[發明專利]拋光治具、拋光裝置和手機中框的拋光方法

有效

• 申請號: 202010838297.4
• 申請日: 2020-08-19
• 公開（公告）號: CN111993258B
• 公開（公告）日: 2022-02-08
• 發明（設計）人: 蘇禹賓;劉平;嚴鎮寧;武文城;鄧必元
• 申請（專利權）人: 廣東長盈精密技術有限公司
• 主分類號: B24B29/02
• 分類號: B24B29/02;B24B41/06;B24B41/02;B24B47/12
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 馬小悅

本發明涉及一種拋光治具、拋光設備及拋光方法，該拋光治具包括固定機構、旋轉軸和立柱，固定機構包括第一固定件和與第一固定件相對的第二固定件，第二固定件具有承載面，旋轉軸位于第一固定件上并向遠離第二固定件的方向延伸；立柱位于第一固定件和第二固定件之間，立柱與第一固定件和第二固定件均連接，立柱在承載面的正投影與旋轉軸在承載面的正投影間隔。使用上述拋光治具對異形件拋光更均勻。

技術領域

本發明涉及拋光技術領域，特別是涉及一種拋光治具、拋光裝置和手機中框的拋光方法。

背景技術

拋光機通過研磨料與工件的相對運動而實現拋光，主要分為通過驅動拋光輪轉動而待拋光工件不動實現拋光的拋光機和通過研磨料不動而驅動待拋光工件自轉而實現拋光的流體拋光機。

通過驅動拋光輪轉動而待拋光工件不動的拋光機，受限于拋光輪與待拋光工件之間的位置和角度關系，容易出現無法拋光的死角。流體拋光機由于研磨料的流體形態，容易使待拋光工件的各個地方都能被拋光，不容易出現拋光死角。對于待拋光面為圓周面的工件，能被流體拋光機均勻拋光。然而，對于待拋光面為非圓周面的工件，例如手機中框，通過流體拋光機拋光后，容易出現各個面的拋光程度不一，拋光效果不均勻的問題。

發明內容

基于此，有必要針對流體拋光機對被拋光面為非圓周面的拋光件拋光不均勻的問題，提供一種拋光均勻的拋光治具。

一種拋光治具，包括：

固定機構，用于固定待拋光件，所述固定機構包括第一固定件和與所述第一固定件間隔且相對設置的第二固定件，所述第二固定件具有承載面；

旋轉軸，位于所述第一固定件上并向遠離所述第二固定件的方向延伸；以及

立柱，位于所述第一固定件和所述第二固定件之間，所述立柱與所述第一固定件和所述第二固定件均連接，所述立柱在所述承載面的正投影與所述旋轉軸在所述承載面的正投影間隔。

對于被拋光面為圓周面的工件，圓周面到旋轉軸的距離均相等，圓周面受到的摩擦阻力相同，因此，采用流體拋光機拋光的效果是均勻的。然而，對于拋光面為非圓周面的工件，在需要拋光的多個面中至少有一個面到旋轉軸的距離與其他面到旋轉軸的距離不等，使得至少一個面受到的摩擦阻力與其他面受到的摩擦阻力不同而受到不同的磨削，進而拋光不均勻。例如手機中框，在需要被拋光的頂面、兩個側面及底面中，頂面和底面到旋轉軸的距離與側面到旋轉軸的距離不等(頂面和底面到旋轉軸的距離大于側面到旋轉軸的距離)，使得頂面和底面的摩擦阻力與兩個側面受到的摩擦阻力不等，從而使得頂面和側面在旋轉過程中受到的磨削程度不同而拋光程度不同，無法拋光均勻。

上述拋光治具包括第一固定件、第二固定件、立柱和旋轉軸，立柱位于第一固定件和第二固定件之間，立柱在承載面的投影與旋轉軸在承載面的投影間隔。通過設置立柱減小待拋光件的不同面之間的磨削程度的差異，減小到旋轉軸距離較大的面的摩擦阻力，增大到旋轉軸距離較小的面的摩擦阻力，從而使得拋光面為非圓周面的待拋光件的各個面受到的摩擦阻力均勻、磨削程度相差小而拋光均勻。

在其中一個實施例中，所述立柱有兩根，兩根所述立柱間隔設置，兩根所述立柱分別位于所述旋轉軸的兩側，兩根所述立柱的中軸線與所述旋轉軸的中軸線共面。

在其中一個實施例中，兩根所述立柱以所述旋轉軸為對稱軸對稱設置。

在其中一個實施例中，所述第一固定件在所述承載面的正投影呈六邊形，所述六邊形具有第一邊和與所述第一邊平行的第二邊，所述立柱在所述承載面的正投影與所述第一邊相鄰的邊和與所述第二邊相鄰的邊形成的頂點重合。

在其中一個實施例中，兩根所述立柱均與所述旋轉軸平行，兩根所述立柱到所述旋轉軸的距離相等，所述立柱到所述旋轉軸的距離與所述第一邊到所述旋轉軸的距離相等，所述立柱到所述旋轉軸的距離與所述第二邊到所述旋轉軸的距離相等。