽或銨鹽
C08L33-04 .酯的均聚物或共聚物
C08L33-18 .腈的均聚物或共聚物
C08L33-24 .酰胺或酰亞胺的均聚物或共聚物
C08L33-26 ..丙烯酰胺或甲基丙烯酰胺的均聚物或共聚物





