[發明專利]顯示面板的制作方法、顯示面板以及顯示裝置

有效

• 申請號: 202010845435.1
• 申請日: 2020-08-20
• 公開（公告）號: CN111933822B
• 公開（公告）日: 2022-10-14
• 發明（設計）人: 何國冰;馬志麗;張九占;韓珍珍;胡思明
• 申請（專利權）人: 昆山國顯光電有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
• 代理公司: 北京東方億思知識產權代理有限責任公司 11258
• 代理人: 娜拉

1.一種顯示面板的制作方法，其特征在于，所述顯示面板具有開孔區、至少部分圍繞所述開孔區的顯示區以及位于所述開孔區與所述顯示區之間的過渡區，所述制作方法包括：

在襯底上形成像素電路；

在所述像素電路的背離所述襯底的一側形成第一金屬層以及金屬圈，所述第一金屬層的至少部分位于所述顯示區，所述金屬圈位于所述過渡區且所述金屬圈圍繞所述開孔區；

在所述第一金屬層的背離所述襯底的一側形成第一保護層，所述第一保護層在襯底上的正投影與所述金屬圈在所述襯底上的正投影無交疊；

對所述金屬圈進行側刻蝕，形成隔離圈。

2.根據權利要求1所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，所述隔離圈包括沿背離所述襯底的方向上相互連接的第一部分和第二部分，所述第一部分的沿平行于所述顯示面板平面方向上的寬度小于所述第二部分的平行于所述顯示面板平面方向上的寬度。

3.根據權利要求2所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，所述對所述金屬圈進行側刻蝕，形成隔離圈之后，所述制作方法還包括：

剝離所述第一保護層；

在所述第一金屬層的背離所述襯底一側形成封裝層，所述封裝層在垂直于所述顯示面板平面方向上的至少部分膜層結構覆蓋所述第一部分和所述第二部分的表面且所述封裝層為連續結構。

4.根據權利要求1所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，所述金屬圈包括沿背離所述襯底方向層疊設置的第一金屬子層、第二金屬子層和第三金屬子層，所述第一金屬子層和第三金屬子層的材料均為鈦，所述第二金屬子層的材料為鋁，

所述對所述金屬圈進行側刻蝕，形成隔離圈包括：

利用有機酸對所述金屬圈的所述第二金屬子層進行側刻蝕，形成所述隔離圈。

5.根據權利要求1所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，所述在襯底上形成像素電路之后，所述制作方法還包括：

在所述像素電路的背離所述襯底的一側形成阻擋件，所述阻擋件位于所述過渡區。

6.根據權利要求1所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述像素電路的背離所述襯底的一側形成第一金屬層以及金屬圈之后，所述制作方法還包括：

在所述第一金屬層的背離所述襯底的一側形成第一電極層，所述第一電極層位于所述顯示區；

在所述第一電極層的背離所述襯底的一側形成像素定義層，所述像素定義層包括像素開口，所述第一電極層的背離所述襯底的表面暴露于所述像素開口；

其中，所述第一保護層位于所述像素定義層的背離所述襯底的一側，所述第一保護層覆蓋暴露于所述像素開口的所述第一電極層。

7.根據權利要求1所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，所述顯示面板包括綁定區，所述綁定區位于所述顯示區的至少部分外周側，所述綁定區用于綁定集成電路芯片，所述第一金屬層的部分位于所述綁定區，所述第一保護層覆蓋位于所述綁定區的所述第一金屬層。

8.根據權利要求1所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述像素電路的背離所述襯底的一側形成第一金屬層以及金屬圈的步驟，所述在所述第一金屬層的背離所述襯底的一側形成第一保護層的步驟，以及對所述金屬圈進行側刻蝕，形成隔離圈的步驟相互連續，

所述對所述金屬圈進行側刻蝕，形成隔離圈包括：

通過濕刻法，對所述金屬圈進行側刻蝕，形成隔離圈。

9.根據權利要求8所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，所述通過濕刻法，對所述金屬圈進行側刻蝕，形成隔離圈之后，所述制作方法還包括：

剝離所述第一保護層；

在所述第一金屬層以及所述隔離圈的背離所述襯底的一側形成第二保護層，所述第二保護層覆蓋所述第一金屬層以及所述隔離圈。