[發(fā)明專(zhuān)利]場(chǎng)效應(yīng)晶體管電路、方法、裝置、芯片及電池管理系統(tǒng)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010823718.6 | 申請(qǐng)日: | 2020-08-17 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112290927A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-01-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 周號(hào) | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 珠海邁巨微電子有限責(zé)任公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H03K17/687 | 分類(lèi)號(hào): | H03K17/687;H01M10/42 |
| 代理公司: | 北京庚致知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11807 | 代理人: | 李偉波;李曉輝 |
| 地址: | 519000 廣東省珠海市高新區(qū)唐家*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 場(chǎng)效應(yīng) 晶體管 電路 方法 裝置 芯片 電池 管理 系統(tǒng) | ||
1.一種場(chǎng)效應(yīng)晶體管電路,其特征在于,包括:
場(chǎng)效應(yīng)晶體管,所述場(chǎng)效應(yīng)晶體管為NMOS晶體管并且包括柵極、源極、漏極、襯底、第一寄生二極管和第二寄生二極管,其中所述第一寄生二極管和第二寄生二極管反向串聯(lián),所述第一寄生二極管和第二寄生二極管的串聯(lián)電路的一端連接所述源極,并且所述串聯(lián)電路的另一端連接所述漏極,所述第一寄生二極管和第二寄生二極管的連接點(diǎn)與所述襯底連接;以及
開(kāi)關(guān),所述開(kāi)關(guān)的一端與所述連接點(diǎn)連接,所述開(kāi)關(guān)的另一端與所述源極連接,
當(dāng)所述柵極與所述源極之間的柵源電壓大于所述場(chǎng)效應(yīng)晶體管的導(dǎo)通閾值電壓時(shí)所述場(chǎng)效應(yīng)晶體管導(dǎo)通,并且所述開(kāi)關(guān)導(dǎo)通以使得所述源極與所述襯底連通,當(dāng)所述柵源電壓小于所述導(dǎo)通閾值電壓時(shí)所述場(chǎng)效應(yīng)晶體管斷開(kāi),并且所述開(kāi)關(guān)斷開(kāi)以使得所述源極與所述襯底斷開(kāi),所述襯底處于浮空狀態(tài)。
2.如權(quán)利要求1所述的場(chǎng)效應(yīng)晶體管電路,其特征在于,通過(guò)所述開(kāi)關(guān)將所述源極與所述襯底連通時(shí),所述場(chǎng)效應(yīng)晶體管的導(dǎo)電溝道形成,并且通過(guò)所述開(kāi)關(guān)將所述源極與所述襯底斷開(kāi)時(shí),所述場(chǎng)效應(yīng)晶體管的導(dǎo)電溝道不形成,
或者
所述第一寄生二極管和第二寄生二極管的串聯(lián)電路設(shè)置成,在所述源極和所述漏極之間不會(huì)通過(guò)所述串聯(lián)電路形成導(dǎo)電通路,
或者
所述第一寄生二極管的陽(yáng)極與所述第二寄生二極管的陽(yáng)極連接,所述第一寄生二極管的陰極與所述漏極連接,所述第二寄生二極管的陰極與所述源極連接,
或者
所述開(kāi)關(guān)為NMOS晶體管,
或者
所述開(kāi)關(guān)的NMOS晶體管的柵極與所述場(chǎng)效應(yīng)晶體管的NMOS晶體管的柵極連接,所述開(kāi)關(guān)的NMOS晶體管的源極與所述連接點(diǎn)連接,所述開(kāi)關(guān)的NMOS晶體管的漏極與所述場(chǎng)效應(yīng)晶體管的NMOS晶體管的源極連接,
或者
所述場(chǎng)效應(yīng)晶體管的柵極與漏極之間連接有第二開(kāi)關(guān),當(dāng)所述場(chǎng)效應(yīng)晶體管的漏極的電壓≤0時(shí),所述第二開(kāi)關(guān)導(dǎo)通以將所述場(chǎng)效應(yīng)晶體管的柵極與漏極連接,當(dāng)所述場(chǎng)效應(yīng)晶體管的漏極的電壓>0時(shí),所述第二開(kāi)關(guān)斷開(kāi)以將所述場(chǎng)效應(yīng)晶體管的柵極與漏極斷開(kāi),
或者
所述第二開(kāi)關(guān)為耐壓二極管,所述耐壓二極管的陽(yáng)極與所述場(chǎng)效應(yīng)晶體管的柵極直接連接或間接連接,所述耐壓二極管的陰極與所述場(chǎng)效應(yīng)晶體管的漏極直接連接或間接連接,
或者
所述第二開(kāi)關(guān)為第二NMOS晶體管,所述第二NMOS晶體管具有寄生二極管,所述NMOS晶體管的源極與寄生二極管的一端與所述場(chǎng)效應(yīng)晶體管的柵極直接連接或間接連接,所述NMOS晶體管的漏極與寄生二極管的另一端與所述場(chǎng)效應(yīng)晶體管的漏極直接連接或間接連接。
3.一種場(chǎng)效應(yīng)晶體管的控制方法,其特征在于,所述場(chǎng)效應(yīng)晶體管為NMOS晶體管并且包括柵極、源極、漏極、襯底、第一寄生二極管和第二寄生二極管,其中所述第一寄生二極管和第二寄生二極管反向串聯(lián),所述第一寄生二極管和第二寄生二極管的串聯(lián)電路的一端連接所述源極,并且所述串聯(lián)電路的另一端連接所述漏極,所述第一寄生二極管和第二寄生二極管的連接點(diǎn)與所述襯底連接;所述連接點(diǎn)連接開(kāi)關(guān)的一端,所述開(kāi)關(guān)的另一端與所述源極連接,其特征在于,所述方法包括:
當(dāng)所述柵極與所述源極之間的柵源電壓大于所述場(chǎng)效應(yīng)晶體管的導(dǎo)通閾值電壓時(shí),所述場(chǎng)效應(yīng)晶體管被控制為導(dǎo)通,并且所述開(kāi)關(guān)被控制為導(dǎo)通以使得所述源極與所述襯底連通;以及
當(dāng)所述柵源電壓小于所述導(dǎo)通閾值電壓時(shí),所述場(chǎng)效應(yīng)晶體管被控制為斷開(kāi),并且所述開(kāi)關(guān)被控制為斷開(kāi)以使得所述源極與所述襯底斷開(kāi),所述襯底處于浮空狀態(tài)。
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