[發(fā)明專利]一種用于高重頻自由電子激光的X射線光柵單色器

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010819111.0
• 申請(qǐng)日: 2020-08-14
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111829953A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-10-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張開(kāi)慶;馮超;劉濤;劉波;趙振堂
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院上海高等研究院
• 主分類號(hào): G01N21/01
• 分類號(hào): G01N21/01;G01N21/25;G01N21/17
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司 31002
• 代理人: 鄧琪

1.一種用于高重頻自由電子激光的X射線光柵單色器，其安裝于一高能自由電子激光裝置中，其特征在于，包括沿一水平入射的入射光的光路的走向依次排布且位于同一水平面上的一光柵(1)、一第一反射鏡(2)、一第二反射鏡(3)和一第三反射鏡(4)，光柵(1)和第三反射鏡(4)位于所述入射光所在的第一光軸(I)上，且第一反射鏡(2)與第二反射鏡(3)的連線與所述入射光的入射方向(100)平行；所述入射光為高重頻自由電子激光，所述光柵(1)沿豎直方向(200)可切換位置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于高重頻自由電子激光的X射線光柵單色器，其特征在于，所述光柵(1)設(shè)有對(duì)應(yīng)的機(jī)械調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)(61)，光柵(1)的機(jī)械調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)(61)為光柵(1)的機(jī)械調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)(61)設(shè)置為對(duì)光柵進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)調(diào)節(jié)以使得入射到光柵(1)上的光在分光后打在第一反射鏡(2)上，并設(shè)置為對(duì)光柵(1)在豎直方向(200)上的位置進(jìn)行調(diào)節(jié)，使得光柵(1)沿豎直方向(200)可切換位置。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于高重頻自由電子激光的X射線光柵單色器，其特征在于，所述光柵(1)與一水冷系統(tǒng)(7)連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于高重頻自由電子激光的X射線光柵單色器，其特征在于，所述光柵(1)為柱面變線距光柵，其包括基底(11)、分別設(shè)于基底(11)的不同位置上的多層鍍膜(12)和刻蝕于鍍膜(12)上的光柵刻線(13)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于高重頻自由電子激光的X射線光柵單色器，其特征在于，所述鍍膜(12)的數(shù)量為雙層，不同層的鍍膜(12)的材料不同，所述鍍膜(12)的材料包括金、碳化硼、鉑和鎳中的至少兩種。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于高重頻自由電子激光的X射線光柵單色器，其特征在于，所述光柵刻線(13)的延伸方向?yàn)樨Q直方向(200)，且光柵刻線(13)的密度為2400線/毫米。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于高重頻自由電子激光的X射線光柵單色器，其特征在于，所述第二反射鏡(3)和第三反射鏡(4)之間設(shè)有一個(gè)調(diào)節(jié)方向平行于入射光的入射方向(100)的狹縫(5)，第一反射鏡(2)、狹縫(5)與第二反射鏡(3)位于同一直線上。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的用于高重頻自由電子激光的X射線光柵單色器，其特征在于，所述光柵(1)的表面在光柵的子午方向上聚焦，所述狹縫(5)處于所述光柵(1)在光柵的子午方向上的聚焦位置上，且狹縫(5)的寬度可調(diào)。