[發(fā)明專利]具有γ輻射屏蔽效果的高熵陶瓷材料的制備方法與應(yīng)用在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010834110.3 | 申請日: | 2020-08-18 |
| 公開(公告)號: | CN114075075A | 公開(公告)日: | 2022-02-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 江正明;楊帆;薛麗燕;王凱先;張陽;趙志鋼;謝美英;張雪松 | 申請(專利權(quán))人: | 廈門稀土材料研究所 |
| 主分類號: | C04B35/495 | 分類號: | C04B35/495;C04B35/622;C09K3/00;G21F1/06 |
| 代理公司: | 北京知元同創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11535 | 代理人: | 聶稻波 |
| 地址: | 361021 福建*** | 國省代碼: | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 輻射 屏蔽 效果 陶瓷材料 制備 方法 應(yīng)用 | ||
1.一種鎢酸基高熵陶瓷材料Sm0.5Eu0.5Gd0.5Bi0.5WO6;
優(yōu)選地,所述鎢酸基高熵陶瓷材料具有基本如圖3、圖4或圖5所示的XRD譜圖。
2.權(quán)利要求1所述述鎢酸基高熵陶瓷材料Sm0.5Eu0.5Gd0.5Bi0.5WO6的制備方法,包括以下步驟:
(1)將鎢酸鹽溶液加入到含有鉍鹽、釤鹽、銪鹽和釓鹽的溶液中,調(diào)節(jié)pH,攪拌得到懸濁液;
(2)將步驟(1)得到的懸濁液轉(zhuǎn)移到水熱反應(yīng)釜中進(jìn)行水熱反應(yīng)得到水熱反應(yīng)產(chǎn)物,后處理得到鎢酸基高熵陶瓷粉體;
(3)將步驟(2)得到的鎢酸基高熵陶瓷粉體于高溫條件下進(jìn)行燒結(jié)、保溫;
(4)將步驟(3)得到的燒結(jié)、保溫后的鎢酸基高熵陶瓷粉體壓塊,得到致密的坯體;
(5)將步驟(4)得到的坯體經(jīng)燒結(jié)、保溫后,可得所述鎢酸基高熵陶瓷材料Sm0.5Eu0.5Gd0.5Bi0.5WO6。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征在于,步驟(1)中所述鎢酸鹽為鎢酸鈉或鎢酸鉀;
優(yōu)選地,步驟(1)中所述鉍鹽為其硝酸鹽、硫酸鹽、氯酸鹽或溴酸鹽及其水合物,例如硝酸鉍、五水硝酸鉍;
優(yōu)選地,步驟(1)中所述釤鹽為其硝酸鹽、硫酸鹽、氯酸鹽或溴酸鹽及其水合物,例如硝酸釤、六水硝酸釤;
優(yōu)選地,步驟(1)中所述銪鹽為其硝酸鹽、硫酸鹽、氯酸鹽或溴酸鹽及其水合物,例如硝酸銪、六水硝酸銪;
優(yōu)選地,步驟(1)中所述釓鹽為其硝酸鹽、硫酸鹽、氯酸鹽或溴酸鹽及其水合物,例如硝酸釓、六水硝酸釓。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的制備方法,其特征在于,步驟(1)中元素W:Bi:Sm:Eu:Gd的摩爾比為1:0.5:0.5:0.5:0.5;
優(yōu)選地,步驟(1)中所述鉍鹽、釤鹽、銪鹽和釓鹽溶液為水溶液或硝酸溶液;所述硝酸溶液的濃度為0.1-1.5mol/L;
優(yōu)選地,步驟(1)中,所述鎢酸鹽溶液所用溶劑選自水、乙二醇、乙酸、丙酸、聚乙二醇2000、聚乙二醇4000中的至少一種;
優(yōu)選地,步驟(1)中所述鎢酸鹽溶液的摩爾濃度為0.05-0.3mol/L;
優(yōu)選地,步驟(1)中鉍鹽、釤鹽、銪鹽和釓鹽溶液的總摩爾濃度為鎢酸鹽摩爾濃度的2倍;
優(yōu)選地,步驟(1)中,所述溶液pH為5.0-9.5;
優(yōu)選地,步驟(1)中,所述攪拌時(shí)間可以為0.1-3h,例如30-60min。
5.根據(jù)權(quán)利要求2-4任一項(xiàng)所述的制備方法,其特征在于,步驟(2)中,所述水熱反應(yīng)的溫度為120-240℃,例如170-200℃;
優(yōu)選地,步驟(2)中,所述水熱反應(yīng)的時(shí)間為6-48h,例如6-24h;
優(yōu)選地,步驟(2)所述后處理包括離心、洗滌、干燥;優(yōu)選地,所述離心轉(zhuǎn)速為8000-12000rpm,離心時(shí)間1-3min;優(yōu)選地,所述洗滌為超純水洗2-3次,無水乙醇洗滌2-3次。
6.根據(jù)權(quán)利要求2-5任一項(xiàng)所述的制備方法,其特征在于,步驟(3)中,所述燒結(jié)溫度為700-900℃,例如750-850℃;
優(yōu)選地,步驟(3)中,所述燒結(jié)時(shí)間為1-4h。
7.根據(jù)權(quán)利要求2-6任一項(xiàng)所述的制備方法,其特征在于,步驟(4)中,所述壓塊的壓力為6-16MPa,例如7-14MPa;
優(yōu)選地,步驟(4)中,所述壓塊的壓制時(shí)間為0.5-1.5min。
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