[發(fā)明專利]用于圖形轉(zhuǎn)移的線路板及圖形轉(zhuǎn)移工藝

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010823672.8
• 申請日: 2020-08-17
• 公開（公告）號: CN112040660B
• 公開（公告）日: 2021-11-02
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 葉國俊
• 申請（專利權(quán)）人: 鶴山市中富興業(yè)電路有限公司
• 主分類號: H05K3/06
• 分類號: H05K3/06
• 代理公司: 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 44205
• 代理人: 梁國平

本發(fā)明公開了一種用于圖形轉(zhuǎn)移的線路板及其圖形轉(zhuǎn)移工藝，線路板包括用于在線路板上形成實際圖形的目標(biāo)設(shè)計圖形區(qū)域和用于覆蓋顯影干膜的圖形轉(zhuǎn)移補償區(qū)域，圖形轉(zhuǎn)移補償區(qū)域包括側(cè)蝕寬度補償區(qū)域和角位補償區(qū)域，通過在目標(biāo)設(shè)計圖形區(qū)域的外部設(shè)置側(cè)蝕寬度補償區(qū)域和角位補償區(qū)域，側(cè)蝕寬度補償區(qū)域包圍在目標(biāo)設(shè)計圖形區(qū)域的外圍，避免線路板上的圖形在蝕刻后邊線會往內(nèi)收，角位補償區(qū)域額外對目標(biāo)設(shè)計圖形區(qū)域的角位進行包圍，避免線路板上的圖形在蝕刻時角位受到兩側(cè)蝕刻液攻擊而變成圓角，從而改良線路板上的圖形蝕刻問題，線路板上蝕刻后的圖形更接近目標(biāo)設(shè)計圖形。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及線路板生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種用于圖形轉(zhuǎn)移的線路板及圖形轉(zhuǎn)移工藝。

背景技術(shù)

圖形轉(zhuǎn)移是指成膜(貼膜)-曝光-顯影-蝕刻-退膜等一系列工序；經(jīng)過圖形轉(zhuǎn)移后，設(shè)計圖形由電子文件轉(zhuǎn)移到目標(biāo)襯底上，形成實際圖形。圖形的角位和邊線，在蝕刻過程中受到兩側(cè)的蝕刻液攻擊，會更快被蝕刻掉，最后導(dǎo)致設(shè)計為方角或者尖角的部位，最終蝕刻結(jié)果成為一個圓角，圖形的邊線也會往內(nèi)收，與設(shè)計圖形相去甚遠(yuǎn)。這種偏差在一般的導(dǎo)通功能線路中不會造成大的問題，但是在射頻線路的應(yīng)用場景中，線路的射頻性能往往由設(shè)計圖形來仿真，最終蝕刻結(jié)果與設(shè)計圖形相差太遠(yuǎn)會造成設(shè)計性能與實際性能吻合度低的問題，特別是相對于邊緣平緩的圖形，角位圖形屬于尖端，電場能量集中，對輻射影響較大。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一，提供一種用于圖形轉(zhuǎn)移的線路板，能夠改良線路板上的圖形蝕刻問題，線路板上蝕刻后的圖形更接近目標(biāo)設(shè)計圖形。

本發(fā)明還提供一種線路板的圖形轉(zhuǎn)移工藝。

根據(jù)本發(fā)明第一方面實施例的一種用于圖形轉(zhuǎn)移的線路板，包括：

目標(biāo)設(shè)計圖形區(qū)域，用于在線路板上形成實際圖形；

圖形轉(zhuǎn)移補償區(qū)域，用于覆蓋顯影干膜，包括側(cè)蝕寬度補償區(qū)域和角位補償區(qū)域，所述側(cè)蝕寬度補償區(qū)域包括從所述目標(biāo)設(shè)計圖形區(qū)域的邊緣往外擴展第一寬度所得到的區(qū)域，所述側(cè)蝕寬度補償區(qū)域的兩條相交的邊線分別稱為第一干膜邊線和第二干膜邊線，所述第一干膜邊線和所述第二干膜邊線的相交點稱為寬度補償角點，從所述寬度補償角點往外延伸第二寬度得到角位補償角點，從所述角位補償角點分別延伸出第一角位斜邊和第二角位斜邊，所述第一角位斜邊與所述第一干膜邊線相交，所述第二角位斜邊和所述第二干膜邊線相交，所述角位補償區(qū)域包括所述第一角位斜邊、所述第二角位斜邊、所述第一干膜邊線和所述第二干膜邊線所圍成的區(qū)域。

根據(jù)本發(fā)明實施例的一種用于圖形轉(zhuǎn)移的線路板，至少具有如下有益效果：通過在目標(biāo)設(shè)計圖形區(qū)域的外部設(shè)置側(cè)蝕寬度補償區(qū)域和角位補償區(qū)域，側(cè)蝕寬度補償區(qū)域包圍在目標(biāo)設(shè)計圖形區(qū)域的外圍，避免線路板上的圖形在蝕刻后邊線會往內(nèi)收，角位補償區(qū)域額外對目標(biāo)設(shè)計圖形區(qū)域的角位進行包圍，避免線路板上的圖形在蝕刻時角位受到兩側(cè)蝕刻液攻擊而變成圓角，從而改良線路板上的圖形蝕刻問題，線路板上蝕刻后的圖形更接近目標(biāo)設(shè)計圖形。

在本發(fā)明的一些實施例中，所述目標(biāo)設(shè)計圖形區(qū)域的兩條相交的邊線分別稱為第一目標(biāo)邊線和第二目標(biāo)邊線，所述第一目標(biāo)邊線與所述第一干膜邊線對應(yīng)并相隔所述第一寬度的距離，所述第二目標(biāo)邊線與所述第二干膜邊線對應(yīng)并相隔所述第一寬度的距離，所述第一目標(biāo)邊線和所述第二目標(biāo)邊線的相交點稱為目標(biāo)圖形角點，所述第一目標(biāo)邊線上與所述目標(biāo)圖形角點相距第三寬度的點記為第一圓角點，所述第二目標(biāo)邊線上與所述目標(biāo)圖形角點相距第三寬度的點記為第二圓角點，所述第一圓角點往所述第一干膜邊線的方向移動所述第一寬度的距離得到第一交點，所述第一交點即為所述第一干膜邊線和所述第一角位斜邊的交點，所述第二圓角點往所述第二干膜邊線的方向移動所述第一寬度的距離得到第二交點，所述第二交點即為所述第二干膜邊線和所述第二角位斜邊的交點。