[發(fā)明專利]一種帶氧化物中間層的復合材料制備系統(tǒng)及方法

在審

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• 申請日: 2020-08-14
• 公開（公告）號: CN112144018A
• 公開（公告）日: 2020-12-29
• 發(fā)明（設計）人: 吳明忠;朱正錄;黃云輝;伽龍;焦鑫鵬
• 申請（專利權）人: 浙江長宇新材料有限公司
• 主分類號: C23C14/26
• 分類號: C23C14/26;C23C14/02;C23C14/08;C23C14/18
• 代理公司: 廈門原創(chuàng)專利事務所(普通合伙) 35101
• 代理人: 徐東峰

1.一種帶金屬氧化物中間層的復合材料制備系統(tǒng)，其特征在于，所述制備系統(tǒng)包括金屬氧化物真空蒸鍍設備和等離子處理設備，所述真空蒸鍍設備包括真空系統(tǒng)及蒸發(fā)系統(tǒng)，其中所述蒸發(fā)系統(tǒng)包括均勻排布的多個蒸發(fā)舟及加熱電極，所述蒸發(fā)舟放置在所述加熱電極上，所述加熱電極的上表面形狀與所述蒸發(fā)舟的底面形狀相同。

2.根據權利要求1所述的復合材料制備系統(tǒng)，其特征在于，所述蒸發(fā)舟為長方體形狀，所述電極的上表面為長方形。

3.根據權利要求2所述的復合材料制備系統(tǒng)，其特征在于，所述蒸發(fā)舟的寬度為25-50mm，長度為100-150mm。

4.根據權利要求1所述的復合材料制備系統(tǒng)，其特征在于，所述電極的長度為20-150mm，寬度為20-60mm。

5.根據權利要求1所述的復合材料制備系統(tǒng)，其特征在于，所述多個蒸發(fā)舟豎向均勻排列，所述蒸發(fā)舟之間的間距為40-100mm。

6.一種使用權利要求1-5任一項所述的復合材料制備系統(tǒng)制備復合材料的方法，所述方法包括以下步驟：

1)對鍍膜設備進行清理，清理結束后對設備腔體進行抽真空到一定的真空條件；

2)將高分子薄膜基材進行等離子處理，去除表面的析出物和污染物；

3)真空蒸鍍氧化物薄膜；

4)在上述鍍有氧化物薄膜層的基體上制備金屬層。

7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述步驟2)中采用氧氣與氬氣混合氣體對高分子薄膜基材表面進行等離子處理。

8.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述步驟3)的蒸鍍工藝參數范圍為：沉積電壓范圍：4-10V；沉積氧分壓范圍：1000-12000sccm；送絲量范圍：60-350mm/min；真空范圍：8×10^-4--5×10^-2mba；膜運轉速度：3-10m/s；透光率范圍：80％-90％。

9.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述步驟3)包括以下步驟：

a，鍍前準備，在高真空下通過等離子處理基材，使基材表面吸附的雜質脫附，經真空泵抽氣排出真空室，隨后，進行金屬膜料的預熔，預熔時用擋板遮蓋住蒸發(fā)源，預熔結束后，移開擋板進行蒸鍍；

b，蒸鍍；

c，取件，膜層厚度達到要求以后，用擋板蓋住蒸發(fā)源并停止加熱。

10.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述氧化物中間層采用的材料為氧化鉻、氧化鎂、氧化銅、氧化鐵、氧化鈦、氧化鋁、氧化銀中的一種或兩種種以上的混合物。