[發明專利]基板處理裝置

在審

• 申請號: 202010847751.2
• 申請日: 2020-08-21
• 公開（公告）號: CN112542418A
• 公開（公告）日: 2021-03-23
• 發明（設計）人: 中澤和彥;高山祐一;森岡利仁;蒲裕充;佐藤卓也
• 申請（專利權）人: 株式會社斯庫林集團
• 主分類號: H01L21/683
• 分類號: H01L21/683;H01L21/687;H01L21/67
• 代理公司: 隆天知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 宋曉寶;向勇

1.一種基板處理裝置，其中，

具有：

處理單元，對基板進行處理；以及

控制部，控制所述處理單元，

所述處理單元具有：

板，具有上表面；

旋轉驅動部，使所述板旋轉；

支撐部，從所述板的所述上表面向上方突出，與基板的下表面以及基板的端緣中的至少任一個接觸，在比所述板的所述上表面高的位置支撐基板；

氣體吹出口，形成于所述板的所述上表面，將氣體向上方吹出；

吹出調節部，調節所述氣體吹出口吹出的氣體的流量；

處理液供給部，向被所述支撐部支撐的基板供給處理液；以及

流量調節部，調節所述處理液供給部向基板供給的處理液的流量，

所述控制部根據被所述支撐部支撐的基板的形狀、所述板的轉速、以及所述處理液供給部向被所述支撐部支撐的基板供給的處理液的流量中的至少任一個，改變所述氣體吹出口吹出的氣體的所述流量。

2.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其中，

所述氣體吹出口包括：

第一吹出口，配置于所述板的所述上表面的中央部；以及

第二吹出口，相比所述第一吹出口更靠外側配置，

所述控制部根據被所述支撐部支撐的基板的形狀、所述板的所述轉速、以及所述處理液供給部向被所述支撐部支撐的基板供給的處理液的所述流量中的至少任一個，改變所述第一吹出口吹出的氣體的流量、以及所述第二吹出口吹出的氣體的流量中的至少任一個。

3.根據權利要求2所述的基板處理裝置，其中，

所述吹出調節部具有：

第一吹出調節部，調節所述第一吹出口吹出的氣體的所述流量；以及

第二吹出調節部，調節所述第二吹出口吹出的氣體的所述流量。

4.根據權利要求2所述的基板處理裝置，其中，

所述氣體吹出口包括第三吹出口，該第三吹出口相比所述第一吹出口更靠外側配置，并且相比所述第二吹出口更靠內側配置，

所述控制部根據被所述支撐部支撐的基板的形狀、所述板的所述轉速、以及所述處理液供給部向被所述支撐部支撐的基板供給的處理液的所述流量中的至少任一個，改變所述第三吹出口吹出的氣體的流量。

5.根據權利要求4所述的基板處理裝置，其中，

所述吹出調節部具有第三吹出調節部，該第三吹出調節部調節所述第三吹出口吹出的氣體的所述流量。

6.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其中，

所述控制部根據位于基板的周緣部的內側的基板的主部的厚度，改變所述氣體吹出口吹出的氣體的所述流量。

7.根據權利要求6所述的基板處理裝置，其中，

基板的所述主部的所述厚度越大，則所述氣體吹出口吹出的氣體的所述流量越大。

8.根據權利要求6所述的基板處理裝置，其中，

所述氣體吹出口包括：

第一吹出口，配置于所述板的所述上表面的中央部；以及

第二吹出口，相比所述第一吹出口更靠外側配置，

所述控制部根據基板的所述主部的所述厚度，改變所述第一吹出口吹出的氣體的流量、以及所述第二吹出口吹出的氣體的流量中的至少任一個。

9.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其中，

所述控制部根據被所述支撐部支撐的基板是否具有上凹部，改變所述氣體吹出口吹出的氣體的所述流量，所述上凹部通過使位于基板的周緣部的內側的基板的主部相比基板的所述周緣部更凹陷而形成于所述基板的上表面。

10.根據權利要求9所述的基板處理裝置，其中，

在被所述支撐部支撐的基板具有所述上凹部時所述氣體吹出口吹出的氣體的所述流量，比在被所述支撐部支撐的基板不具有所述上凹部時所述氣體吹出口吹出的氣體的所述流量大。