[發明專利]曝光裝置

在審

• 申請號: 202010843007.5
• 申請日: 2020-08-20
• 公開（公告）號: CN111929993A
• 公開（公告）日: 2020-11-13
• 發明（設計）人: 李世波
• 申請（專利權）人: 深圳市愛普拓思科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02F1/133
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 羅平

1.一種曝光裝置，其特征在于，包括：

液晶顯示掩膜，所述液晶顯示掩膜包括第一基體、與所述第一基體相對設置的第二基體及設置于所述第一基體與所述第二基體之間的液晶層，所述液晶層中分布有多個液晶；

控制器，與所述液晶顯示掩膜連接，用于控制所述液晶顯示掩膜顯示預設的圖案，并控制所述液晶顯示掩膜的表面除了被所述預設的圖案覆蓋的區域外的區域為不透光區域；

光源，設置于所述液晶顯示掩膜的一側，所述光源發出的第一出射光照射并穿過所述液晶顯示掩膜的表面被所述預設的圖案覆蓋的區域，射出第二出射光，所述第二出射光照射被曝光物，以使得被曝光物被所述第二出射光照射的表面曝光顯示出預設的形狀圖案；

其中，所述控制器通過控制所述液晶層中不同區域的液晶的驅動電壓值，以控制各不同區域的液晶的轉動方向及/或扭曲程度，使得所述液晶顯示掩膜顯示預設的圖案，并控制所述第二出射光的強度值。

2.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于：

所述第一基體為玻璃基板；及/或

所述第二基體為玻璃基板。

3.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，所述液晶呈陣列排布。

4.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，所述液晶顯示掩膜為透明狀。

5.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，所述預設的圖案包括圓形、橢圓形、環形、矩形、多邊形或不規則形狀中的至少一種。

6.如權利要求1-5任一項所述的曝光裝置，其特征在于，所述第一出射光包括紫外光、LED光及激光中的至少一種。

7.如權利要求1-5任一項所述的曝光裝置，其特征在于，所述第一出射光為平行光，且沿垂直于所述液晶顯示掩膜的顯示圖案的表面的方向，照射所述液晶顯示掩膜。

8.如權利要求1-5任一項所述的曝光裝置，其特征在于，所述第二出射光為平行光，且沿垂直于所述液晶顯示掩膜正下方的被曝光物的上表面的方向照射所述被曝光物。

9.如權利要求1-5任一項所述的曝光裝置，其特征在于，所述不透光區域的光線透過率小于或等于5％。

10.如權利要求1-5任一項所述的曝光裝置，其特征在于，所述控制器包括臺式機、一體機、平板電腦、手機、微控制單元、工控機、智能手表或智能可穿戴設備中的至少一種。