[發(fā)明專利]硅片刻蝕設(shè)備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010825240.0
• 申請日: 2020-08-17
• 公開（公告）號: CN111916376A
• 公開（公告）日: 2020-11-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 蔣旭東;張弛;王志剛;王四海;蔣成斌;顧建
• 申請（專利權(quán)）人: 南京卓勝自動化設(shè)備有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L31/18
• 代理公司: 南京蘇高專利商標事務(wù)所(普通合伙) 32204
• 代理人: 趙淑芳

本發(fā)明公開了一種硅片刻蝕設(shè)備，包括機架，所述機架上設(shè)置有傳送裝置和刻蝕裝置，所述刻蝕裝置設(shè)置在傳送裝置一側(cè)，所述刻蝕裝置包括驅(qū)動裝置、安裝板和泡棉棒，所述安裝板安裝在機架上，所述泡棉棒轉(zhuǎn)動設(shè)置在所述安裝板兩側(cè)，所述驅(qū)動裝置驅(qū)動泡棉棒轉(zhuǎn)動，所述泡棉棒下端浸泡在清洗劑池內(nèi)，所述傳送裝置將硅片傳送至刻蝕裝置工位，驅(qū)動裝置驅(qū)動泡棉棒轉(zhuǎn)動對硅片兩側(cè)進行清洗。本發(fā)明可以消除側(cè)面PN結(jié)，使得硅片充分使用，有效避免做成電池片的漏電現(xiàn)象。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及太陽能電池生產(chǎn)設(shè)備，具體涉及一種硅片刻蝕設(shè)備。

背景技術(shù)

目前硅片生產(chǎn)過程中，常規(guī)制造晶體硅太陽能電池包括制絨、擴散、清洗刻蝕、PECVD、絲網(wǎng)印刷工序等。其中，在電池片的擴散工序中，通常會產(chǎn)生一層含磷的二氧化硅，俗稱磷硅玻璃，并且在硅片邊緣也形成一層PN結(jié)，邊緣的這層PN結(jié)會在硅片做成電池片后導(dǎo)通電池片的上下兩極而發(fā)生漏電現(xiàn)象。

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明目的：本發(fā)明的目的是提供一種硅片刻蝕設(shè)備，解決硅片擴散工序中在側(cè)邊緣形成PN結(jié)，容易造成漏電的問題。

技術(shù)方案：本發(fā)明所述的硅片刻蝕設(shè)備，包括機架，所述機架上設(shè)置有傳送裝置和刻蝕裝置，所述刻蝕裝置設(shè)置在傳送裝置一側(cè)，所述刻蝕裝置包括驅(qū)動裝置、安裝板和泡棉棒，所述安裝板安裝在機架上，所述泡棉棒轉(zhuǎn)動設(shè)置在所述安裝板兩側(cè)，所述驅(qū)動裝置驅(qū)動泡棉棒轉(zhuǎn)動，所述泡棉棒下端浸泡在清洗劑池內(nèi)，所述傳送裝置將硅片傳送至刻蝕裝置工位，驅(qū)動裝置驅(qū)動泡棉棒轉(zhuǎn)動對硅片兩側(cè)進行清洗。

為了方便傳送硅片，所述傳送裝置包括若干滾筒和電機，若干滾筒并排設(shè)置在機架內(nèi)，所述電機通過皮帶驅(qū)動滾筒轉(zhuǎn)動。

為了限位硅片和感應(yīng)硅片，所述傳送裝置硅片入口處設(shè)置有硅片限位塊和光電傳感器。

為了方便驅(qū)動泡棉棒轉(zhuǎn)動，所述驅(qū)動裝置包括電機、聯(lián)軸器和轉(zhuǎn)軸，所述電機通過聯(lián)軸器和轉(zhuǎn)軸連接，所述轉(zhuǎn)軸通過皮帶與所述泡棉棒連接。

為了減輕設(shè)備重量，所述安裝架上設(shè)置有通槽。

方便收集刻蝕后的硅片，所述機架上對應(yīng)傳送裝置硅片出口處設(shè)置有硅片收集盒。

有益效果：本發(fā)明可以消除側(cè)面PN結(jié)，使得硅片充分使用，有效避免做成電池片的漏電現(xiàn)象。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本發(fā)明專利的底部結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3是刻蝕裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4是傳送裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

下面結(jié)合附圖對本發(fā)明進行進一步說明。

如圖1-3所示，本發(fā)明公開的硅片刻蝕設(shè)備，包括機架1，機架1上設(shè)置有傳送裝置2和刻蝕裝置3，傳送裝置2包括若干滾筒和電機4，若干滾筒并排設(shè)置在機架1內(nèi)，電機4通過皮帶驅(qū)動滾筒轉(zhuǎn)動，傳送裝置硅片入口處設(shè)置有硅片限位塊21和光電傳感器22，機架1上對應(yīng)傳送裝置硅片出口處設(shè)置有硅片收集盒，刻蝕裝置3設(shè)置在傳送裝置2一側(cè)，刻蝕裝置3包括驅(qū)動裝置、安裝板31和泡棉棒32，安裝板31安裝在機架1上，泡棉棒32設(shè)置在安裝板31兩側(cè)，泡棉棒32下端浸泡在清洗劑池內(nèi)，驅(qū)動裝置包括電機4、聯(lián)軸器33和轉(zhuǎn)軸34，電機4通過聯(lián)軸器44和轉(zhuǎn)軸34連接，轉(zhuǎn)軸34通過皮帶與泡棉棒32連接，安裝架上設(shè)置有通槽。

使用本發(fā)明時，硅片從傳送裝置硅片入口進入，限位塊進行限位放置左右失衡，傳送裝置將硅片傳送至刻蝕裝置工位，驅(qū)動裝置通過皮帶驅(qū)動浸了化學清潔劑的泡棉棒轉(zhuǎn)動對硅片兩側(cè)進行清洗。